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1、(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202180059176.2(22)申请日 2021.07.26(30)优先权数据20187880.8 2020.07.27 EP(85)PCT国际申请进入国家阶段日2023.01.20(86)PCT国际申请的申请数据PCT/EP2021/070822 2021.07.26(87)PCT国际申请的公布数据WO2022/023246 EN 2022.02.03(71)申请人 巴斯夫欧洲公司地址 德国莱茵河畔路德维希港(72)发明人 G欧波特S恩格斯JP乔希(74)专利代理机构 北京北翔知识产权代理有。
2、限公司 11285专利代理师 潘飞郑建晖(51)Int.Cl.C01B 32/80(2006.01)(54)发明名称光气生产单元(57)摘要一种用于生产和加工光气的单元，所述单元被配置为有至少一个维护模式和至少一个生产模式，并且包括在生产模式中限定密闭空间的结构，所述密闭空间被分为至少两个子空间，其中(i)至少一个子空间，包含至少一个用于生产光气的设备；(ii)除根据(i)的至少一个子空间之外的至少一个子空间，包含至少一个用于加工光气的设备；(iii)所述结构包括至少一个可打开并且可锁定的访问装置，用于在维护模式下从结构外部临时访问根据(i)或根据(ii)的设备中的至少一个。权利要求书2页 说。
3、明书14页 附图14页CN 116157357 A2023.05.23CN 116157357 A1.一种用于生产和加工光气的单元，所述单元被配置为有至少一个维护模式和至少一个生产模式，并且包括一个在所述生产模式中限定密闭空间的结构，所述密闭空间被分为至少两个子空间，其中(i)至少一个子空间，包含至少一个用于生产光气的设备；(ii)除根据(i)的至少一个子空间之外的至少一个子空间，包含至少一个用于加工光气的设备；(iii)所述结构包括至少一个可打开并且可锁定的访问装置，用于在维护模式下从所述结构的外部临时访问根据(i)或根据(ii)的设备中的至少一个。2.根据权利要求1所述的单元，包括光气管线。
4、，该光气管线连接根据(i)的用于生产光气的设备和根据(ii)的用于加工光气的设备，使得所述设备彼此流体连通，其中所述光气管线完全地位于所述密闭空间内。3.根据权利要求1或2中任意一项所述的单元，包括至少两个根据(i)的子空间，优选地二至六个根据(i)的子空间，更优选地二至四个根据(i)的子空间；和/或至少两个根据(ii)的子空间，优选地二至六个根据(ii)的子空间，更优选地二至四个根据(ii)的子空间。4.根据权利要求1至3中任意一项所述的单元，其中所述结构包括联合外罩，根据(i)的至少一个子空间和根据(ii)的至少一个子空间位于所述联合外罩内。5.根据权利要求4所述的单元，其中相邻的子空间通。
5、过内部分隔装置彼此分隔。6.根据权利要求5所述的单元，其中所述内部分隔装置包括至少一个内部可打开并且可锁定的访问装置，用于从至少一个其他的子空间临时访问至少一个子空间。7.根据权利要求5或6中任意一项所述的单元，其中所述内部分隔装置包括至少一个内壁，所述内壁可移除地连接至所述联合外罩。8.根据权利要求4至7中任意一项所述的单元，其中所述联合外罩包括：(iv)至少一个可打开并且可锁定的访问装置，用于临时访问根据(i)的至少一个子空间；和/或(v)至少一个可打开并且可锁定的访问装置，用于临时访问根据(ii)的至少一个子空间。9.根据权利要求8所述的单元，其中根据(iv)或(v)的可打开并且可锁定的。
6、访问装置中的至少一个被配置为可打开并且可锁定的传送装置，从而在维护模式下，通过处于打开状态的至少一个传送装置来临时移除根据(i)的至少一个用于生产光气的设备的至少一部分，或临时移除根据(ii)的至少一个用于加工光气的设备的至少一部分。10.根据权利要求1至9中任意一项所述的单元，其中所述结构包括：(vi)至少一个外罩，其中根据(i)的至少一个子空间位于所述至少一个外罩中，以及(vii)除了根据(vi)的外罩之外的至少一个外罩，其中根据(ii)的至少一个子空间位于此至少一个外罩中。11.根据权利要求10所述的单元，其中根据(vi)的外罩中的至少一个和/或根据(vii)的外罩中的至少一个缺少底板，。
7、并且被设计成能够被移动，优选地能够被抬起。权利要求书1/2 页2CN 116157357 A212.根据权利要求9至11中任意一项所述的单元，其中根据(vi)的外罩中的至少一个或根据(vii)的外罩中的至少一个构成了如权利要求4至8中任意一项所限定的联合外罩。13.根据权利要求1至12中任意一项所述的单元，所述单元被包括在生产厂中，优选地包括在用于生产异氰酸酯的生产厂中，更优选地包括在用于生产甲苯二异氰酸酯的生产厂中，更优选地包括在用于生产2，4甲苯二异氰酸酯的生产厂中。14.一种生产厂，优选地一种用于生产异氰酸酯的生产厂，更优选地一种用于生产二异氰酸酯的生产厂，更优选地一种用于生产甲苯二异氰。
8、酸酯的生产厂，更优选地一种用于生产2，4甲苯二异氰酸酯和2，6甲苯二异氰酸酯中的一种或多种的生产厂，所述生产厂包括根据权利要求1至13中任意一项所述的单元。15.根据权利要求1至13中任意一项所述的单元在生产厂中的使用，优选地在用于生产异氰酸酯的生产厂中的使用，更优选地在用于生产二异氰酸酯的生产厂中的使用，更优选地在用于生产甲苯二异氰酸酯的生产厂中的使用，更优选地在用于生产2，4甲苯二异氰酸酯和2，6甲苯二异氰酸酯中的一种或多种的生产厂中的使用。权利要求书2/2 页3CN 116157357 A3光气生产单元0001本发明涉及一种用于生产和加工光气的单元，所述单元被配置为有至少一个维护模式和至。
9、少一个生产模式，并且包括在生产模式中限定密闭空间的结构，本发明涉及包括这种单元的生产厂，以及这种单元在生产厂中的用途。0002光气是化学工业中的一种重要中间体。例如，生产异氰酸酯需要光气。在常用工艺中，光气由一氧化碳和氯气在放热反应中生成。由于光气是一种剧毒物质，因此必须采取安全措施，进而在含有光气的设备或管道有故障或泄漏的情况下，防止光气进入环境。0003在已知的安全概念中，用于生产和加工光气的生产单元包括一种在生产模式中限定密闭空间的结构。这个密闭空间包含至少一个用于生产光气的设备以及至少一个用于加工光气的设备。这意味着光气的生产和加工在同一个结构的密闭空间中进行，使得光气在其“整个生命周。
10、期”都被密闭在这个结构中。当然，由于必须能够访问所述结构内部的设备，所述结构必须包括至少一个可打开并且可锁定的访问装置，以便在维护模式下从所述结构的外侧临时访问至少一个设备。在有泄漏的情况下，必须完全地停止光气的生产和加工，在所述密闭空间内的所有设备必须被冲洗去除光气，并且在打开所述访问装置之前，整个密闭空间必须排空光气。在定期维护的情况下，密闭空间内的所有设备都必须在打开所述访问装置之前被冲洗去除光气。因此，即使仅有单个设备受到泄漏影响或需要维护，需要处理的光气量仍相对较大。0004因此，本发明的目的是提供一种改进的光气生产和加工单元，所述光气生产和加工单元在泄漏情况或维护情况下能够实现更有。
11、效地处理。0005根据本发明，所述密闭空间被分为至少两个子空间，其中一个包含至少一个用于生产光气的设备，一个包含至少一个用于加工光气的设备。这样就可以从仅一个子空间和/或包含在这个子空间中的一个或多个设备排空光气，而包含在另一个子空间中的一个/多个设备则不需要清空光气。这就减少了在有泄漏情况下和在有维护工作情况下需要从所述单元中移除的光气的量。为了能够进行维护工作，所述结构必须包括至少一个可打开并且可锁定的访问装置，以便在维护模式下临时访问设备中的至少一个。0006因此，本发明涉及一种用于生产和加工光气的单元，所述单元被配置为有至少一个维护模式和至少一个生产模式，并且包括一个在生产模式下限定密。
12、闭空间的结构，所述密闭空间被分为至少两个子空间，其中0007(i)至少一个子空间，包含至少一个用于生产光气的设备；0008(ii)除根据(i)的至少一个子空间之外的至少一个子空间，包含至少一个用于加工光气的设备；0009(iii)所述结构包括至少一个可打开并且可锁定的访问装置，用于在维护模式下从所述结构外部临时访问根据(i)或根据(ii)的设备中的至少一个。0010优选地，所述单元表现出至少一个维护模式，其中根据(iii)的至少一个访问装置被打开，并且从所述结构的外部提供对根据(i)的至少一个子空间所包括的用于生产光气的设备的访问，并且其中根据(ii)的至少一个子空间处于密闭状态。在这个维护模。
13、式中，用于生产光气的设备可以得到维护，而用于加工光气的设备则可以保持在包含光气的状态说明书1/14 页4CN 116157357 A4下。因此，需要从所述单元中移除的光气的量减少。0011替代地或附加地，所述单元表现出至少一个维护模式，其中根据(iii)的至少一个访问装置被打开，并且提供对根据(ii)的子空间所包括的用于加工光气的设备的访问，并且其中根据(i)的至少一个子空间处于密闭状态。在这个维护模式下，用于加工光气的设备可以得到维护，而用于生产光气的设备则可以保持在包含光气的状态下。因此，需要从所述单元中移除的光气的量减少。0012在某些情况下，同时在根据(i)的至少一个用于生产光气的设备。
14、上和根据(ii)的用于加工光气的设备上执行维护工作。因此，优选的是，所述单元表现出至少一个维护模式，其中根据(iii)的至少一个访问装置被打开，并且提供对根据(i)的子空间所包括的用于生产光气的设备和根据(ii)的子空间所包括的用于加工光气的设备的访问。0013通常，所述单元包括光气管线，连接根据(i)的用于生产光气的设备和根据(ii)的用于加工光气的设备，使得所述设备彼此流体连通。0014为了防止从光气管线泄漏出的光气到达环境，优选的是，这个光气管线完全地位于所述密闭空间内。0015为了在用于生产光气的设备和用于加工光气的设备之间提供切断光气流的可能性，优选的是，所述光气管线包括至少一个关闭。
15、阀，其中更优选的是，所述光气管线包括用于根据(i)的用于生产光气的设备的第一关闭阀，和用于根据(ii)的用于加工光气的设备的，除所述第一关闭阀之外的，第二关闭阀。0016如果光气管线包括至少一个分支点从而形成光气网络，即如果所述光气网络连接有至少两个根据(i)的用于生产光气的设备以及至少一个根据(ii)的用于加工光气的设备时，或者连接有至少一个根据(i)的用于生产光气的设备以及至少两个根据(ii)的用于加工光气的设备时，特别是如果所述单元中包括的所有根据(i)的用于生产光气的设备，以及所述单元中包括的所有根据(ii)的用于加工光气的设备都连接到所述光气网络时，可以实现额外的好处。通过这种光气网。
16、络，在至少一个设备停止使用并且可能被维护时，特别是在如果所述密闭空间包括至少两个根据(i)的子空间和/或至少两个根据(ii)的子空间时，在许多情况下仍可以(以降低的产能)持续生产。0017为了充分地利用光气网络的潜能，优选的是，所述光气网络包括用于每个根据(i)的子空间的关闭阀，和用于每个根据(ii)的子空间的关闭阀。0018通常，所述单元包括冲洗装置，用于将光气从根据(i)或(ii)的设备中的至少一个冲出，所述冲洗装置优选地被设计成额外地将光气从光气管线的至少一部分冲出，或者从光气网络(如果存在的话)的至少一部分冲出。0019由于根据本发明的单元的优点之一是所述单元可以部分地清空光气，因此冲。
17、洗装置优选地包括用于根据(i)的用于生产光气的设备的第一冲洗子装置，和用于根据(ii)的用于加工光气的设备的，除所述第一冲洗子装置之外的，第二冲洗子装置，特别是用于每个根据(i)和(ii)的子空间的子装置。0020通常，所述单元包括带有吸入端的排气装置，所述吸入端位于所述密闭空间内。这种排气装置常常用于在密闭空间内产生轻微负压，并且在有泄漏时从密闭空间去除光气。0021由于通常仅从一个子空间排空光气就足够了，因此优选的是，排气装置包括位于根据(i)的子空间内的第一吸入端，以及位于根据(ii)的子空间内的，除所述第一吸入端之说明书2/14 页5CN 116157357 A5外的，第二吸入端。在这。
18、种情况下，所述排气装置被设计成彼此独立地对根据(i)的子空间和根据(ii)的子空间排气。0022如果排气装置在每个根据(i)和(ii)的子空间中包括吸入端，则本发明单元的优点就可以得到充分的利用。0023通常，所述单元包括一氧化碳(CO)供应管线和氯气(Cl2)供应管线，用于向根据(i)的用于生产光气的设备供应CO和Cl2。0024由于CO和Cl2反应产生光气是放热的，所述单元通常包括冷却液供应管线和冷却液返回管线，用于以冷却液冷却根据(i)的用于生产光气的设备。0025可优选的是，根据(i)或(ii)的子空间中的至少一个包含光气缓冲设备。所述光气缓冲设备有助于保持生产，即使在根据(i)的用于。
19、生产光气的设备(例如，因为维护工作)不工作的情况下。0026当然，本发明的概念并不局限于只包括两个根据(i)的子空间的单元，其可以包括至少两个根据(i)的子空间，优选地二至六个根据(i)的子空间，更优选地二至四个根据(i)的子空间。0027同样，本发明的概念并不局限于只包括两个根据(ii)的子空间的单元，其可以包括至少两个根据(ii)的子空间，优选地二至六个根据(ii)的子空间，更优选地二至四个根据(ii)的子空间。0028设置多于一个根据(i)的子空间和/或多于一个根据(ii)的子空间增强了所述单元的灵活性，特别是在光气管线呈光气网络的形式时。0029第一种类型的发明单元，其中所述结构包括联。
20、合外罩，其中至少两个子空间位于所述联合外罩中0030在所述第一种类型的发明单元中，所述结构包括联合外罩，根据(i)的至少一个子空间和根据(ii)的至少一个子空间位于所述联合外罩内。相邻的子空间通过内部分隔装置彼此分隔。0031在某些情况下会很实用的是，维护人员能够从一个子空间直接地移动到相邻的子空间而不需要离开所述结构。因此，可优选的是，所述内部分隔装置包括至少一个内部可打开并且可锁定的访问装置，用于从至少一个其他子空间临时访问至少一个子空间。0032所述内部分隔装置常常会呈至少一个内壁的形式，或者包括至少一个内壁。0033如上文所述，能够从相邻的子空间访问的子空间是有用的。因此，可优选的是，。
21、所述内壁包括开口，并且所述单元还包括用于所述开口的至少一个关闭元件，其中所述开口和所述至少一个关闭元件共同形成了内部可打开并且可锁定的访问装置。为了允许人通过，所述开口必须足够大，因此其应具有至少0.5m2的截面积。优选地，所述开口具有至少1m2的截面积。设置更大的开口常常会是有用的，特别是开口截面积在2m2至10m2的范围内，优选地在3m2至8m2的范围内，更优选地在4m2至6m2的范围内，更优选地在4.5m2至5.5m2的范围内(诸如，约为5m2)。0034这个至少一个关闭元件可以例如是(或者包括)枢转门、滑动门或面板，其中所述面板被设计成能够至少部分地、优选完全地从所述内壁移除。0035。
22、如果具有联合外壁的所述单元是为一个特殊用途而设计的，则可优选的是，至少一个内壁与联合外罩永久地连接，因为在这种情况下至少一个内壁能够例如被管线(例如，说明书3/14 页6CN 116157357 A6光气管线)所穿透，并且所述至少一个内壁能够被用于以永久的方式附接各种部件，如电缆、灯等。0036相反，如果期望更灵活地使用所述单元，则可优选的是，至少一个内壁与联合外罩可移除但气密地连接。因此，密闭空间能够被单独地分隔成至少两个子空间。0037在一个几何设置中，至少一个子空间位于至少一个其他子空间的侧方，在另一个几何设置中，至少一个子空间位于至少一个其他子空间的上方。0038如上文所述，常常优选的。
23、是，当单元处于维护模式时，根据(i)的子空间和根据(ii)的子空间能够从外侧被独立地访问，使得不需要被访问的子空间和不需要被访问的位于子空间中设备不需要去除光气。因此，常常优选的是，联合外罩包括：0039(iv)至少一个可打开并且可锁定的访问装置，用于临时访问根据(i)的至少一个子空间；和0040(v)除了根据(iv)的至少一个外部可打开并且可锁定的访问装置之外的至少一个可打开并且可锁定的访问装置，用于临时访问根据(ii)的至少一个子空间。0041在其他情况下，因为例如设置一个内部可打开并且可锁定的访问装置，只有一个子空间能够从外侧被直接地访问就足够了。在这种情况下，可优选的是，设置：0042。
24、(iv)至少一个可打开并且可锁定的访问装置，用于临时访问根据(i)的至少一个子空间；或0043(v)至少一个可打开并且可锁定的访问装置，用于临时访问根据(ii)的至少一个子空间。0044如果能够经由根据(iii)的可打开并且可锁定的访问装置访问的设备比其他设备需要更频繁地维护，则可以是一种优选的设置。0045由于例如空间非常有限，维护人员常常难以在所述结构内工作。因此，可优选的是，根据(iv)或(v)的至少一个可打开并且可锁定的访问装置被配置为可打开并且可锁定的传送装置，从而在维护模式下，通过处于打开状态的至少一个所述传送装置，来临时移除根据(i)的至少一个用于生产光气的设备的至少一部分，或临。
25、时移除根据(ii)的至少一个用于加工光气的设备的至少一部分。这意味着至少一个设备或其一部分能够被部分地或完全地从结构中移出，使得其能够被更容易地维护。0046所述至少一个外部可打开并且可锁定的访问装置常常包括一个位于联合外罩中的开口以及至少一个用于关闭所述开口的关闭装置。这个至少一个关闭元件可以例如包括(或者优选地是)枢转门、滑动门、或面板，其中所述面板被设计成能够至少部分地、优选完全地移除。为了允许人通过，所述开口必须足够大，因此其应具有至少0.5m2的截面积。优选地，所述开口具有至少1m2的截面积。设置更大的开口常常会是有用的，特别是开口的截面积在2m2至10m2的范围内，优选地在3m2至。
26、8m2的范围内，更优选地在4m2至6m2的范围内，更优选地在4.5m2至5.5m2的范围内(诸如，为约5m2)。0047为了允许根据(i)的设备，或者根据(ii)的设备，或者上述设备的一部分通过，所述可打开并且可锁定的传送装置的开口必须足够大，因此其应具有常常大于根据(iii)的可打开并且可锁定的访问装置的截面积的足够大的截面积。优选地，所述可打开并且可锁定的传送装置所具有的开口的截面积在1m2至50m2的范围内，更优选地在2m2至40m2的范围内，更优选地在5m2至30m2的范围内，更优选在10m2至25m2的范围内。特别是在所述可打开并说明书4/14 页7CN 116157357 A7且可。
27、锁定的传送装置的开口具有至少10m2的截面积的情况下，尤其是在超过10m2的情况下，使用多于一个的面板来关闭这个开口可能是有用的。0048为了便于访问密闭空间内的许多不同地方，联合外罩的至少一部分可以呈骨架的形式，多个可移除面板被可移除地附接至所述骨架，所述可移除面板形成至少一个关闭元件。0049对于某些应用来说会很有用的是，所述结构还包括在联合外罩外侧的至少一个气闸室。在这种情况下，如果使维护人员穿上全套防护服，就可以避免对位于待访问子腔室中的设备冲洗。在只需要执行小型维护工作或只需要检查的情况下，这可以节省时间。0050除了根据(i)和(ii)的子空间之外，联合外罩还可以容纳至少一个供应子。
28、空间，其中光气管线的至少一部分位于所述供应子空间中。这样做是有利的，特别是在所述光气管线是光气网络的情况下，和/或在所述单元包括至少一个可移除内壁的情况下。如果存在这样的供应子空间，则该供应子空间优选地位于根据(i)和(ii)的子空间的下方或上方。在某些情况下，其也可以位于根据(i)和(ii)的子腔室的侧面。0051如果联合罩容纳有这种供应子空间，则所述单元通常包括至少一个中间分隔装置，将至少一个供应子空间与根据(i)和(ii)的子空间分隔开。这个中间分隔装置通常是至少一个中间顶板、和/或至少一个中间侧壁、和/或至少一个中间底板。0052联合外罩通常位于基座上。所述联合外罩可以具有它自己的底板。
29、，这样所述基座则不构成结构的一部分。但是所述外罩也可以缺少它自己的底板。在这种情况下，所述基座构成所述结构的一部分。0053第二种类型的发明单元，其中所述结构包括至少两个外罩0054由于根据本发明，密闭空间被分为至少两个子空间，不需要用联合外罩来包围所述两个子空间。因此，根据本发明单元的第二种类型，提供至少两个外罩，使得结构包括：0055(vi)至少一个外罩，其中根据(i)的至少一个子空间位于所述至少一个外罩中，以及0056(vii)除了根据(vi)的外罩之外的至少一个外罩，其中根据(ii)的至少一个子空间位于此至少一个外罩中。0057当然，在第二种类型的发明单元的情况下，应在维护模式下能够访。
30、问至少一个子空间。为了实现这一点，根据(vi)和(vii)的至少一个外罩中的至少一个可以包括至少一个开口，并且所述单元还包括用于关闭所述开口的至少一个关闭元件。0058如上文所述，所述至少一个开口可以被配置为在维护模式下，从结构中通过所述开口临时移除根据(i)的用于生产光气的至少一个设备的至少一部分，或者临时移除根据(ii)的用于加工光气的至少一个设备的至少一部分，以便方便维护过程。同样在这里，所述至少一个关闭元件可以包括(或者是)枢转门、滑动门、或面板，其中所述面板被设计成能够至少部分地、优选完全地移除。0059可以将至少一个外罩定位在至少一个其他外罩之上。在这种情况下，上部外罩可以缺少底板。
31、，并且被设计成能从至少一个下部外罩抬起，使得在生产模式中，位于上部外罩所容纳的子空间中的设备能够完全脱离其外罩，使所述设备在维护模式下能够被非常容易地访问。在这种情况下，所述上部外罩形成了可打开并且可锁定的访问装置。0060替代地，根据(vi)的外罩中的至少一个和根据(vii)的外罩中的至少一个位于联说明书5/14 页8CN 116157357 A8合基座上。在这种情况下，优选的是，光气管线的至少一部分位于所述联合基座内，其中所述联合基座的这个部分构成了结构的一部分。0061如上文所述，根据(vi)的外罩中的至少一个和/或根据(vii)的外罩中的至少一个可以缺少底板，并且被设计成能够从联合基座。
32、移除(优选地抬起)，以便在维护模式下容易地访问设备。0062根据(vi)的外罩中的至少一个或根据(vii)的外罩中的至少一个可以构成联合外罩，其包围至少两个子空间。在这种情况下，第一种类型的单元和第二种类型的单元是“混合”的。0063由于单元的结构在几何形状上多为长方体或包括长方体，因此所述结构中的开口大多基本上位于竖直面或水平面中。这既适用于第一种类型的发明，也适用于第二种类型的发明。0064根据本发明，用于生产和加工光气的单元特别地包括根据(i)的至少一个子空间(包含至少一个用于生产光气的设备)，以及除根据(i)的至少一个子空间之外的根据(ii)的至少一个子空间(包含至少一个用于加工光气的。
33、设备)。此外，所述单元被特别地配置为有至少一个维护模式和至少一个生产模式。在本发明的背景下，用于生产光气的设备可以处于生产模式或维护模式，其中在生产模式期间光气生产持续进行，而在维护模式期间光气生产停止进行。因此，在本发明的背景下优选的是，每个用于生产光气的设备处于生产模式或处于维护模式，其中在生产模式期间光气生产持续进行，而在维护模式期间光气生产停止进行。同样地，用于加工光气的设备可以处于生产模式或处于维护模式，其中在生产模式期间光气加工持续进行，而在维护模式期间光气加工停止进行。因此，在本发明的背景下优选的是，每个用于加工光气的设备处于生产模式或处于维护模式，其中在生产模式期间光气加工在持。
34、续进行，而在维护模式期间光气加工停止进行。0065根据本发明的单元常常包括在生产厂中，优选地包括在用于生产异氰酸酯的生产厂中，更优选地包括在用于生产二异氰酸酯的生产厂中，更优选地包括在用于生产甲苯二异氰酸酯的生产厂中，更优选地包括在用于生产2，4甲苯二异氰酸酯(TDI)和2，6甲苯二异氰酸酯中的一种或多种的生产厂中。如果生产包含2，4甲苯二异氰酸酯和2，6甲苯二异氰酸酯的混合物，则2，4甲苯二异氰酸酯相对于2，6甲苯二异氰酸酯的摩尔比优选地在1 1至6 1的范围内，更优选地在1 1至5 1的范围内，诸如在1 1至2 1的范围内(如1.5:1)，或诸如在3.5:1至4.5:1的范围内(如4:1)。
35、。此外，可以想象的是，所述二异氰酸酯包括(或是)二苯基异氰酸亚甲基酯(MDI)和/或六亚甲基二异氰酸酯(HDI)。0066通过后文所述的实施方案组以及由所示的附属和背景引用关系所产生的实施方案组合，本发明被进一步的说明。应特别注意的是，在提及的实施方案范围的每个实例中，例如在诸如“根据实施方案1至4中的任意一个所述的单元”的术语的背景中，这个范围内的每个实施方案对技术人员来说都被明确地公开了，即这个术语的措辞应被技术人员理解为与“根据实施方案1、2、3和4中的任意一个所述的单元”同义。此外，被明确地指出的是，后文所述的实施方案组代表了针对本发明优选方面一般描述的适当结构，因此仅作为适当支撑，而。
36、不代表本发明的权利要求。00671.一种用于生产和加工光气的单元，所述单元被配置为有至少一个维护模式和至少一个生产模式，并且包括一个在所述生产模式下限定密闭空间的结构，所述密闭空间被说明书6/14 页9CN 116157357 A9分为至少两个子空间，其中0068(i)至少一个子空间，包含至少一个用于生产光气的设备；0069(ii)除根据(i)的至少一个子空间之外的至少一个子空间，包含至少一个用于加工光气的设备；0070(iii)所述结构包括至少一个可打开并且可锁定的访问装置，用于在维护模式下从所述结构外部临时访问根据(i)或根据(ii)的设备中的至少一个。00712.根据实施方案1所述的单元。
37、，表现出至少一个维护模式，其中根据(iii)的至少一个访问装置被打开，并且从所述结构的外部提供对根据(i)的至少一个子空间所包括的用于生产光气的设备的访问，并且其中根据(ii)的至少一个子空间处于密闭状态。00723.根据实施方案1所述的单元，表现出至少一个维护模式，其中根据(iii)的至少一个访问装置被打开，并且提供对根据(ii)的子空间所包括的用于加工光气的设备的访问，并且其中根据(i)的至少一个子空间处于密闭状态。00734.根据实施方案1所述的单元，表现出至少一个维护模式，其中根据(iii)的至少一个访问装置被打开，并且提供对根据(i)的子空间所包括的用于生产光气的设备和根据(ii)的。
38、子空间所包括的用于加工光气的设备的访问。00745.根据实施方案1至4中任意一个所述的单元，包括光气管线，其连接根据(i)的用于生产光气的设备和根据(ii)的用于加工光气的设备，使得所述设备彼此流体连通。00756.根据实施方案5所述的单元，其中所述光气管线完全地位于所述密闭空间内。00767.根据实施方案5或6所述的单元，其中所述光气管线包括至少一个关闭阀。00778.根据实施方案7所述的单元，其中所述光气管线包括用于根据(i)的用于生产光气的设备的第一关闭阀，和用于根据(ii)的用于加工光气的设备的，除所述第一关闭阀之外的，第二关闭阀。00789.根据实施方案5至8中任意一个所述的单元，其。
39、中所述光气管线包括至少一个分支点从而形成光气网络，所述光气网络连接有至少两个根据(i)的用于生产光气的设备以及至少一个根据(ii)的用于加工光气的设备，或者连接有至少一个根据(i)的用于生产光气的设备以及至少两个根据(ii)的用于加工光气的设备。007910.根据实施方案9所述的单元，其中所述光气网络连接有所述单元中包括的所有根据(i)的用于生产光气的设备，和所述单元中包括的所有根据(ii)的用于加工光气的设备。008011.根据实施方案9或10所述的单元，其中所述光气网络包括用于每个根据(i)的子空间的关闭阀，和用于每个根据(ii)的子空间的关闭阀。008112.根据实施方案1至11中任意一。
40、个所述的单元，包括冲洗装置，用于将光气从根据(i)或(ii)的设备中的至少一个冲出。008213.根据实施方案12所述的单元，其中所述冲洗装置被设计成附加地将光气从如实施方案5至8中任意一个所限定的光气管线的至少一部分冲出，或者从如实施方案9至11中任意一个所限定的光气网络的至少一部分冲出。008314.根据实施方案13所述的单元，其中所述冲洗装置包括用于根据(i)的用于生产光气的设备的第一冲洗子装置，和用于根据(ii)的用于加工光气的设备的，除所述第一冲洗子装置之外的，第二冲洗子装置。说明书7/14 页10CN 116157357 A10008415.根据实施方案13或14所述的单元，其中所。
41、述冲洗装置包括用于每个根据(i)和(ii)的子空间的子装置。008516.根据实施方案1至15中任意一个所述的单元，包括带有吸入端的排气装置，所述吸入端位于所述密闭空间内。008617.根据实施方案16所述的单元，其中所述排气装置包括位于根据(i)的子空间内的第一吸入端，以及位于根据(ii)的子空间内的，除所述第一吸入端之外的，第二吸入端。008718.根据实施方案17所述的单元，其中所述排气装置被设计成彼此独立地对根据(i)的子空间和根据(ii)的子空间排气。008819.根据实施方案16至18中任意一个所述的单元，其中所述排气装置在每个根据(i)和(ii)的子空间中包括吸入端。008920。
42、.根据实施方案1至19中任意一个所述的单元，包括一氧化碳(CO)供应管线和氯气(Cl2)供应管线，用于向根据(i)的用于生产光气的设备供应CO和Cl2。009021.根据实施方案1至20中任意一个所述的单元，包括冷却液供应管线和冷却液返回管线，用于通过冷却液冷却根据(i)的用于生产光气的设备。009122.根据实施方案1至21中任意一个所述的单元，其中根据(i)或(ii)的子空间中的至少一个包含光气缓冲设备009223.根据实施方案1至22中任意一个所述的单元，包括至少两个根据(i)的子空间，优选地二至六个根据(i)的子空间，更优选地二至四个根据(i)的子空间。009324.根据实施方案1至2。
43、3中任意一个所述的单元，包括至少两个根据(ii)的子空间，优选地二至六个根据(ii)的子空间，更优选地二至四个根据(ii)的子空间。009425.根据实施方案1至24中任意一个所述的单元，其中所述结构包括联合外罩，根据(i)的至少一个子空间和根据(ii)的至少一个子空间位于所述联合外罩内。009526.根据实施方案25所述的单元，其中相邻的子空间通过内部分隔装置彼此分隔。009627.根据实施方案26所述的单元，其中所述内部分隔装置包括至少一个内部可打开并且可锁定的访问装置，用于从至少一个其他子空间临时访问至少一个子空间。009728.根据实施方案26或27中任意一个所述的单元，其中所述内部分。
44、隔装置包括至少一个内壁。009829.根据实施方案28所述的单元，其中所述至少一个内壁包括开口，所述单元还包括用于所述开口的至少一个关闭元件，所述开口和所述至少一个关闭元件共同形成了内部可打开并且可锁定的访问装置。009930.根据实施方案29所述的单元，其中所述至少一个关闭元件包括，优选地是枢转门、滑动门或面板，其中所述面板被设计成能够至少部分地、优选完全地从所述内壁移除。010031.根据实施方案28至30中任意一个所述的单元，其中所述至少一个内壁永久地连接至所述联合外罩。010132.根据实施方案28至31中任意一个所述的单元，其中所述至少一个内壁可移除地连接至所述联合外罩。010233。
45、.根据实施方案25至32中任意一个所述的单元，其中至少一个子空间位于至少一个其他子空间的侧面。010334.根据实施方案25至33中任意一个所述的单元，其中至少一个子空间位于至少说明书8/14 页11CN 116157357 A11一个其他子空间的顶部之上。010435.根据实施方案25至34中任意一个所述的单元，其中所述联合外罩包括0105(iv)至少一个可打开并且可锁定的访问装置，用于临时访问根据(i)的至少一个子空间；或0106(v)至少一个可打开并且可锁定的访问装置，用于临时访问根据(ii)的至少一个子空间。010736.根据实施方案25至34中任意一个所述的单元，其中所述联合外罩包括。
46、0108(iv)至少一个可打开并且可锁定的访问装置，用于临时访问根据(i)的至少一个子空间；和0109(v)除了根据(iv)的至少一个外部可打开并且可锁定的访问装置之外的至少一个可打开并且可锁定的访问装置，用于临时访问根据(ii)的至少一个子空间。011037.根据实施方案35或36所述的单元，其中根据(iv)或(v)的可打开并且可锁定的访问装置中的至少一个被配置为可打开并且可锁定的传送装置，从而在维护模式下，通过处于打开状态的至少一个所述传送装置，来临时移除根据(i)的至少一个用于生产光气的设备的至少一部分，或临时移除根据(ii)的至少一个用于加工光气的设备的至少一部分。011138.根据实。
47、施方案35至37中任意一个所述的单元，其中所述至少一个外部可打开并且可锁定的访问装置包括一个位于所述联合外罩中的开口以及至少一个用于关闭所述开口的关闭装置。011239.根据实施方案38所述的单元，其中所述至少一个关闭元件包括，优选地是枢转门、滑动门或面板，其中所述面板被设计成能够至少部分地、优选完全地移除。011340.根据实施方案39所述的单元，其中所述联合外罩的至少一部分呈骨架的形式，多个可移除面板被可移除地附接至所述骨架，所述可移除面板形成至少一个关闭元件。011441.根据实施方案25至40中任意一个所述的单元，其中所述结构还包括在联合外罩外侧的至少一个气闸室。011542.根据实施。
48、方案25至41中任意一个所述的单元，其中所述结构包括联合外罩，其中根据(i)的至少一个子空间和根据(ii)的至少一个子空间、以及额外地至少一个供应子空间，位于所述联合外罩中，其中如实施方案5至8中任意一个所限定的光气管线的至少一部分，以及如实施方案9至11中任意一个所限定的光气网络的至少一部分位于所述供应子空间中。011643.根据实施方案42所述的单元，还包括至少一个中间分隔装置，其将所述至少一个供应子空间与根据(i)和(ii)的子空间分隔开，其中所述至少一个中间分隔装置是至少一个中间顶板、至少一个中间侧壁、和至少一个中间底板中的一个或多个。011744.根据实施方案25至43中任意一个所述。
49、的单元，其中所述联合外罩位于基座上。011845.根据实施方案44所述的单元，其中所述联合外罩缺少底板，所述基座的至少一部分构成了所述结构的一部分。011946.根据实施方案25至44中任意一个所述的单元，其中所述联合外罩包括底板。012047.根据实施方案1至46中任意一个所述的单元，其中所述结构包括0121(vi)至少一个外罩，其中根据(i)的至少一个子空间位于所述至少一个外罩中，以及说明书9/14 页12CN 116157357 A120122(vii)除了根据(vi)的外罩之外的至少一个外罩，其中根据(ii)的至少一个子空间位于此至少一个外罩中。012348.根据实施方案47所述的单元。
50、，其中根据(vi)和(vii)的至少一个外罩中的至少一个包括至少一个开口，并且所述单元还包括用于关闭所述开口的至少一个关闭元件。012449.根据实施方案48所述的单元，其中所述至少一个开口被配置为在维护模式下，从结构中通过所述开口临时移除根据(i)的用于生产光气的至少一个设备的至少一部分，或者临时移除根据(ii)的用于加工光气的至少一个设备的至少一部分。012550.根据实施方案48或49所述的单元，其中所述至少一个关闭元件包括，优选地是枢转门、滑动门、或面板，其中所述面板被设计成能够至少部分地、优选完全地移除。012651.根据实施方案47至49中任意一个所述的单元，其中至少一个外罩位于至。