用以化学吸附氢化物气体的洁净剂及净化有害气体的方法.pdf

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摘要
申请专利号:

CN03147878.6

申请日:

2003.06.27

公开号:

CN1565706A

公开日:

2005.01.19

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情:

授权|||实质审查的生效|||公开

IPC分类号:

B01D53/04; B01J20/08

主分类号:

B01D53/04; B01J20/08

申请人:

财团法人工业技术研究院;

发明人:

许荣男; 李寿南; 李秋煌; 黄建良; 姚品全

地址:

台湾省新竹县竹东镇中兴路四段195号

优先权:

专利代理机构:

上海智信专利代理有限公司

代理人:

李柏

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内容摘要

本发明是关于一种用以化学吸附氢化物气体的洁净剂,尤其有关一种具有以二氧化钛作为载体的用于化学吸附氢化物气体的洁净剂。该洁净剂为以共沉淀法制作,具有BET法比表面积至少为60m2/g。本发明的一典型洁净剂包含20至65重量%的作为活性成分的氧化铜及氧化锌,及作为载体的20至65重量%的二氧化钛和15至60重量%的三氧化二铝。本发明洁净剂可在常温下通过化学吸附去除半导体厂及光电厂制程废气中的有害氢化物成分(如硅烷、四氢化锗、二硼烷、磷化氢与砷化氢)。

权利要求书

1.一种用以化学吸附氢化物气体的洁净剂,该氢化物气体选自硅烷、四氢化
锗、二硼烷、磷化氢与砷化氢所组成的族群,该洁净剂包含至少一员选自铜、锌、
镁及锰的氧化物所组成的族群的活性成份,及至少一员选自铝、硅及钛的氧化物
所组成的族群的载体成份,其中该活性成份占洁净剂的重量百分比例为10~90%,
及其余为该载体成份,其特征是该载体成份包含二氧化钛。
2.如权利要求1所述的洁净剂,其中该洁净剂具有介于60至200m2/g的比
表面积。
3.如权利要求1或2所述的洁净剂,其中该洁净剂包含20至80重量%的二
氧化钛及20至80重量%的该活性成份。
4.如权利要求1或2所述的洁净剂,其中该洁净剂包含20至65重量%的二
氧化钛,20至65重量%的该活性成份,及15至60重量%的三氧化二铝。
5.如权利要求4所述的洁净剂,其中该活性成份包含氧化铜及氧化锌,其中
氧化铜对氧化锌的重量比介于1∶20至20∶1。
6.如权利要求5所述的洁净剂,其中氧化铜对氧化锌的重量比为2∶1。
7.如权利要求4所述的洁净剂,其是通过包含下列步骤的方法而加予制备:
将具有比表面积介于55~300m2/g的中孔洞二氧化钛粒子浸于一溶解有铜离子、
锌离子及铝离子的溶液中,加入一沉淀剂至该溶液中将铜离子、锌离子及铝离子
以氢氧化物形式共沉淀于该二氧化钛粒子,从该溶液中固液分离出该二氧化钛粒
子,及煅烧该二氧化钛粒子。
8.一种通过化学吸附净化有害气体的方法该有害气体含至少一员选自硅烷、
四氢化锗、二硼烷、磷化氢与砷化氢所组成的族群的氢化物气体,包含使有害气
体接触一洁净剂,该洁净剂包含至少一员选自铜、锌、镁及锰的氧化物所组成的
族群的活性成份,及至少一员选自铝、硅及钛的氧化物所组成的族群的载体成份,
其中该活性成份占洁净剂的重量百分比例为10~90%,及其余为该载体成份,其特
征在于该载体成份包含二氧化钛。
9.如权利要求8所述的方法,其中该洁净剂具有介于60至200m2/g的比表
面积。
10.如权利要求8或9所述的方法,其中该洁净剂包含20至80重量%的二氧
化钛及20至80重量%的该活性成份。
11.如权利要求8或9所述的方法,其中该洁净剂包含20至65重量%的二氧
化钛,20至65重量%的该活性成份,及15至60重量%的三氧化二铝。
12.如权利要求11所述的方法,其中该活性成份包含氧化铜及氧化锌,其中
氧化铜对氧化锌的重量比介于1∶20至20∶1。
13.如权利要求12所述的方法,其中氧化铜对氧化锌的重量比为2∶1。

说明书

用以化学吸附氢化物气体的洁净剂及净化有害气体的方法

                            技术领域

本发明是关于一种用以化学吸附氢化物气体的洁净剂,尤其有关一种具有以
二氧化钛作为载体的用于化学吸附氢化物气体的洁净剂。该洁净剂适用于去除半
导体厂及光电厂制程废气中的毒性氢化物气体。

                            背景技术

氢化物(如AsH3、PH3、SiH4、GeH4)为半导体厂炉管、离子植入制程及光电厂MOCVD
制程大量使用的气体,而这些气体在制程中没有被完全利用,故会有毒性气体自
制程机器排出。这些毒性制程废气需加以处理,否则对厂内而言是安全的威胁,
对厂外则是空气污染的来源。一般制程尾气处理可分为湿式法、高温氧化法与干
式吸附法三大类。湿式加药洗涤法处理后的废液毒性依旧,而且废液体积庞大,
对工厂而言仍是一大负担。高温氧化法虽有不错的效果,但气体处理后产生大量
的毒性微粒(如As2O3)容易披覆在管线及高温腔中,造成机器失效,因此必须在厂
内对机器定期维修保养。维修时可能造成高毒性微粒逸散,对厂区及维修人员造
成危害,SEMI F5-1101已建议不使用此种处理方式。干式处理法使用洁净剂
(cleaning agents),利用化学吸附使AsH3、PH3、SiH4等气体分子与洁净剂作用,
生成非挥发性化合物,使制程尾气不再含有毒性气体。就操作方式、处理效率、
制程安全及清洁性各方面而言,干式处理法明显优于上述二类处理方式。美国专
利编号US5,024,823中揭示一种固体吸附剂,可用于AsH3、PH3、B2H6、GeH4及SiH4
的吸附处理,该专利是以一般触媒载体(carrier)含浸硫酸铜,加热至180℃以上
使成无水硫酸铜或仅含单一结晶水。此法制备的吸附剂处理容量不佳,为了改进
吸附剂的处理容量。美国专利编号US5,182,088揭示以常用铜、锌氧化物为活性
成分,再添加AgO、HgO等促进剂,以共沉淀法制备的化学吸附剂。化学吸附剂具
有显著提升的吸附容量,但由于需添加贵金属(AgO)或高污染性重金属(HgO、CdO)
等促进剂,势必增加制作成本与日后废料的处理费用。

                        发明内容

本发明的一主要目的在于提供一种具高吸附容量的用于化学吸附
(chemisorption)氢化物气体的洁净剂,其不需要添加贵金属(AgO)或高污染性重
金属(HgO、CdO)等促进剂。

本发明的另一目的在于提供一种具高吸附容量的用以化学吸附
(chemisorption)氢化物气体的洁净剂,其使用较低重量百分比的活性成分。

为了实现上述本发明目的,本案率先使用高比面积的中孔洞二氧化钛作为洁
净剂的一部份载体,二氧化钛除了具耐酸的性质外,其高比面积有助于降低该洁
净剂内所含的活性成分的重量百分比,同时仍能达到比已知的Cu-ZnO/Al2O3洁净剂
更高的吸附容量。

实施方式

本发明提供一种用于化学吸附(chemisorption)氢化物气体的洁净剂,该氢化
物气体选自硅烷、二硼烷、磷化氢、砷化氢与四氢化锗所组成的族群,该洁净剂
包含至少一员选自铜、锌、镁及锰的氧化物所组成的族群的活性成份,及至少一
员选自铝、硅及钛的氧化物所组成的族群的载体成份,其中该活性成份占洁净剂
的重量百分比例为10~90%,及其余为该载体成份,其特征在于该载体成份包含二
氧化钛。

本发明洁净剂的活性成份与载体成份的比例需在一定范围内,当活性成份太
低时,无法达到具竞争力的吸附容量;当载体成份太低时,将会降低比表面积,
相对的也减少其吸附容量。

较佳的,本发明洁净剂具有介于60至200m2/g的比表面积。

较佳的,本发明洁净剂包含20至80重量%的二氧化钛及20至80重量%的该
活性成份。更佳的,该洁净剂包含20至65重量%的二氧化钛,20至65重量%的该
活性成份,及15至60重量%的三氧化二铝。

较佳的,本发明洁净剂的活性成份包含氧化铜及氧化锌,其中氧化铜对氧化
锌的重量比介于1∶20至20∶1。以氧化铜对氧化锌的重量比为约2∶1为更佳。

一适合用于制备本发明洁净剂的方法包含下列步骤:将具有比表面积介于
55~300m2/g的中孔洞(mesoporous)二氧化钛粒子浸于一溶解有铜离子、锌离子及
铝离子的溶液中,加入一沉淀剂至该溶液中将铜离子、锌离子及铝离子以氢氧化
物形式共沉淀于该二氧化钛粒子,从该溶液中固液分离出该二氧化钛粒子,及煅
烧该二氧化钛粒子。

本发明的中孔洞(mesoporous)二氧化钛可使用溶胶凝胶法(Sol-gel)制备或
是采用一商业上街获得产品,例如日本Ishihara Sangyo Kaisha,LTD.,编号ST-01
的光触媒二氧化钛。

本发明亦揭示一种通过化学吸附净化有害气体的方法,该有害气体含至少一
员选自硅烷、四氢化锗、二硼烷、磷化氢与砷化氢与所组成的族群的氢化物气体,
包含使有害气体接触上述本发明的洁净剂。

以下实施例进一步说明本发明,熟习此项技艺者可由之更清楚知悉本发明的
实施。但这些实施例不应被视为对本发明范围的限制。

                        具体实施方式

比较例1

称取18.55克Cu(NO3)2.2.5H2O溶于1018ml蒸馏水中,11.15克Zn(NO3)2.6H2O
溶于479ml蒸馏水中,及276.4克Al2(NO3)3.9H2O溶于262ml蒸馏水中,
将上述三种水溶液混合后,以1M的Na2CO3水溶液滴定至pH=6.8~7.0后,在80
℃搅拌12小时,然后过滤,并以去离子水清洗3次,再过滤后所得的沉淀物在120
℃烘干16小时,再以550℃锻烧6小时,合成的吸附剂重量组成比为CuO∶ZnO∶
Al2O3=13.5∶6.5∶80。所得金属氧化物粉末以200kg/cm2加压造粒,再破碎筛
选20~40网目(mesh)颗粒作为洁净剂,经测试洁净剂的BET比表面积为114m2/g。
净化剂吸附容量测试

由US5,182,088得知,硅烷(SiH4)为氢化物气体中被吸附量较小者,故本发
明的实施例及比较例皆以硅烷为测试气体。

测试时以制备好的洁净剂30ml充填于内径27毫米的不锈钢测试腔中,充填
长度相当于52毫米。测试腔及系统管路先通以氮气半小时后,再以每分钟0.25
标准公升的流量通入以氮气稀释为6600ppm的硅烷,直至测试腔的出口端的硅烷
浓度超过5ppm的临限值。所通入的硅烷量即为洁净剂吸附容量。气体流量以质
量流量控制计(Mass Flow Controller)控制。测试腔的出口端气体浓度则以FTIR
进行连续监测。测试结果如表一所示。

实施例1

重复比较例1的步骤以制备洁净剂,但以18.55g Cu(NO3)2.2.5H2O溶于565ml
蒸馏水中、11.15克Zn(NO3)2.6H2O溶于266ml蒸馏水、103.65克Al(NO3)3.9H2O
溶于268ml蒸馏水中作为起始溶液,且在调整pH值之前,先将11.75克高表面积
(161m2/g)的中孔洞二氧化钛(一次粒径为5-10nm)置入沉淀池中。该中孔洞二氧
化钛是采用溶胶凝胶法(Sol-gel)自行制备。本实施例所合成的吸附剂重量组成比
为CuO∶ZnO∶Al2O3∶TiO2=13.5∶6.5∶30∶50。所制得的洁净剂经BET法
分析比表面积为75.6m2/g,以比较例1相同的测试条件进行洁净剂吸附容量测试,
测试结果如表一所示。

实施例2

重复实施例1的步骤以制备洁净剂,但合成的吸附剂重量组成比为CuO∶ZnO∶
Al2O3∶TiO2=21.6∶10.4∶48∶20。所制得的洁净剂经BET法分析比表面积为
120m2/g。以比较例1相同的测试条件进行洁净剂吸附容量测试,测试结果如表一
所示。

                                    表一

活性成份(CuO+ZnO)

所占重量百分比
    (%)
 TiO2所占重

  量百分比
    (%)

洁净剂比表面积
    (m2/g)


    吸附容量
(公升/每公升洁净剂)

  实施例1
    20
    50
    76
     19.8
  实施例2
    32
    20
    120
     20.4
  比较例1
    20
    0
    114
     7.2

表一结果显示,加入高比表面积的二氧化鈦的本发明实施例1的洁净剂比含
相同百分比活性成分的已知洁净剂具有2倍以上的吸附容量。本发明实施例2的
洁净剂亦具有类同于实施例1的洁净剂的吸附容量。

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本发明是关于一种用以化学吸附氢化物气体的洁净剂,尤其有关一种具有以二氧化钛作为载体的用于化学吸附氢化物气体的洁净剂。该洁净剂为以共沉淀法制作,具有BET法比表面积至少为60m2/g。本发明的一典型洁净剂包含20至65重量的作为活性成分的氧化铜及氧化锌,及作为载体的20至65重量的二氧化钛和15至60重量的三氧化二铝。本发明洁净剂可在常温下通过化学吸附去除半导体厂及光电厂制程废气中的有害氢化物成分(。

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