中间掩模版保持器和中间掩模版的组件 本申请是 2004 年 10 月 26 日递交的中国专利申请 CN200410087986.7( 发明名称 ： 中间掩模版保持器和中间掩模版的组件 ) 的分案申请。技术领域
本发明涉及一种中间掩模版和中间掩模版保持器的组件。 背景技术 这样一种组件从本领域中已知。 已知组件的中间掩模版例如可以适合于且安排为 供光刻工艺中使用， 通过光刻装置实现， 以制造器件。在已知的组件中， 中间掩模版保持器 用于利用夹紧装置保持中间掩模版。特别是， 已知的中间掩模版保持器是一种用于储存和 运输中间掩模版的储存箱。 在一些情况下， 在组件用于制造过程中以前， 必须将中间掩模版 相对于中间掩模版保持器精确对准。通常， 这种对准由中间掩模版预对准器进行。
已知组件的一个问题是当中间掩模版由中间掩模版保持器保持时， 将中间掩模版 相对于中间掩模版保持器保持在某个所需的， 例如对准的位置是相对困难的。 因此， 在组件 运输过程中， 中间掩模版可能在振动和 / 或加速作用的影响下移位， 导致中间掩模版未对 准。此外， 这种不希望的中间掩模版移动可能导致因中间掩模版和中间掩模版保持器之间 的摩擦而引起的不希望的拉子产生。这些粒子损害利用中间掩模版的工艺， 例如真空工艺 和 / 或光刻工艺， 其中这些工艺需要基本上无污染的工艺环境。在已知的中间掩模版保持 器中， 通过利用相对较大的夹紧或摩擦力来阻止中间掩模版的运动。 但是， 这些力导致很大 的接触应力， 而这些应力会损坏中间掩模版和 / 或中间掩模版保持器。
发明内容
本发明旨在提供一种中间掩模版和中间掩模版保持器的改进的组件。特别是， 本 发明的目的是提供一种中间掩模版和中间掩模版保持器的组件， 其中可以将中间掩模版可 以相对于中间掩模版保持器安全地保持在所需的位置。
根据本发明的一个方面， 在中间掩模版和中间掩模版保持器的组件中， 中间掩模 版保持器的状态在中间掩模版阻止状态和中间掩模版释放状态之间是可调整的。 当中间掩 模版保持器处于阻止状态时， 中间掩模版保持器用于至少以形状锁合方式沿至少一个方向 保持中间掩模版， 其中当中间掩模版保持器处于释放状态时， 中间掩模版保持器用于释放 中间掩模版。因此， 例如在组件的运输过程中， 利用形状锁合的中间掩模版固定， 中间掩模 版保持器防止中间掩模版沿所述至少一个方向的不希望的运动。因此， 中间掩模版可以相 对于中间掩模版保持器保持在一定位置， 例如某一对准位置。此外， 可以防止粒子形成。由 于能够以形状锁合方式保持中间掩模版， 因此优选利用沿所述至少一个方向基本上没有力 锁合 (forceclosure)， 例如夹紧或摩擦力来保持中间掩模版。 因此， 中间掩模版能够在其受 到由中间掩模版保持器作用在其上的相对较少的保持力时被保持， 从而能够防止中间掩模 版损坏或断裂。中间掩模版和中间掩模版保持器的这种组件能够具有不同的应用。该组件例如可以与光刻装置， 中间掩模版检查装置， 中间掩模版运输系统等结合使用。
根据本发明的有利实施方式， 中间掩模版保持器包括至少一个可动的中间掩模版 保持元件， 所述元件在分别用于提供所述形状锁合的阻止状态和释放状态的中间掩模版阻 止位置和中间掩模版释放位置之间是可移动的， 其中， 将所述至少一个可动的中间掩模版 保持元件安排为在阻止位置固定。
通过将每个中间掩模版保持元件固定在其阻止位置能够以形状锁合方式简单地 固定中间掩模版。当该至少一个保持元件从阻止位置移动到释放位置时释放中间掩模版。 优选地， 当保持元件处于所述阻止位置并且该中间掩模版由中间掩模版保持器保持时， 每 个中间掩模版保持元件和中间掩模版之间的距离约小于 1μm， 从而使中间掩模版的形状锁 合相对紧密， 并且有效地防止沿所述至少一个方向的中间掩模版运动。 此外， 当保持元件处 于所述释放位置以便为释放中间掩模版提供足够的空间时， 每个中间掩模版保持元件和中 间掩模版之间的距离例如可以约大于 1μm， 特别是约大于 100μm， 更特别足约大于 1mm。 所 述距离优选利用合适的传感器装置进行检测， 其中可动的保持元件的运动优选由合适的控 制装置进行控制， 从而自动地实现形状锁合。 根据本发明的另一个实施方式， 中间掩模版保 持器包括至少一种物质， 例如可凝固的流体和 / 或铁磁流， 能够变为分别用于提供所述形 状锁合的阻止状态和释放状态的固态和可变形状态。
通过将所述物质达到固态而以成形的方式简单地固定中间掩模版。 当所述物质变 为可变形状态时释放中间掩模版。该物质可以包括不同形式的不同材料。该物质可以包括 例如一种或多种流体， 热塑性塑料和 / 或这些或任何其他合适物质的组合。所述固态例如 可以是该物质的高粘度的状态， 其中该物质在所述可变形状态具有较低的拈度。如果该物 质是一种流体， 那么所述可变形状态可以是该流体的一种流态， 例如液态。 该物质例如可以 容纳于挠性容器中， 以防止在其处于所述可变形状态时中间掩模版保持器释放该物质。
根据本发明的一个优选实施方式， 中间掩模版保持器包括至少一个不可动的中间 掩模版保持元件， 该元件用于邻接至少一部分中间掩模版， 用于以所述形状锁合方式保持 中间掩模版。
该至少一个不可动的保持元件例如可以与中间掩模版保持器的其他部分配合， 特 别是与所述可动的保持元件和 / 或与所述物质配合， 从而以形状锁合的方式保持中间掩模 版。 该至少一个不可动的保持元件可进一步用于使中间掩模版相对于中间掩模版保持器对 准， 这能够充分利用中间掩模版预对准器。
本发明进一步涉及一种包括中间掩模版和中间掩模版保持器的组件的系统。
如上所述， 中间掩模版和中间掩模版保持器的组件从本领域中已知。中间掩模版 保持器可用于简化中间掩模版的操作。例如， 中间掩模版保持器可用于从中间掩模版台运 输中间掩模版且将中间掩模版运输到中间掩模版台。已知组件的缺点在于， 当中间掩模版 例如放置于用于其储存和 / 或运输的储存箱中时， 中间掩模版保持器需要从中间掩模版移 开。中间掩模版保持器的移开导致操作风险， 较低的 MTBF( 平均无故障时间 ) 并增加机器 成本。这种组件的另一个问题在于， 所需的中间掩模版相对于中间掩模版保持器的精确定 位变得相对复杂。 因此， 中间掩模版定位到保持器花费相对较多的时间， 降低了利用这种中 间掩模版 / 中间掩模版保持器组件的光刻装置或光刻制造方法的生产量。
本发明旨在提供一种系统， 其中中间掩模版和中间掩模版保持器可以相对于彼此相对精确和快速地定位。
根据本发明， 这通过一种系统来实现， 所述系统包括中间掩模版和中间掩模版保 持器的组件， 以及至少一个检测器， 其中中间掩模版包括一个或多个标记， 其中中间掩模版 保持器和检测器用于相对于彼此在运动学上对准， 其中检测器用于检测使中间掩模版相对 于中间掩模版保持器定位的所述中间掩模版标记。
在使用过程中， 一方面利用运动学对准且另一方面利用标记对准可以使中间掩模 版相对于中间掩模版保持器快速和精确地对准。
优选地， 可以首先使中间掩模版保持器相对于至少一个检测器在运动学上对准。 在中间掩模版保持器相对于所述检测器对准之后， 利用由所述检测器对所述标记的检测可 以使中间掩模版相对于中间掩模版保持器简单地定位。例如， 中间掩模版相对于中间掩模 版保持器定位， 使中间掩模版获得相对于保持器的一个所需的位置， 例加预定位置， 该位置 适合于将中间掩模版放置于光刻装置中， 而不必使中间掩模版相对于中间掩模版保持器重 新对准。 在这种情况下， 在中间掩模版相对于中间掩模版保持器定位之后， 例如可以将中间 掩模版保持器运输到用于将中间掩模版直接放置于其上预定工作位置的光刻装置的中间 掩模版台， 而不需要任何其他中间掩模版对准步骤。 优选地， 该系统包括至少一个储存箱， 用于至少在所述组件对准过程中储存所述 组件。 在这种情况下， 中间掩模版的对准能够在储存箱内相对干净的空间中实现， 同时减小 由中间掩模版和 / 或中间掩模版保持器从储存箱的任何移开而引起的操作风险。
例如， 在用于使中间掩模版相对于中间掩模版保持器对准的方法中， 中间掩模版 和中间掩模版保持器的组件可以首先放置于储存箱中。之后， 例如使用一个或多个中间掩 模版标记和标记检侧器， 将中间掩模版和中间掩模版保持器方便地相对于彼此对准。中间 掩模版相对于中间掩模版保持器的对准例如可以与上面描述的相同， 从而使中间掩模版保 持器可以将中间掩模版放置于工作位置而不需要任何其他的中间掩模版 / 中间掩模版保 持器对准。储存箱可以在组件被使用之前和 / 或之后保护对准的中间掩模版 / 中间掩模版 保持器组件。
中间掩模版和中间掩模版保持器的组件能够以各种方式安排。例如， 该组件可以 是上述组件， 从而当中间掩模版保持器处于阻止状态时， 中间掩模版保持器用于至少以形 状锁合的方式沿至少一个方向保持中间掩模版， 当中间掩模版保持器处于释放状态时， 该 中间掩模版保持器用于释放中间掩模版。这提供了中间掩模版形状锁合固定的上述优点。
根据一个实施方式， 该系统包括一个用于支撑中间掩模版保持器的支撑结构， 其 中该结构包括中间掩模版保持器的对接元件或对接孔口， 它们用于与对接孔口或对接元件 配合， 用以将中间掩模版保持器在运动学上对接到支撑结构上， 其中所述检测器位于相对 于支撑结构的一定的检测器位置， 用以检测所述中间掩模版标记。这提供了用于对接中间 掩模版保持器和对准中间掩模版的有利的结构。在一个实施方式中， 支撑结构简单地整体 连接到所述检测器。
根据本发明的另一方面， 提供一种支撑结构， 安排为用于在运动学上对接中间掩 模版保持器储存箱， 其中该支撑结构也安排为用于在运动学上对接在所述储存箱中保持的 中间掩模版保持器。在这种情况下， 储存箱以及容纳在其中的中间掩模版保持器经由该支 撑结构相对于彼此精确对准。因此， 中间掩模版的定位和 / 或运输能够以相对简单的方式
并且相对快速地实现。 这样， 可以降低利用一个或多个中间掩模版制造的器件的制造成本， 所述中间掩模版利用一个或多个所述支撑结构来定位。并且， 当光刻装置配有一个或多个 这样的支撑结构和 / 或该装置用于利用一个或多个这样的支撑结构时， 可以降低该装置的 成本。
根据本发明的另一个方面， 提供了一种中间掩模版保持器。
这种中间掩模版保持器提供上述优点。特别是， 对于中间掩模版保持器是上述组 件的保持器的情况， 中间掩模版可由中间掩模版保持器在所述至少一个方向上稳定地保 持， 优选不应用中间掩模版力固定， 或者仅使用少量的力固定。 这种中间掩模版保持器能够 以不同的方式安排。中间掩模版保持器例如可以是或者包括用于支撑中间掩模版的框架。 此外， 中间掩模版保持器可以是中间掩模版储存箱。 在这种情况下， 储存箱可以用于直接保 持中间掩模版， 其中该中间掩模版不通过任何其他中间掩模版保持装置来保持。 此外， 所述 中间掩模版保持器例如可以是储存箱的一部分， 如单独的中间掩模版保持框架， 其可从另 一个储存箱部件移开。 并且， 可以提供一个外部储存箱， 其安排为用于容纳一个或多个内部 储存箱， 其中将每个内部储存箱安排作为中间掩模版保持器。
此外， 对于中间掩模版保持器是根据上述系统的保持器的情况， 中间掩模版和中 间掩模版保持器可以相对于彼此相对快速和精确地定位， 例如使得中间掩模版可以利用保 持器直接放置于光刻装置中的工作位置。并且， 在这种情况下， 优选将中间掩模版 / 中间掩 模版保持器组件储存在合适的可运输的储存箱中， 例如用于在其储存和 / 或运输过程中保 护该组件。 本发明还涉及一种储存箱。
中间掩模版和中间掩模版保持器的组件可以通过储存箱容纳， 例如用以在很好条 件的、 相对无污染的环境中储存该组件。 此外， 该储存箱可用来保护所述组件不受不利的机 械影响。由于该储存箱用于容纳所述组件， 因此中间掩模版可以很容易地操作。例如， 如果 中间掩模版需要储存在储存箱中， 那么中间掩模版保持器也不必从中间掩模版移开。
根据本发明的另一个实施方式， 储存箱包括至少一个保持架， 当该保持架处于保 持器保持状态时用于保持所述中间掩模版保持器， 其中当该保持架处于保持器释放状态时 用于释放中间掩模版保持器。
利用所述保持架， 中间掩模版保持器可以随意保持在储存箱中。这提高了中间掩 模版和中间掩模版保持器组件相对于储存箱的操作可能性。例如， 当保持架处于所述释放 状态时， 中间掩模版保持器可以从储存箱移出或移入储存箱。 此外， 当中间掩模版保持器由 储存箱中的所述保持架保持时， 中间掩模版可以从中间掩模版保持器移动。为了清洁的目 的， 例如可以将中间掩模版不带中间掩模版保持器地从储存箱移开。
根据本发明的一个方面， 储存箱用于与上述支撑结构配合， 用以在运动学上对接 其上的储存箱， 其中至少一部分储存箱优选是光学上透明的， 从而使所述检测器可以利用 相对简单的光学检测器在使用过程中简单而光学地检测所述中间掩模版标记。
本发明进一步涉及一种光刻装置和一种器件制造方法。
光刻装置是将所需图案应用于基底目标部分上的一种装置。 光刻装置可以用于例 如集成电路 (IC) 的制造。在这种情况下， 构图部件， 如掩模可用于产生对应于 IC 一个单独 层的电路图案， 该图案可以成像在已涂覆辐射敏感材料 ( 抗蚀剂 ) 层的基底 ( 例如硅晶片 )
的目标部分上 ( 例如包括一部分， 一个或者多个管芯 )。一般地， 单一的晶片将包含相继曝 光的相邻目标部分的网格。已知的光刻装置包括所谓步进器， 通过将整个图案一次曝光到 目标部分上而辐射每一目标部分， 已知的光刻装置还包括所谓扫描器， 通过在投射光束下 沿给定的方向 (“扫描” 方向 ) 扫描所述图案， 并同时沿与该方向平行或者反平行的方向同 步扫描基底来辐射每一目标部分。
根据本发明的一个方面， 提供一种光刻装置， 包括 ：
用于提供辐射投射光束的照射系统 ；
用于支撑构图部件的支撑结构， 所述构图部件用于赋予投射光束带图案的横截 面；
用于保持基底的基底台 ；
用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统，
其中该装置包括至少一个上述组件和 / 或至少一个上述系统和 / 或至少一个上述 支撑结构和 / 或至少一个上述中间掩模版保持器和 / 或至少一个上述储存箱。
因此， 所述组件， 所述系统， 所述支撑结构， 所述储存箱和 / 或所述中间掩模版保 持器的上述优点供给光刻装置。 特别地， 利用中间掩模版保持器可以相对快速地操作和定位中间掩模版， 因此该 装置可以具有低费用和实现高生产率。
此外， 当使用所述系统和 / 或所述支撑结构时， 可以使该中间掩模版相对于中间 掩模版保持器精确和快速地对准， 优选地利用中间掩模版保持器使中间掩模版能够放置于 用于直接支撑构图部件的支撑结构上。
根据本发明的另一个方面， 提供了一种器件制造方法。
提供一基底， 其中利用照射系统提供辐射的投射束。构图部件用于赋予投射光束 带图案的横截面。将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上。由于将至少一个上述组 件和 / 或至少一个上述系统和 / 或至少一个上述支撑结构和 / 或至少一个上述中间掩模版 保持器和 / 或至少一个上述储存箱用于中间掩模版操作， 因此可以有效和安全地操作一个 或多个中间掩模版。此外， 可以利用相对较少的对准步骤使中间掩模版精确对准。
在本申请中， 虽然本发明的光刻装置具体用于制造 IC， 但是应该理解这里描述的 光刻装置可能具有其它应用， 例如， 它可用于制造集成光学系统、 用于磁畴储存器的引导和 检测图案、 液晶显示板 (LCD)、 薄膜磁头等等。 本领域的技术人员将理解， 在这种可替换的用 途范围中， 这里任何术语 “晶片” 或者 “管芯” 的使用应认为分别与更普通的术语 “基底” 或 “目标部分” 同义。在曝光之前或之后， 可以在例如轨道 ( 通常将抗蚀剂层涂敷到基底并将 已曝光的抗蚀剂显影的一种工具 ) 或者计量工具或检验工具对这里提到的基底进行处理。 在可应用的地方， 这里的公开可应用于这种和其他基底处理工具。 另外， 例如为了形成多层 IC， 可以对基底进行多次处理， 因止这里所用的术语基底也可以指的是已经包含多个已处 理的层的基底。
这里使用的术语 “辐射” 和 “光束” 包含所有类型的电磁辐射， 包括紫外 (UV) 辐射 ( 例如具有 365， 248193， 157 或者 126nm 的波长 ) 和远紫外 (EUV) 辐射 ( 例如具有 5-20nm 的波长范围 )， 以及粒子束， 如离子束或电子束。
这里使用的术语 “构图部件” 应广义地理解为能够给投射光束赋予带图案的截面
的装置， 从而在基底的目标部分中形成图案。 应该注意， 赋予投射光束的图案可以不与基底 目标部分中的所需图案精确一致。一般地， 赋予投射光束的图案与在目标部分中形成的器 件如集成电路的特殊功能层相对应。
构图部件可以是透射的或者反射的。构图部件的示例包括掩模， 可编程反射镜阵 列， 以及可编程 LCD 板。掩模在光刻中是公知的， 它包括如二进制型、 交替相移型、 和衰减相 移型的掩模类型， 以及各种混合掩积类型。可编程反射镜阵列的一个示例采用小反射镜的 矩阵排列， 每个反射镜能够独立地倾斜， 从而沿不同的方向反射入射的辐射束 ； 按照这种方 式， 对反射的光束进行构图。在构图部件的每个示例中， 支撑结构可以是框架或者工作台， 例如所述结构根据需要可以是固定的或者是可移动的， 并且可以确保构图部件例如相对于 投影系统位于所需的位置。这里任何术语 “中间掩模版” 或者 “掩模” 的使用可以认为与更 普通的术语 “构图部件” 同义。
这里所用的术语 “投影系统” 应广义地解释为包含各种类型的投影系统， 包括折射 光学系统， 反射光学系统， 和反折射光学系统， 如适合于所用的曝光辐射， 或者适合于其他 方面， 如使用浸液或使用真空。这里任何术语 “镜头” 的使用可以认为与更普通的术语 “投 影系统” 同义。
照射系统还可以各种类型的光学部件， 包括用于引导、 整形或者控制辐射投射光 束的折射， 反射和反折射光学部件， 这种部件在下文还可共同地或者单独地称作 “镜头” 。
光刻装置可以具有两个 ( 二级 ) 或者多个基底台 ( 和 / 或两个或者多个掩模台 )。 在这种 “多级式” 装置中， 可以并行使用这些附加台， 或者可以在一个或者多个台上进行准 备步骤， 而一个或者多个其它台用于曝光。
光刻装置也可以是这样一种类型， 其中基底浸入具有相对高折射率的液体中， 如 水， 从而填充投影系统的最后一个元件与基底之间的空间。浸液也可以应用于光刻装置中 的其他空间， 例如， 掩模与投影系统的第一个元件之间。油浸法在本领域是公知的， 用于提 高投影系统的数值孔径。 附图说明
现在仅仅通过举例的方式， 参考附图说明本发明的各个具体实施方式， 在附图中， 对应的参考标记表示对应的部件， 其中 ：
图 1 示出根据本发明一个具体实施方式的光刻装置 ；
图 2 示意性地示出本发明第一实施方式的部分开放的侧视图， 其中中间掩模版和 中间掩模版保持器均储存在储存箱中 ；
图 3 示出类似于图 2 的视图， 其中中间掩模版保持器容纳在储存箱中， 而中间掩模 版不在储存箱中 ；
图 4 示出类似于图 2 的视图， 其中中间掩模版保持器从储存箱中移开 ；
图 5 示意性地示出根据本发明第二实施方式的中间掩模版和中间掩模版保持器 的组件的顶视图 ；
图 6 示意性地示出本发明第二实施方式的另一个方面的部分开放的侧视图， 其 中， 利用形状锁合将中间掩模版横向固定在储存箱中 ；
图 7 示意性示出类似于图 5 的本发明第三实施方式的顶视图 ；图 8 示意性示出类似于图 5 的本发明第四实施方式的顶视图 ； 图 9 示意性示出本发明第五实施方式的侧视图 ； 以及 图 10 示意性示出本发明第六实施方式的顶视图。具体实施方式
在本申请中， 除非特别指出， 否则如 ‘大约’ ， ‘约’ 或类似术语的这些术语应该理解 为表示相对于指出的值能够至少偏离正和负 10％的值。
图 1 示意性地表示了本发明一具体实施方案的一光刻装置。该装置包括 ：
照射系统 ( 照射器 )IL， 用于提供辐射投射光束 PB( 例如 UV 辐射， EUV 辐射或其他 类型的辐射 ) ；
第一支撑结构 ( 例如掩模台 )， 用于支撑构图部件 ( 例如掩模 )MA， 并与用于将该 构图部件相对于物体 PL 精确定位的第一定位装置 PM 连接 ；
基底台 ( 例如晶片台 )WT， 用于保持基底 ( 例如涂覆抗蚀剂的晶片 )W， 并与用于将 基底相对于物体 PL 精确定位的第二定位装置 PW 连接 ； 以及
投影系统 ( 例如折射投影透镜 )PL， 用于将通过构图部件 MA 赋予投射光束 PB 的图 案成像在基底 W 的目标部分 C( 例如包括一个或多个管芯 ) 上。 如这里指出的， 该装置属于透射型 ( 例如采用透射掩模 )。另外， 该装置可以属于 反射型 ( 例如采用上面提到的可编程反射镜阵列 )。
照射器 IL 接收来自辐射源 SO 的辐射光束。 辐射源和光刻装置可以是独立的机构， 例如当辐射源是受激准分子激光器时。在这种情况下， 不认为辐射源构成光刻装置的一部 分， 辐射光束借助于光束输送系统 BD 从源 SO 传输到照射器 IL， 所述输送系统包括例如合适 的定向反射镜和 / 或扩束器。在其它情况下， 辐射源可以是装置的组成部分， 例如当源是汞 灯时。源 SO 和照射器 1L， 如果需要的话连同光束输送系统 BD 可被称作辐射系统。
照射器 IL 可以包括调节装置 AM， 用于调节光束的角强度分布。一般地， 至少可以 调节在照射器光瞳面上强度分布的外和 / 或内径向范围 ( 通常分别称为 σ- 外和 σ- 内 )。 此外， 照射器 IL 一般包括各种其它部件， 如积分器 IN 和聚光器 CO。 照射器提拱辐射的调节 光束 (conditioned beam)， 称为投射光束 PB， 该光束在其横截面上具有所需的均匀度和强 度分布。
投射光束 PB 入射到保持在掩摸台 MT 上的掩模 MA 上。 横向穿过掩模 MA 后， 投射光 束 PB 通过镜头 PL， 该镜头将光束聚焦在基底 W 的目标部分 C 上。在第二定位装置 PW 和位 置传感器 IF( 例如干涉测量装置 ) 的辅助下， 基底台 WT 可以精确移动， 例如在光束 PB 的光 路中定位不同的目标部分 C。类似地， 例如在从掩模库中机械地取出掩模 MA 后或在扫描期 间， 可以使用第一定位装置 PM 和另一个位置传感器 ( 图 1 中未明确示出 ) 将掩模 MA 相对 光束 PB 的光路进行精确定拉。一般地， 借助于长冲程模块 ( 粗略定位 ) 和短冲程模块 ( 精 确定位 )， 可以实现物体台 MT 和 WT 的移动， 这两个物体台构成定位装置 PM 和 PW 的一部分。 可是， 在步进器 ( 与扫描装置相对 ) 中， 掩模台 MT 只与短冲程致动装置连接， 或者固定。掩 模 MA 与基底 W 可以使用掩模时准标记 M1、 M2 和基底对准标记 P1、 P2 进行对准。
所示的装置可以安装下面优选的模式使用 ：
1. 在步进模式中， 掩摸台 MT 和基底台 WT 基本保持不动， 赋予投射光束的整个图案
被一次投射到目标部分 C 上 ( 即单次静态曝光 )。然后基底台 WT 沿 X 和 / 或 Y 方向移动， 从而可以曝光不同的目标部分 C。在步进模式中， 曝光场 (exposure field) 的最大尺寸限 制了在单次静态曝光中成像的目标部分 C 的尺寸。
2. 在扫描模式中， 当赋予投射光束的图案被投射到目标部分 C 时 ( 即单次动态曝 光 )， 同步扫描掩摸台 MT 和基底台 WT。晶片台 WT 相对于掩模台 MT 的速度和方向通过投影 系统 PL 的放大 ( 缩小 ) 和图像反转特性来确定。在扫描模式中， 曝光场的最大尺寸限制了 在单次动态曝光中目标部分的宽度 ( 沿非扫描方向 )， 而扫描移动的长度决定目标部分的 高度 ( 沿扫描方向 )。
3. 在其他模式中， 当赋予投射光束的图案投射到目标部分 C 上时， 掩模台 MT 基本 保持不动， 支撑可编程构图部件， 而此时基底台 WT 被移动或扫描。在该模式中， 一般采用脉 冲辐射源， 并且在基底台 WT 每次移动之后， 或者在扫描期间两个相继的辐射脉冲之间根据 需要更新可编程构图部件。 这种操作模式可以容易地应用于采用可编程构图部件的无掩模 光刻中， 所述可编程构图部件如上面提到的可编程反射镜阵列型。
还可以采用上述所用模式的组合和 / 或变型， 或者采用完全不同的模式。
在使用图 1 所示的装置的过程中， 优选将根据本发明的中间掩模版储存箱和 / 或 根据本发明的中间掩模版保持器用于中间掩模版操作。 图 2 示意性地示出本发明的第一实施方式。该实施方式包括储存箱 10， 用于储存 中间掩模版 MA 和中间掩模版保持器 1 的组件。中间掩模版保持器 1 例如可以是运动学操 作架， 用于将中间掩模版以相对于某种装置， 特别是相对于光刻装置在运动学上对准。 中间 掩模版保持器 1 例如可以根据图 5-8 中所示的实施方式设置为用于至少通过如下所述的形 状锁合来保持中间掩模版 MA。另一方面， 可以将中间掩模版保持器 1 设置为按照不同方式 例如通过力锁合来保持中间掩模版 MA。
储存箱 10 包括基座 14 和盖 13， 它们围起一个储存空间 20。在图 2 中， 中间掩模 版 MA 和中间掩模版保持器 1 的所述组件储存在储存箱 10 的储存空间 20 中。盖 13 例如通 过插锁 (dicking) 装置， 夹紧装置， 弹簧装置和 / 或任何其他合适的装置与基座 14 可拆卸 地连接。储存箱 10 的基座 14 配有用于支撑中间掩模版保持器 1 底部的支撑元件 11。当中 间掩模版保持器 1 和支撑元件 11 安排成彼此配合用以将中间掩模版保持器 11 运动学对接 (docking) 并定位到支撑元件 11 上时是有利的。这种运动学对接能以各种方式实现， 例如 通过使用锥形的销形支撑元件 11， 而中间掩模版保持器 1 的底部设有用于容纳锥形支撑元 件 11 的锥形容纳口 9， 如图 2-4 中清楚地示出。
此外， 储存箱 10 设有大量保持架 12， 这些保持架用于将中间掩模版保持器 1 保持 在储存箱 10 中。 在该实施方式中， 每个保持架形成为枢轴臂 12， 在臂 12 处于保持器保持状 态时， 该枢轴臂用于保持中间掩模版保持器 1。保持臂 12 的保持状态示于图 2 和 3 中。保 持臂 12 可移动到图 4 中所示的释放状态， 以释放中间掩模版保持器 1。保持架 12 的运动 能够以不同方式实现， 例如利用一个或多个电致动装置， 机电装置， 双金属， 机械致动装置， 弹簧装置等等。保持架 12 例如可以安排成当储存箱 10 位于某一控制机构上或附近时自动 地移动到某一状态。这在图 5 中示意性地绘出， 示出当储存箱 10 位于控制元件 15 之上时， 控制元件 15 使保持臂 12 绕枢轴 16 朝释放位置旋转。保持臂 12 的反向运动例如可以通过 弹簧装置， 重力， 和 / 或其他适当的装置来实现。此外， 保持架 12 能够以各种不同的方式安
排和形成， 包括例如一个或多个可枢转的， 可平移的， 旋转的， 可变形保持元件， 夹紧元件等 等。
储存箱 10 用于储存中间掩模版保持器 1 和中间掩模版 M A 的组件。因此， 中间掩 模版 MA 和中间掩模版保持器 1 可以一起储存， 从而可以有效地操作掩模 MA， 特别是在共同 使用和 / 或运输中间掩模版 MA 和中间掩模版保持器 1 时。储存箱 10 能够防止中间掩模版 MA 和中间掩模版保持器 1 的整个组件的污染。优选地， 当中间掩模版 MA 由中间掩模版保 持器 1 储存在储存箱中时， 该中间掩模版 MA 不与储存箱 10 直接接触， 进一步减小了中间掩 模版污染的机会。此外， 在这种方式下减小了因接触储存箱 10 而导致中间掩模版损坏的机 会。
当储存箱 10 的保持架 12 处于保持状态时， 将中间掩模版保持器 1 稳定地限制在 储存箱 10 中， 从而使中间掩模版 MA 可以安全和容易地从中间掩模版保持器 1 移开， 如图 3 所示。在中间掩模版移开的过程中， 储存箱盖 13 暂时与基座 14 分开。将中间掩模版 MA 移 开是所希望的， 例如用以清洁中间掩模版和 / 或在没有中间掩模版保持器 1 的一定制造过 程和 / 或装置中使用中间掩模版 MA。中间掩模版 MA 的移开和运动例如可以通过合适的致 动器装置， 一个或多个机器人， 用手和 / 或通过其他合适的装置来实现。 如图 4 所示， 当保持架 12 处于其释放位置时， 中间掩模版保持器 1 从储存箱 10 中 释放。然后， 如果盖 13 从基座 14 移开， 那么中间掩模版保持器 1 可以与中间掩模版 MA 一 起从储存箱 10 移开。中间掩模版保持器 1 的移开和运动例如也可以通过合适的致动器装 置， 一个或多个机器人， 用手和 / 或通过其他合适的装置来实现。希望移开中间掩模版 MA， 例如用以清除组件中间掩模版 MA， 1 和 / 或在一定的制造过程中使用中间掩模版 MA 和 / 或 连同中间掩模版保持器 1 的装置。
图 5 示出发明第二实施方式的顶视图。 第二实施方式包括中间掩模版 MA 和中间掩 模版保持器 1 的组件。中间掩模版保持器 1 能够以几种方式来安排以保持中间掩模版 MA。 在该实施方式中， 中间掩模版保持器形成为用于支撑中间掩模版 MA 一侧的支撑框架 1。此 外， 中间掩模版保持器 1 可以包括例如中间掩模版载体， 储存箱等等和 / 或成为中间掩模版 载体， 储存箱等等的一部分。
根据本发明， 中间掩模版保持器 1 的状态可在形状锁合的中间掩模版阻止状态和 中间掩模版释放状态之间调整。当中间掩模版保持器 1 处于阻止状态时， 中间掩模版保持 器 1 安排为以形状锁合的方式沿纵向保持和 / 或定位中间掩模版 MA 的至少一个边缘 A。因 此， 中间掩模版保持器 1 可以在所需的纵向中间掩模版位置稳定地保持中间掩模版 MA， 优 选不使用力锁合， 导致在其水平加速过程中在中间掩模版 MA 和中间掩模版保持器 1 之间相 对较少的或没有摩擦。在该实施方式中， 中间掩模版边缘人包括四个基本上平的中间掩模 版表面， 它们垂直于图 5 的平面延伸。此外， 在该实施方式中， 所述纵向中间掩模版方向是 如图 5 所示利用箭头 X 和 Y 的水平方向。当中间掩模版保持器 1 处于释放位置时， 中间掩 模版保持器 1 释放中间掩模版 MA。
如图 5 中清楚地绘出， 第二实施方式的中间掩模版保持器 1 配有以形状锁合方式 保持中间掩模版 MA 的保持元件 2， 3。提供两个可动的中间掩模版保持元件 2， 它们在使用 中位于中间掩模版边缘 A 两个部分的对面。中间掩模版保持器 1 进一步包括三个不可动的 保持元件 3， 它们安排为邻接中间掩模版边缘 A 的部分保持部件。在该实施方式中， 不可动
的保持元件 3 相对于中间掩模版 MA 的形状位于所述可动保持元件 2 的对边。
可动的保持元件 2 可在分别用于提供所述形状锁合的阻止状态和释放状态的中 间掩模版阻止位置和中间掩模版释放位置之间移动。每个可动的中间掩模版保持元件 2 用 于在所述阻止位置固定。当保持元件 2 位于所述阻止位置时， 如图 5 所示， 每个可动的中间 掩模版保持元件 2 和中间掩模版边缘 A 之间的距离 D 约小于 1μm， 从而使中间掩模版 MA 以 基本上形状锁合的状态保持在支撑框架 1 上。 所述距离 D 优选约小于 100nm， 更优选基本上 为 0nm， 使保持元件 2 几乎或基本上与中间掩模版边缘 A 接触， 而不在其上施加夹紧力。当 保持元件 2 处于所述释放位置时， 每个可动的中间掩模版保持元件 2 和中间掩模版边缘 A 的距离 D 约大于 1μm， 特别是约大于 100μm， 更特别是约大于 1mm。
每个可动的保持元件 2 可以仅有一个固定的阻止位置。另一方面， 当保持元件 2 的阻止位置可在几个阻止位置之间调整时， 例如调节和保持不同尺寸的中间掩模版 MA 和 / 或精确控制中间掩模版形状锁合的量是有利的。
每个可动的中间掩模版保持元件 2 的运动和固定能够以各种方式实现。可动的保 持元件 2 能够例如可滑动地， 可平移地和 / 或可枢转地连接到支撑框架 1。在第二实施方 式中， 每个可动的保持元件 2 可移动地贯穿导向元件 4， 该导向元件安装于框架 1。导向元 件 4 例如可以包括与保持元件 2 的外螺纹配合的内螺纹。在这种情况下， 可动的保持元件 2 固定到导向元件 4 可以通过所述内和外螺纹连接器的配合来实现。此外， 支撑框架 1 和 / 或导向元件 4 可以包括将可动的保持元件 2 锁定在阻止位置的锁定装置， 例如， 插锁装置， 夹紧装置， 锁销等。中间掩模版保持元件 2 的移动和固定可利用各种装置通过手， 通过电磁 装置， 通过双金属等实现， 所述各种装置例如是一个或多个电的和 / 或机械致动器。中间掩 模版保持器 1 和 / 或中间掩模版保持器 1 放置于其中的环境可以设有用于移动和 / 或固定 可动的保持元件 2 的这种装置。
优选地， 为了自动地控制所述可动保持元件 2 的移动而提供控制装置和传感器装 置。所述控制装置可以包括例如合适的计算装置， 反馈装置和 / 或电子设备， 例如一个或多 个计算机， 微控制器等。所述传感器装置例如可以用于测量中间掩模版 1 和保持元件 2 之 间的距离 D。传感器装置例如可以按照不同的方式安排以执行光学， 电， 电容， 电感， 力测量 和 / 或任何其他合适的测量方法。所述控制装置和传感器装置没有在图中示出。
在使用过程中， 中间掩模版 MA 放置于中间掩模版保持器 1 上， 中间掩模版边缘 A 邻接不动的保持元件 3， 从而使中间掩模版 MA 相对于中间掩模版保持器 1 自动对准。在将 中间掩模版 MA 放到中间掩模版保持器 1 上之前， 将可动的保持元件 2 放到所述释放位置， 从而在保持元件 2， 3 之间提供用于放置中间掩模版 MA 的充足的空间， 而不损坏中间掩模版 MA 和 / 或中间掩模版保持器 1。然后， 可动的保持元件 2 移动到阻止位置并固定在该位置， 从而通过纵向形状锁合使中间掩模版 MA 相对于中间掩模版保持器 1 固定， 以便将中间掩模 版 MA 的位置保持在纵向 X， Y 上， 而不用将中间掩模版 MA 夹紧到中间掩模版保持器 1 上。 中间掩模版 MA 可以通过将可动的保持元件 2 移回到释放位置而释放， 使中间掩模版 MA 可 以安全地从保持器 1 移开。在所述可动的保持元件 2 的运动过程中， 这些元件 2 和中间掩 模版之间的距离 D 优选由所述传感器装置进行检测， 而元件 2 的运动优选由所述控制装置 自动控制。
优选地， 中间掩模版 MA 也相对于中间掩模版保持器 1 沿横向方向固定。第二实施方式的该另一个方面示于图 6 中， 示出包括盖 13 的储存箱 10′， 所述盖可拆卸地与基座 14 连接， 其中当中间掩模版 MA 和中间掩模版保持器 1 置于盖 13 和基座 14 之间时， 盖 13 用于 横向固定中间掩模版 MA。储存箱 10′的基座 14 包括支撑中间掩模版保持器 1 的支撑元件 11。特别地， 储存箱 10′的盖 13 配有保持元件 17， 当盖 13 置于储存箱 10′的基座 14 上 时， 该保持元件 17 延伸到中间掩模版 MA 上部之上相对较小的距离处， 从而通过形状锁合而 不是仅通过摩擦力来防止中间掩模版 MA 沿方向 Z 的横向运动。这些保持元件 17 和中间掩 模版 MA 的所述小距离例如可以约小于 1μm。通过使用图 8 的储存箱 10′和图 5 的中间掩 模版保持器 1 的结合， 中间掩模版 MA 可在储存， 运输等过程中通过形状锁合沿各个方向固 定。储存箱 10′的盖 13 的保持元件 17 能够以各种方式安排且位于不同的位置。保持元 件 17 例如可移动或不移动地与箱盖 13 连接。此外， 中间掩模版保持器 1 同样可以包括用 于通过形状锁合沿横向方向 Z 固定中间掩模版 MA 的保持元件。
图 7 示出本发明的第三实施方式， 其不同于图 5 中示出的实施方式， 在该实施方式 中， 中间掩模版保持器 1 包括弹性元件， 例如弹簧 18， 用于朝中间掩模版瞅移动可动的保持 元件 2′。例如， 弹性元件或弹簧 18 可具有这样的弹簧常数， 使保持元件 2′朝对面固定的 保持元件 3 按压中间掩模版 MA， 而不损坏中间掩模版 MA。在中间掩模版 MA 定位到保持器 1 上之后， 可动的保持元件 2′的位置固定， 从而基本上通过形状锁合而基本上不通过力锁 合来横向地保持中间掩模版 MA。为此目的， 导向元件 4 可用于引导可动的保持元件 2′朝 着中间掩模版 MA 的方向引导不比用于阻止中间掩模版 MA 的适当阻止位置远的位置， 而不 在其上施加夹紧或摩擦力。在这种情况下， 弹簧 18 用来将可动的保持元件 2′固定在阻止 位置。另一方面， 中间掩模版保特器 1 可以配有固定装置， 该装置没有在图中示出， 当启动 固定装置时， 将其用于使每个可动的保持元件 2′朝向合适的阻止位置远离中间掩模版 MA 一个小的距离。所述小距离例如可以是约小于 1μm 的距离。在这种情况下， 固定装置防止 弹黄 18 将中间掩模版 MA 夹紧在保持元件 2′， 3 之间。
本发明的第四实施方式在图 8 中示出。第四实施方式的中间掩模版保持器 1 包括 物质 102， 例如可凝固的流体， 铁磁流体和 / 或热塑性材料， 能够达到分别用于提供所述阻 止状态和释放状态的固态和可变形状态。在该实施方式中， 中间掩模版保持器 1 包括三个 固定的保持元件 3， 这些保持元件 3 用于在相对于物质 102 的对边上保持中间掩模版边缘 A。因此， 能够使用相对较少的物质 102 将中间掩模版 MA 相对于中间掩模版保持器 1 固定。 在使用过程中， 中间掩模版 MA 用边缘 A 抵靠固定的保持元件 3 来定位， 同时物质 102 处于 所述可变形状态。然后， 将物质 102 简单地引入阻止状态以固定中间掩模版 MA。或者， 中间 掩模版保持器 1 可以设有所述物质 102， 该物质在中间掩模版边缘 A 的较大部分周围延伸， 例如完全在边缘 A 周围延伸， 以提供中间掩模版固定。
图 9 示意性地示出本发明的第五实施方式。第五实施方式是包括中间掩模版 MA 和中间掩模版保持器 201 的组件的对准系统。组件 MA， 201 例如可以与根据图 5， 7， 8 中所 示任一实施方式的组件相似或相同。在这种情况下， 中间掩模版保持器 201 的状态可在形 状锁合的中间掩模版阻止状态和中间掩模版释放状态之间调整。此外， 组件可以如图 10 的 第六实施方式所示， 其中中间掩模版保持器 201 包括几个可调整的保持架 202， 203， 用于通 过形状锁合或者通过力固定来保持中间掩模版 MA， 力固定的方式与形状锁合的方式相比不 是优选的。在第五实施方式中， 中间掩模版 MA 的底部包括大量对准标记 MRK。在图 10 中， 这 些标记 MRK 由虚线示意性地示出。每个标记 MRK 都是光学上可检测的。这些标记 MRK 一般 在本领域是已知的， 可以包括适合于对准目的的各种结构和标记布局。
第五实施方式还包括用于使中间掩模版 MA 相对于中间掩模版保持器 201 对准的 光学系统。该光学系统包括大量检测器 250。检测器 250 用于检测使中间掩模版 MA 相对于 中间掩模版保持器 201 定位的所述中间掩模版标记 MRK。 为此目的， 每个检测器 250 包括一 光学传感器 253 和至少一个光学元件 252， 如包括一个或多个透镜等的显微光学系统 252。 当中间掩模版 MA 处于图 9 所示位置时， 显微光学系统 252 用于将中间掩模版标记 MRK 的像 放大到光学传感器 253 上。光学传感器 253 例如可以是电子摄像机， CCDD 摄像机等。所述 光学系统 252 例如可以是可控制的， 用于在使用过程中使标记的像聚焦。
此外， 根据本发明， 中间掩模版保持器 201 和检测器 250 用于相对于彼此在运动学 上对准。在该实施方式中， 这通过用于支撑中间掩模版保持器 1 的支撑结构 251 简单地实 现， 其中中间掩模版保持器 201 可以相对于支撑结构 251 在运动学上对准， 而所述检测器 250 位于相对于支撑结构 251 的用于检测所述中间掩模版标记 MRK 的预定检测器位置。在 该实施方式中， 所述检测器 250 简单地安装在所述支撑结构 251 上。另外， 一个或多个检测 器 250 还可以至少部分地位于其他位置， 例如从支撑结构 251 上拆下。 支撑结构 251 包括第一对接 (docking) 元件 211， 该元件用于与中间掩模版保持 器 201 的对接孔口配合， 用以将中间掩模版保持器 201 在运动学上对接到支撑结构 251 上。 中间掩模版保持器 201 例如可以是运动学操作架， 用于使中间掩模版 MA 相对于一定装置， 特别是相对于光刻装置在运动学上对准。中间掩模版保持器 201 例如还可以包括大量中间 掩模版操作托架。 支撑结构优选提供至少三个， 更优选仅有三个运动学支撑点， 用于与中间 掩模版保持器 201 的至少三个运动学凹槽配合， 例如 V- 槽。所述支撑点例如可以是圆形尖 端销等。
另外， 例如支撑结构 251 包括一个或多个对接孔位， 用于与中间掩模版保持器的 适当对接元件配合， 用以将中间掩模版保持器在运动学上对接到支撑结构 251 上。
上面已经描述了这种运动学对接的功能。这种运动学对接能够以各种方式实现， 例如通过使用锥形的销形支承元件 211， 同时中间掩模版保持器 201 的底部配有锥形容纳 口， 或者 V- 形槽， 用于容纳锥形支承元件 211， 如已经在图 2-4 中示意性示出。通过应用这 种运动学定位， 可以使中间掩模版保持器 201 相对于检测器 250 快速和精确对准。
本发明的第五实施方式还包括储存箱 210， 设置该储存箱用于储存中间掩模版 MA 和中间掩模版保持器 201 的组件。这种储存箱具有上述优点。例如， 中间掩模版 MA 和中间 掩模版保持器 201 可以一起储存， 从而可以有效地操作中间掩模版狱， 特别是在共同使用 和 / 或运输中间掩模版 MA 和中间掩模版保持器 201 时。储存箱 210 能够防止中间掩模版 MA 和中间掩模版保持器 201 的整个组件的污染。
第五实施方式的储存箱 201 例如可以与图 2-4， 6 中所示的一个基本上相同或相 似。第五实施方式的储存箱 210 包括基座 214 和盖 213， 它们围起一个储存空间 220。盖 213 例如通过插锁装置， 夹紧装置， 弹簧装置和 / 或任何其他适当的装置与基座 214 可拆卸 地连接。在该实施方式中， 当中间掩模版保持器 201 储存在储存箱 210 中时， 储存箱 210 的 基座 214 设有允许支撑结构 251 的支承元件 211 达到中间掩模版保持器 201 的开口。储存
箱 214 的所述开口例如可以是通孔， 穿孔等。当所述支持元件 211 没有延伸通过时， 为了封 闭那里的开口可提供合适的封闭装置例如帽， 插入物等。这种封闭装置没有在图 9 中示出。 此外， 该储存箱 210 包括用于将中间掩模版保持器 201 保持在储存箱 210 中一定位置处的 侧面支承 219。 这种侧面支承 219 能够以各种方式安排， 例如可以连接到储存箱的底部 214。 并且， 储存箱 210 可以配有大量保持架， 这些保持架用于将中间掩模版保持器 201 保持在储 存箱中， 例如在中间掩模版保持器 201 已经运动学对准到支撑结构 251 上之后。这些保持 架能够以各种方式提供， 例如参见上面相关图 2-4， 且没有在图 9 中示出。
储存箱 210 至少部分是光学透明的， 从而当系统处于图 9 中所示的工作位置时， 检 测器 250 可以光学地检测中间掩模版标记 MRK。为此目的， 在该实施方式中， 至少储存箱底 部 214 的部分 214’ 由透明材料例如透明塑料， 玻璃等制成， 所述部分 214’ 在使用时在标记 MRK 和检测器 250 相对的显微光学系统 252 之间延伸。
在该实施方式中， 支撑结构 251 还安排为用于将储存箱 210 在运动学上对接于其 上。特别是， 支撑结构包括中间掩模版保持器储存箱 210 的第二对接元件 221， 或者第二对 接孔口， 它们用于与第二对接孔口或者第二对接元件配合。储存箱用于借助所述对接元件 和对接孔口与支撑结构 251 配合， 用以将储存箱 210 在运动学上对接到支撑结构 251 上。 并 且在这种情况下， 运动学对接能够以各种方式实现， 例如按照上述方式。 此外， 当中间掩模版保持器 201 已经在运动学上定位到支撑结构 251 上时， 图9中 所示包括用于使中间掩模版撇和中间掩模版保持器 201 相对于彼此移动的机构 203， 204 的 对准系统用于使中间掩模版 MA 的标记 MRK 相对于所述检测器 250 的光学传感器 253 对准。 这种机构能够以各种方式提供。例如， 机构 203， 204 可以与图 10 中示出的实施方式相同， 或者至少包括中间掩模版保持器 201 的可调整保持架 202， 203。 另一方面， 储存箱 210 例如 可以配有用于使中间掩模版 MA 相对于中间掩模版保持器 201 移动的这样一种机构。此外， 用于相对于中间掩模版保持器 201 操纵中间掩模版的这种机构可以是自动的和 / 或手动可 操作的机构。
第五实施方式优选包括控制装置， 该控制装置用于自动控制在使用中各个系统部 件相对于彼此的运动。并且， 第五实施方式优选包括运动装置， 用于使中间掩模版保持器 201， 储存箱 210 和 / 或支撑结构 251 相对于彼此移动， 该运动装置例如一个或多个机器人， 致动器等。所述控制装置还可以安排为用于处理由于标记 MRK 检测而通过检测器产生的数 据和 / 或信号。所述控制装置可以包括例如合适的计算装置， 反馈装置和 / 或电子设备， 例 如一个或多个计算机， 微控制器， 软件等。所述控制装置和运动装置没有在图 9 中示出。
在第五实施方式的使用过程中， 中间掩模版 MA 和中间掩模版保持器 201 的组件储 存在储存箱 210 中， 用以保护该组件并防止其污染。然后， 中间掩模版 MA 和中间掩模版保 持器 201 能够按照下面的方式相对于彼此对准， 而不必将中间掩模版和 / 或中间掩模版保 持器从储存箱 210 中移开。
为此目的， 储存箱 210 在运动学上定位于支撑结构 251 的第二对接元件 221 上。 在 该定位过程中， 支撑结构 251 的第一对接元件 211 透过储存箱底部 214 的各个开口， 并与中 间掩模版保持器 201 配合， 用以实现其运动学对准。因此， 中间掩模版保持器 201 已经相对 于光学检测器 250 在运动学上对准， 这些光学检测器具有相对于支撑结构 251 的已知的位 置。优选地， 每个所述运动学对准通过与三个运动学凹槽配合的运动学支撑点来实现。
然后， 利用由所述检测器 250 得到的所述标记 MRK 的检测将中间掩模版 MA 相对于 中间掩模版保持器 201 定位。这里， 标记 MRK 的像通过各自的显微光学系统 252 投影到光 学传感器 253 上。中间掩模版 MA 的定位通过所述移动机构 203， 204 实现。特别地， 中间掩 模版 MA 和中间掩模版保持器 201 按照这种方式相对于彼此进行操纵， 使中间掩模版的标记 MRK 相对于所述检测器 250 的光学传感器 253 对准， 从而使标记 MRK 达到相对于检侧器 250 的某些所需的， 预先知道的标记位置。 例如， 所述控制装置安排为用于实现相对于中间掩模 版保持器的这种中间掩模版运动。将中间掩模版对准， 从而例如能够利用中间掩模版保持 器 201 将中间掩模版直接放置于光刻装置的中间掩模版台 MT 上， 而不需要任何其他对准步 骤。相对精确的定位可通过应用显微光学系统 252 来实现， 所述显微光学系统将标记 MRK 的像放大到光学传感器 253 上。
优选地， 在中间掩模版 MA 相对于中间掩模版保持器 201 定位之后， 将该中间掩模 版 MA 固定到中间掩模版保持器 201 上。然后， 例如可以将储存箱 210 运送到将要使用中间 掩模版 MA 的位置， 例如运送到如上所述供器件制造中使用的光刻装置。在上述中间掩模版 对准之后， 优选将中间掩模版 MA 直接放置于光刻装置的中间掩模版台 MT 上， 这导致装置的 相对较少的停机时间和相对较高的生产量。
在该第五实施方式中， 利用光学装置 MRK， 250 和运动学对准装置 211 使中间掩模 版保持器 201 和掩模 MA 相对于彼此简单对准。因此， 简化了中间掩模版的操作。例如， 当 中间掩模版保持器 201 储存在储存箱 210 中时， 中间掩模版 MA 已经位于保持器 201 上。之 后， 使中间掩模版 MA 可以相对于中间掩模版保持器 201 对准， 而不必将中间掩模版 / 中间 掩模版保持器组件从储存箱 210 移开。因此， 中间掩模版 MA 的对准可以在相对清洁， 无粒 子的环境下实现。这里， 支撑结构 251 和所述检测器 250 可以起预对准器的作用， 提供一种 快速， 清洁和有效的中间掩模版对准。
尽管上面已经描述了本发明的具体实施方式， 但是应该理解， 本发明可以按照不 同于所述的方式实施。说明书不意味着限制本发明。储存箱可以安排为用于储存包括至少 一个中间掩模版和一个中间掩模版保持器的组件， 其中中间掩模版保持器的状态例如不能 在形状锁合的中间掩模版阻止状态和中间掩模版释放状态之间调整， 其中储存箱配有用于 保持所述中间掩模版保持器的至少一个保持架。这提供了所述保持架的上述优点， 但不取 决于通过形状锁合来保持中间掩模版。特别是， 当使用这种储存箱时， 如图 2-4 所示， 中间 掩模版和中间掩模版保持器组件的操作可能性提高。
中间掩模版 MA 也能够以各种方式和形状提供， 例如矩形， 正方形， 圆形等。
此外， 中间掩模版保持器和 / 或储存箱能够用于在水平， 垂直和 / 或其他中间掩模 版状态下运输和 / 或储存中间掩模版。中间掩模版保持器和 / 或储存箱进一步安排为用于 使中间掩模版相对于环境和 / 或装置定位。
每个中间掩模版保持器能够用于保持一个或多个中间掩模版。 这同样适用于所述 储存箱。储存箱也能够用于保持一个或多个中间掩模版保持器， 例如一个或多个中间掩模 版保持框架和 / 或一个或多个内部中间掩模版储存箱。
此外， 能够基本上通过形状固定沿一个或多个方向保持中间掩模版， 其中例如能 够施加力以在剩余的方向保持中间掩模版。此外， 优选基本上通过沿至少一个方向由形状 锁合并且基本上不通过沿该方向的力锁合来保持中间掩模版 MA。这里， 术语 “基本上不通过力锁合” 必须广义地解释， 例如解释为中间掩模版保持器向中间掩模版施加大约 10N 或更 小的残余保持力。
此外， 如上所述， 根据本发明的中间掩模版对准方法能够在真空环境中实现， 例如 在为此功能设计的单独模块中实现。并且， 该中间掩模版对准能够例如在储存模块， 负载 锁， 扫描器或在其他设备中实现。
此外， 前述系统可以包括例如中间掩模版 MA 和中间掩模版保持器 201 的一个或多 个组件， 每个中间掩模版保持器安排为用于保持各自的中间掩模版， 其中优选地， 每个组件 MA， 201 可拆卸地储存在合适的储存箱 210 中。此外， 每个所述储存箱 210 和 / 或中间掩模 版保持器 201 例如可以设置成手动运输等。