中间掩模版保持器和中间掩模版的组件.pdf

1、10申请公布号CN102338992A43申请公布日20120201CN102338992ACN102338992A21申请号201110274972622申请日2004102603078380720031027EP200410087986720041026G03F7/2020060171申请人ASML荷兰有限公司地址荷兰维德霍温72发明人GJ希伦斯BLWM范德文74专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司11021代理人王波波54发明名称中间掩模版保持器和中间掩模版的组件57摘要本发明涉及一种中间掩模版和中间掩模版保持器的组件，其中中间掩模版保持器1的状态在形状锁合的中间掩模版阻止状态和中间

2、掩模版释放状态之间是可调整的，其中当中间掩模版保持器1处于阻止状态中时，中间掩模版保持器1用于至少以形状锁合方式沿至少一个方向X，Y，Z保持中间掩模版MA，当中间掩模版保持器1处于释放状态时，该中间掩模版保持器1用于释放中间掩模版MA。本发明还涉及一种系统，包括中间掩模版MA和中间掩模版保持器201的组件，以及至少一个检测器250，其中中间掩模版MA包括一个或多个标记MRK，其中中间掩模版保持器201和检测器250用于相对于彼此在运动学上对准，其中检测器250用于检测所述中间掩模版标记MRK，用以使中间掩模版MA相对于中间掩模版保持器201定位。30优先权数据62分案原申请数据51INTCL1

3、9中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书2页说明书15页附图6页CN102339005A1/2页21包括中间掩模版MA和中间掩模版保持器201的组件以及至少一个检测器250的系统，其中中间掩模版MA包括一个或多个标记MRK，其中中间掩模版保持器201和检测器250用于相对于彼此在运动学上对准，其中检测器250用于检测使中间掩模版MA相对于中间掩模版保持器201定位的所述中间掩模版标记MRK，其中该系统优选包括至少一个储存箱210，用于至少在将中间掩模版MA相对于中间掩模版保持器201定位的过程中储存所述组件MA，201。2根据权利要求1的系统，其中在所述组件中，中间掩模版保持器

4、的状态设置成在形状锁合的中间掩模版阻止状态和中间掩模版释放状态之间是可调整的，从而当中间掩模版保持器201处于阻止状态时，中间掩模版保持器201设置成至少以形状锁合方式沿至少一个方向X，Y，Z保持中间掩模版MA，当中间掩模版保持器201处于释放状态时，该中间掩模版保持器201设置成释放中间掩模版MA。3根据权利要求2的系统，其中中间掩模版保持器包括至少一个可动的中间掩模版保持元件，所述元件在分别用于提供所述形状锁合的阻止状态和释放状态的中间掩模版阻止位置和中间掩模版释放位置之间是可移动的，其中，能够将所述至少一个可动的中间掩模版保持元件安排成在阻止位置固定。4根据权利要求3的系统，其中当保持元

5、件处于所述阻止位置并且该中间掩模版MA由中间掩模版保持器保持时，每个中间掩模版保持元件和中间掩模版MA之间的距离约小于1M。5根据权利要求4的系统，其中当保持元件处于所述释放位置时，每个中间掩模版保持元件和中间掩模版MA之间的距离约大于1M，特别是约大于100M，更特别是约大于1MM。6根据权利要求25中任一项的系统，其中中间掩模版保持器包括至少一种物质，例如可凝固的流体，铁磁流体和/或热塑性塑料，它能够变为分别用于提供所述形状锁合的阻止状态和释放状态的固态和可变形状态。7根据权利要求26中任一项的系统，其中中间掩模版保持器包括至少一个不能移动的中间掩模版保持元件，该元件用于邻接至少一部分中间

6、掩模版MA，用于以所述形状锁合方式保持中间掩模版MA。8根据权利要求27中任一项的系统，其中中间掩模版保持器包括用于支撑中间掩模版一边的支撑框架。9根据权利要求1或2的系统，包括用于使中间掩模版MA和中间掩模版保持器201相对于彼此移动的机构203，204，优选是当所述系统MA，201定位于所述储存箱210中时移动中间掩模版MA的机构203，204。10根据权利要求1，2和9中任一项的系统，包括一个用于支撑中间掩模版保持器201的支撑结构251，其中该结构包括中间掩模版保持器201的对接元件211或对接孔口，它们用于分别与对接孔口或对接元件配合，用以将中间掩模版保持器在运动学上对接到支撑结构2

7、51上，其中所述检测器250在使用时位于相对于支撑结构251的用以检测所述中间掩模版标记MRK的一定的检测器位置。11根据权利要求10的系统，其中所述检测器250附于所述支撑结构251。12根据权利要求10或11的系统，其中支撑结构包括至少三个运动学支撑点，用于与权利要求书CN102338992ACN102339005A2/2页3中间掩模版保持器201的至少三个运动学凹槽配合。13根据权利要求1，2和912中任一项的系统，其中所述检测器包括至少一个光学传感器253，用于检测所述标记MRK。14根据权利要求1，2和913中任一项的系统，其中所述检侧器至少包括至少一个光学元件252，例如显微光学系

8、统，用于放大至少一个所述标记MRK的像。15根据权利要求1，2和914中任一项的系统，其中所述检测器包括至少一个电子摄像机，例如CCD摄像机，用于检测所述标记MRK。16支撑结构，例如根据权利要求1012中任一项的系统的支撑结构，安排成用于在运动学上对接其上的中间掩模版保持器201，其中该支撑结构251优选也安排成当所述中间掩模版保持器201保持在储存箱210中时在运动学上对接中间掩模版保持器储存箱210。17根据权利要求16的支撑结构，包括中间掩模版保持器201的第一对接元件211，或第一对接孔口，它们用于分别与第一对接孔口或第一对接元件配合，其中该支撑结构251优选也包括中间掩模版保持器储

9、存箱210的第二对接元件221，或第二对接孔口，它们用于分别与第二对接孔口或第二对接元件配合。权利要求书CN102338992ACN102339005A1/15页4中间掩模版保持器和中间掩模版的组件0001本申请是2004年10月26日递交的中国专利申请CN2004100879867发明名称中间掩模版保持器和中间掩模版的组件的分案申请。技术领域0002本发明涉及一种中间掩模版和中间掩模版保持器的组件。背景技术0003这样一种组件从本领域中已知。已知组件的中间掩模版例如可以适合于且安排为供光刻工艺中使用，通过光刻装置实现，以制造器件。在已知的组件中，中间掩模版保持器用于利用夹紧装置保持中间掩模版

10、。特别是，已知的中间掩模版保持器是一种用于储存和运输中间掩模版的储存箱。在一些情况下，在组件用于制造过程中以前，必须将中间掩模版相对于中间掩模版保持器精确对准。通常，这种对准由中间掩模版预对准器进行。0004已知组件的一个问题是当中间掩模版由中间掩模版保持器保持时，将中间掩模版相对于中间掩模版保持器保持在某个所需的，例如对准的位置是相对困难的。因此，在组件运输过程中，中间掩模版可能在振动和/或加速作用的影响下移位，导致中间掩模版未对准。此外，这种不希望的中间掩模版移动可能导致因中间掩模版和中间掩模版保持器之间的摩擦而引起的不希望的拉子产生。这些粒子损害利用中间掩模版的工艺，例如真空工艺和/或光

11、刻工艺，其中这些工艺需要基本上无污染的工艺环境。在已知的中间掩模版保持器中，通过利用相对较大的夹紧或摩擦力来阻止中间掩模版的运动。但是，这些力导致很大的接触应力，而这些应力会损坏中间掩模版和/或中间掩模版保持器。发明内容0005本发明旨在提供一种中间掩模版和中间掩模版保持器的改进的组件。特别是，本发明的目的是提供一种中间掩模版和中间掩模版保持器的组件，其中可以将中间掩模版可以相对于中间掩模版保持器安全地保持在所需的位置。0006根据本发明的一个方面，在中间掩模版和中间掩模版保持器的组件中，中间掩模版保持器的状态在中间掩模版阻止状态和中间掩模版释放状态之间是可调整的。当中间掩模版保持器处于阻止状

12、态时，中间掩模版保持器用于至少以形状锁合方式沿至少一个方向保持中间掩模版，其中当中间掩模版保持器处于释放状态时，中间掩模版保持器用于释放中间掩模版。因此，例如在组件的运输过程中，利用形状锁合的中间掩模版固定，中间掩模版保持器防止中间掩模版沿所述至少一个方向的不希望的运动。因此，中间掩模版可以相对于中间掩模版保持器保持在一定位置，例如某一对准位置。此外，可以防止粒子形成。由于能够以形状锁合方式保持中间掩模版，因此优选利用沿所述至少一个方向基本上没有力锁合FORCECLOSURE，例如夹紧或摩擦力来保持中间掩模版。因此，中间掩模版能够在其受到由中间掩模版保持器作用在其上的相对较少的保持力时被保持，

13、从而能够防止中间掩模版损坏或断裂。中间掩模版和中间掩模版保持器的这种组件能够具有不同的应用。该组件说明书CN102338992ACN102339005A2/15页5例如可以与光刻装置，中间掩模版检查装置，中间掩模版运输系统等结合使用。0007根据本发明的有利实施方式，中间掩模版保持器包括至少一个可动的中间掩模版保持元件，所述元件在分别用于提供所述形状锁合的阻止状态和释放状态的中间掩模版阻止位置和中间掩模版释放位置之间是可移动的，其中，将所述至少一个可动的中间掩模版保持元件安排为在阻止位置固定。0008通过将每个中间掩模版保持元件固定在其阻止位置能够以形状锁合方式简单地固定中间掩模版。当该至少一

14、个保持元件从阻止位置移动到释放位置时释放中间掩模版。优选地，当保持元件处于所述阻止位置并且该中间掩模版由中间掩模版保持器保持时，每个中间掩模版保持元件和中间掩模版之间的距离约小于1M，从而使中间掩模版的形状锁合相对紧密，并且有效地防止沿所述至少一个方向的中间掩模版运动。此外，当保持元件处于所述释放位置以便为释放中间掩模版提供足够的空间时，每个中间掩模版保持元件和中间掩模版之间的距离例如可以约大于1M，特别是约大于100M，更特别足约大于1MM。所述距离优选利用合适的传感器装置进行检测，其中可动的保持元件的运动优选由合适的控制装置进行控制，从而自动地实现形状锁合。根据本发明的另一个实施方式，中间

15、掩模版保持器包括至少一种物质，例如可凝固的流体和/或铁磁流，能够变为分别用于提供所述形状锁合的阻止状态和释放状态的固态和可变形状态。0009通过将所述物质达到固态而以成形的方式简单地固定中间掩模版。当所述物质变为可变形状态时释放中间掩模版。该物质可以包括不同形式的不同材料。该物质可以包括例如一种或多种流体，热塑性塑料和/或这些或任何其他合适物质的组合。所述固态例如可以是该物质的高粘度的状态，其中该物质在所述可变形状态具有较低的拈度。如果该物质是一种流体，那么所述可变形状态可以是该流体的一种流态，例如液态。该物质例如可以容纳于挠性容器中，以防止在其处于所述可变形状态时中间掩模版保持器释放该物质。

16、0010根据本发明的一个优选实施方式，中间掩模版保持器包括至少一个不可动的中间掩模版保持元件，该元件用于邻接至少一部分中间掩模版，用于以所述形状锁合方式保持中间掩模版。0011该至少一个不可动的保持元件例如可以与中间掩模版保持器的其他部分配合，特别是与所述可动的保持元件和/或与所述物质配合，从而以形状锁合的方式保持中间掩模版。该至少一个不可动的保持元件可进一步用于使中间掩模版相对于中间掩模版保持器对准，这能够充分利用中间掩模版预对准器。0012本发明进一步涉及一种包括中间掩模版和中间掩模版保持器的组件的系统。0013如上所述，中间掩模版和中间掩模版保持器的组件从本领域中已知。中间掩模版保持器可

17、用于简化中间掩模版的操作。例如，中间掩模版保持器可用于从中间掩模版台运输中间掩模版且将中间掩模版运输到中间掩模版台。已知组件的缺点在于，当中间掩模版例如放置于用于其储存和/或运输的储存箱中时，中间掩模版保持器需要从中间掩模版移开。中间掩模版保持器的移开导致操作风险，较低的MTBF平均无故障时间并增加机器成本。这种组件的另一个问题在于，所需的中间掩模版相对于中间掩模版保持器的精确定位变得相对复杂。因此，中间掩模版定位到保持器花费相对较多的时间，降低了利用这种中间掩模版/中间掩模版保持器组件的光刻装置或光刻制造方法的生产量。0014本发明旨在提供一种系统，其中中间掩模版和中间掩模版保持器可以相对于

18、彼此说明书CN102338992ACN102339005A3/15页6相对精确和快速地定位。0015根据本发明，这通过一种系统来实现，所述系统包括中间掩模版和中间掩模版保持器的组件，以及至少一个检测器，其中中间掩模版包括一个或多个标记，其中中间掩模版保持器和检测器用于相对于彼此在运动学上对准，其中检测器用于检测使中间掩模版相对于中间掩模版保持器定位的所述中间掩模版标记。0016在使用过程中，一方面利用运动学对准且另一方面利用标记对准可以使中间掩模版相对于中间掩模版保持器快速和精确地对准。0017优选地，可以首先使中间掩模版保持器相对于至少一个检测器在运动学上对准。在中间掩模版保持器相对于所述检

19、测器对准之后，利用由所述检测器对所述标记的检测可以使中间掩模版相对于中间掩模版保持器简单地定位。例如，中间掩模版相对于中间掩模版保持器定位，使中间掩模版获得相对于保持器的一个所需的位置，例加预定位置，该位置适合于将中间掩模版放置于光刻装置中，而不必使中间掩模版相对于中间掩模版保持器重新对准。在这种情况下，在中间掩模版相对于中间掩模版保持器定位之后，例如可以将中间掩模版保持器运输到用于将中间掩模版直接放置于其上预定工作位置的光刻装置的中间掩模版台，而不需要任何其他中间掩模版对准步骤。0018优选地，该系统包括至少一个储存箱，用于至少在所述组件对准过程中储存所述组件。在这种情况下，中间掩模版的对准

20、能够在储存箱内相对干净的空间中实现，同时减小由中间掩模版和/或中间掩模版保持器从储存箱的任何移开而引起的操作风险。0019例如，在用于使中间掩模版相对于中间掩模版保持器对准的方法中，中间掩模版和中间掩模版保持器的组件可以首先放置于储存箱中。之后，例如使用一个或多个中间掩模版标记和标记检侧器，将中间掩模版和中间掩模版保持器方便地相对于彼此对准。中间掩模版相对于中间掩模版保持器的对准例如可以与上面描述的相同，从而使中间掩模版保持器可以将中间掩模版放置于工作位置而不需要任何其他的中间掩模版/中间掩模版保持器对准。储存箱可以在组件被使用之前和/或之后保护对准的中间掩模版/中间掩模版保持器组件。0020

21、中间掩模版和中间掩模版保持器的组件能够以各种方式安排。例如，该组件可以是上述组件，从而当中间掩模版保持器处于阻止状态时，中间掩模版保持器用于至少以形状锁合的方式沿至少一个方向保持中间掩模版，当中间掩模版保持器处于释放状态时，该中间掩模版保持器用于释放中间掩模版。这提供了中间掩模版形状锁合固定的上述优点。0021根据一个实施方式，该系统包括一个用于支撑中间掩模版保持器的支撑结构，其中该结构包括中间掩模版保持器的对接元件或对接孔口，它们用于与对接孔口或对接元件配合，用以将中间掩模版保持器在运动学上对接到支撑结构上，其中所述检测器位于相对于支撑结构的一定的检测器位置，用以检测所述中间掩模版标记。这提

22、供了用于对接中间掩模版保持器和对准中间掩模版的有利的结构。在一个实施方式中，支撑结构简单地整体连接到所述检测器。0022根据本发明的另一方面，提供一种支撑结构，安排为用于在运动学上对接中间掩模版保持器储存箱，其中该支撑结构也安排为用于在运动学上对接在所述储存箱中保持的中间掩模版保持器。在这种情况下，储存箱以及容纳在其中的中间掩模版保持器经由该支撑结构相对于彼此精确对准。因此，中间掩模版的定位和/或运输能够以相对简单的方式说明书CN102338992ACN102339005A4/15页7并且相对快速地实现。这样，可以降低利用一个或多个中间掩模版制造的器件的制造成本，所述中间掩模版利用一个或多个所

23、述支撑结构来定位。并且，当光刻装置配有一个或多个这样的支撑结构和/或该装置用于利用一个或多个这样的支撑结构时，可以降低该装置的成本。0023根据本发明的另一个方面，提供了一种中间掩模版保持器。0024这种中间掩模版保持器提供上述优点。特别是，对于中间掩模版保持器是上述组件的保持器的情况，中间掩模版可由中间掩模版保持器在所述至少一个方向上稳定地保持，优选不应用中间掩模版力固定，或者仅使用少量的力固定。这种中间掩模版保持器能够以不同的方式安排。中间掩模版保持器例如可以是或者包括用于支撑中间掩模版的框架。此外，中间掩模版保持器可以是中间掩模版储存箱。在这种情况下，储存箱可以用于直接保持中间掩模版，其

24、中该中间掩模版不通过任何其他中间掩模版保持装置来保持。此外，所述中间掩模版保持器例如可以是储存箱的一部分，如单独的中间掩模版保持框架，其可从另一个储存箱部件移开。并且，可以提供一个外部储存箱，其安排为用于容纳一个或多个内部储存箱，其中将每个内部储存箱安排作为中间掩模版保持器。0025此外，对于中间掩模版保持器是根据上述系统的保持器的情况，中间掩模版和中间掩模版保持器可以相对于彼此相对快速和精确地定位，例如使得中间掩模版可以利用保持器直接放置于光刻装置中的工作位置。并且，在这种情况下，优选将中间掩模版/中间掩模版保持器组件储存在合适的可运输的储存箱中，例如用于在其储存和/或运输过程中保护该组件。

25、0026本发明还涉及一种储存箱。0027中间掩模版和中间掩模版保持器的组件可以通过储存箱容纳，例如用以在很好条件的、相对无污染的环境中储存该组件。此外，该储存箱可用来保护所述组件不受不利的机械影响。由于该储存箱用于容纳所述组件，因此中间掩模版可以很容易地操作。例如，如果中间掩模版需要储存在储存箱中，那么中间掩模版保持器也不必从中间掩模版移开。0028根据本发明的另一个实施方式，储存箱包括至少一个保持架，当该保持架处于保持器保持状态时用于保持所述中间掩模版保持器，其中当该保持架处于保持器释放状态时用于释放中间掩模版保持器。0029利用所述保持架，中间掩模版保持器可以随意保持在储存箱中。这提高了中

26、间掩模版和中间掩模版保持器组件相对于储存箱的操作可能性。例如，当保持架处于所述释放状态时，中间掩模版保持器可以从储存箱移出或移入储存箱。此外，当中间掩模版保持器由储存箱中的所述保持架保持时，中间掩模版可以从中间掩模版保持器移动。为了清洁的目的，例如可以将中间掩模版不带中间掩模版保持器地从储存箱移开。0030根据本发明的一个方面，储存箱用于与上述支撑结构配合，用以在运动学上对接其上的储存箱，其中至少一部分储存箱优选是光学上透明的，从而使所述检测器可以利用相对简单的光学检测器在使用过程中简单而光学地检测所述中间掩模版标记。0031本发明进一步涉及一种光刻装置和一种器件制造方法。0032光刻装置是将

27、所需图案应用于基底目标部分上的一种装置。光刻装置可以用于例如集成电路IC的制造。在这种情况下，构图部件，如掩模可用于产生对应于IC一个单独层的电路图案，该图案可以成像在已涂覆辐射敏感材料抗蚀剂层的基底例如硅晶片说明书CN102338992ACN102339005A5/15页8的目标部分上例如包括一部分，一个或者多个管芯。一般地，单一的晶片将包含相继曝光的相邻目标部分的网格。已知的光刻装置包括所谓步进器，通过将整个图案一次曝光到目标部分上而辐射每一目标部分，已知的光刻装置还包括所谓扫描器，通过在投射光束下沿给定的方向“扫描”方向扫描所述图案，并同时沿与该方向平行或者反平行的方向同步扫描基底来辐射

28、每一目标部分。0033根据本发明的一个方面，提供一种光刻装置，包括0034用于提供辐射投射光束的照射系统；0035用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于赋予投射光束带图案的横截面；0036用于保持基底的基底台；0037用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统，0038其中该装置包括至少一个上述组件和/或至少一个上述系统和/或至少一个上述支撑结构和/或至少一个上述中间掩模版保持器和/或至少一个上述储存箱。0039因此，所述组件，所述系统，所述支撑结构，所述储存箱和/或所述中间掩模版保持器的上述优点供给光刻装置。0040特别地，利用中间掩模版保持器可以相对快速地操作和定位中间掩模版

29、，因此该装置可以具有低费用和实现高生产率。0041此外，当使用所述系统和/或所述支撑结构时，可以使该中间掩模版相对于中间掩模版保持器精确和快速地对准，优选地利用中间掩模版保持器使中间掩模版能够放置于用于直接支撑构图部件的支撑结构上。0042根据本发明的另一个方面，提供了一种器件制造方法。0043提供一基底，其中利用照射系统提供辐射的投射束。构图部件用于赋予投射光束带图案的横截面。将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上。由于将至少一个上述组件和/或至少一个上述系统和/或至少一个上述支撑结构和/或至少一个上述中间掩模版保持器和/或至少一个上述储存箱用于中间掩模版操作，因此可以有效和安全地操作一个

30、或多个中间掩模版。此外，可以利用相对较少的对准步骤使中间掩模版精确对准。0044在本申请中，虽然本发明的光刻装置具体用于制造IC，但是应该理解这里描述的光刻装置可能具有其它应用，例如，它可用于制造集成光学系统、用于磁畴储存器的引导和检测图案、液晶显示板LCD、薄膜磁头等等。本领域的技术人员将理解，在这种可替换的用途范围中，这里任何术语“晶片”或者“管芯”的使用应认为分别与更普通的术语“基底”或“目标部分”同义。在曝光之前或之后，可以在例如轨道通常将抗蚀剂层涂敷到基底并将已曝光的抗蚀剂显影的一种工具或者计量工具或检验工具对这里提到的基底进行处理。在可应用的地方，这里的公开可应用于这种和其他基底处

31、理工具。另外，例如为了形成多层IC，可以对基底进行多次处理，因止这里所用的术语基底也可以指的是已经包含多个已处理的层的基底。0045这里使用的术语“辐射”和“光束”包含所有类型的电磁辐射，包括紫外UV辐射例如具有365，248193，157或者126NM的波长和远紫外EUV辐射例如具有520NM的波长范围，以及粒子束，如离子束或电子束。0046这里使用的术语“构图部件”应广义地理解为能够给投射光束赋予带图案的截面说明书CN102338992ACN102339005A6/15页9的装置，从而在基底的目标部分中形成图案。应该注意，赋予投射光束的图案可以不与基底目标部分中的所需图案精确一致。一般地，

32、赋予投射光束的图案与在目标部分中形成的器件如集成电路的特殊功能层相对应。0047构图部件可以是透射的或者反射的。构图部件的示例包括掩模，可编程反射镜阵列，以及可编程LCD板。掩模在光刻中是公知的，它包括如二进制型、交替相移型、和衰减相移型的掩模类型，以及各种混合掩积类型。可编程反射镜阵列的一个示例采用小反射镜的矩阵排列，每个反射镜能够独立地倾斜，从而沿不同的方向反射入射的辐射束；按照这种方式，对反射的光束进行构图。在构图部件的每个示例中，支撑结构可以是框架或者工作台，例如所述结构根据需要可以是固定的或者是可移动的，并且可以确保构图部件例如相对于投影系统位于所需的位置。这里任何术语“中间掩模版”

33、或者“掩模”的使用可以认为与更普通的术语“构图部件”同义。0048这里所用的术语“投影系统”应广义地解释为包含各种类型的投影系统，包括折射光学系统，反射光学系统，和反折射光学系统，如适合于所用的曝光辐射，或者适合于其他方面，如使用浸液或使用真空。这里任何术语“镜头”的使用可以认为与更普通的术语“投影系统”同义。0049照射系统还可以各种类型的光学部件，包括用于引导、整形或者控制辐射投射光束的折射，反射和反折射光学部件，这种部件在下文还可共同地或者单独地称作“镜头”。0050光刻装置可以具有两个二级或者多个基底台和/或两个或者多个掩模台。在这种“多级式”装置中，可以并行使用这些附加台，或者可以在

34、一个或者多个台上进行准备步骤，而一个或者多个其它台用于曝光。0051光刻装置也可以是这样一种类型，其中基底浸入具有相对高折射率的液体中，如水，从而填充投影系统的最后一个元件与基底之间的空间。浸液也可以应用于光刻装置中的其他空间，例如，掩模与投影系统的第一个元件之间。油浸法在本领域是公知的，用于提高投影系统的数值孔径。附图说明0052现在仅仅通过举例的方式，参考附图说明本发明的各个具体实施方式，在附图中，对应的参考标记表示对应的部件，其中0053图1示出根据本发明一个具体实施方式的光刻装置；0054图2示意性地示出本发明第一实施方式的部分开放的侧视图，其中中间掩模版和中间掩模版保持器均储存在储存

35、箱中；0055图3示出类似于图2的视图，其中中间掩模版保持器容纳在储存箱中，而中间掩模版不在储存箱中；0056图4示出类似于图2的视图，其中中间掩模版保持器从储存箱中移开；0057图5示意性地示出根据本发明第二实施方式的中间掩模版和中间掩模版保持器的组件的顶视图；0058图6示意性地示出本发明第二实施方式的另一个方面的部分开放的侧视图，其中，利用形状锁合将中间掩模版横向固定在储存箱中；0059图7示意性示出类似于图5的本发明第三实施方式的顶视图；说明书CN102338992ACN102339005A7/15页100060图8示意性示出类似于图5的本发明第四实施方式的顶视图；0061图9示意性示

36、出本发明第五实施方式的侧视图；以及0062图10示意性示出本发明第六实施方式的顶视图。具体实施方式0063在本申请中，除非特别指出，否则如大约，约或类似术语的这些术语应该理解为表示相对于指出的值能够至少偏离正和负10的值。0064图1示意性地表示了本发明一具体实施方案的一光刻装置。该装置包括0065照射系统照射器IL，用于提供辐射投射光束PB例如UV辐射，EUV辐射或其他类型的辐射；0066第一支撑结构例如掩模台，用于支撑构图部件例如掩模MA，并与用于将该构图部件相对于物体PL精确定位的第一定位装置PM连接；0067基底台例如晶片台WT，用于保持基底例如涂覆抗蚀剂的晶片W，并与用于将基底相对于

37、物体PL精确定位的第二定位装置PW连接；以及0068投影系统例如折射投影透镜PL，用于将通过构图部件MA赋予投射光束PB的图案成像在基底W的目标部分C例如包括一个或多个管芯上。0069如这里指出的，该装置属于透射型例如采用透射掩模。另外，该装置可以属于反射型例如采用上面提到的可编程反射镜阵列。0070照射器IL接收来自辐射源SO的辐射光束。辐射源和光刻装置可以是独立的机构，例如当辐射源是受激准分子激光器时。在这种情况下，不认为辐射源构成光刻装置的一部分，辐射光束借助于光束输送系统BD从源SO传输到照射器IL，所述输送系统包括例如合适的定向反射镜和/或扩束器。在其它情况下，辐射源可以是装置的组成

38、部分，例如当源是汞灯时。源SO和照射器1L，如果需要的话连同光束输送系统BD可被称作辐射系统。0071照射器IL可以包括调节装置AM，用于调节光束的角强度分布。一般地，至少可以调节在照射器光瞳面上强度分布的外和/或内径向范围通常分别称为外和内。此外，照射器IL一般包括各种其它部件，如积分器IN和聚光器CO。照射器提拱辐射的调节光束CONDITIONEDBEAM，称为投射光束PB，该光束在其横截面上具有所需的均匀度和强度分布。0072投射光束PB入射到保持在掩摸台MT上的掩模MA上。横向穿过掩模MA后，投射光束PB通过镜头PL，该镜头将光束聚焦在基底W的目标部分C上。在第二定位装置PW和位置传感

39、器IF例如干涉测量装置的辅助下，基底台WT可以精确移动，例如在光束PB的光路中定位不同的目标部分C。类似地，例如在从掩模库中机械地取出掩模MA后或在扫描期间，可以使用第一定位装置PM和另一个位置传感器图1中未明确示出将掩模MA相对光束PB的光路进行精确定拉。一般地，借助于长冲程模块粗略定位和短冲程模块精确定位，可以实现物体台MT和WT的移动，这两个物体台构成定位装置PM和PW的一部分。可是，在步进器与扫描装置相对中，掩模台MT只与短冲程致动装置连接，或者固定。掩模MA与基底W可以使用掩模时准标记M1、M2和基底对准标记P1、P2进行对准。0073所示的装置可以安装下面优选的模式使用00741在

40、步进模式中，掩摸台MT和基底台WT基本保持不动，赋予投射光束的整个图案说明书CN102338992ACN102339005A8/15页11被一次投射到目标部分C上即单次静态曝光。然后基底台WT沿X和/或Y方向移动，从而可以曝光不同的目标部分C。在步进模式中，曝光场EXPOSUREFIELD的最大尺寸限制了在单次静态曝光中成像的目标部分C的尺寸。00752在扫描模式中，当赋予投射光束的图案被投射到目标部分C时即单次动态曝光，同步扫描掩摸台MT和基底台WT。晶片台WT相对于掩模台MT的速度和方向通过投影系统PL的放大缩小和图像反转特性来确定。在扫描模式中，曝光场的最大尺寸限制了在单次动态曝光中目标

41、部分的宽度沿非扫描方向，而扫描移动的长度决定目标部分的高度沿扫描方向。00763在其他模式中，当赋予投射光束的图案投射到目标部分C上时，掩模台MT基本保持不动，支撑可编程构图部件，而此时基底台WT被移动或扫描。在该模式中，一般采用脉冲辐射源，并且在基底台WT每次移动之后，或者在扫描期间两个相继的辐射脉冲之间根据需要更新可编程构图部件。这种操作模式可以容易地应用于采用可编程构图部件的无掩模光刻中，所述可编程构图部件如上面提到的可编程反射镜阵列型。0077还可以采用上述所用模式的组合和/或变型，或者采用完全不同的模式。0078在使用图1所示的装置的过程中，优选将根据本发明的中间掩模版储存箱和/或根

42、据本发明的中间掩模版保持器用于中间掩模版操作。0079图2示意性地示出本发明的第一实施方式。该实施方式包括储存箱10，用于储存中间掩模版MA和中间掩模版保持器1的组件。中间掩模版保持器1例如可以是运动学操作架，用于将中间掩模版以相对于某种装置，特别是相对于光刻装置在运动学上对准。中间掩模版保持器1例如可以根据图58中所示的实施方式设置为用于至少通过如下所述的形状锁合来保持中间掩模版MA。另一方面，可以将中间掩模版保持器1设置为按照不同方式例如通过力锁合来保持中间掩模版MA。0080储存箱10包括基座14和盖13，它们围起一个储存空间20。在图2中，中间掩模版MA和中间掩模版保持器1的所述组件储

43、存在储存箱10的储存空间20中。盖13例如通过插锁DICKING装置，夹紧装置，弹簧装置和/或任何其他合适的装置与基座14可拆卸地连接。储存箱10的基座14配有用于支撑中间掩模版保持器1底部的支撑元件11。当中间掩模版保持器1和支撑元件11安排成彼此配合用以将中间掩模版保持器11运动学对接DOCKING并定位到支撑元件11上时是有利的。这种运动学对接能以各种方式实现，例如通过使用锥形的销形支撑元件11，而中间掩模版保持器1的底部设有用于容纳锥形支撑元件11的锥形容纳口9，如图24中清楚地示出。0081此外，储存箱10设有大量保持架12，这些保持架用于将中间掩模版保持器1保持在储存箱10中。在该

44、实施方式中，每个保持架形成为枢轴臂12，在臂12处于保持器保持状态时，该枢轴臂用于保持中间掩模版保持器1。保持臂12的保持状态示于图2和3中。保持臂12可移动到图4中所示的释放状态，以释放中间掩模版保持器1。保持架12的运动能够以不同方式实现，例如利用一个或多个电致动装置，机电装置，双金属，机械致动装置，弹簧装置等等。保持架12例如可以安排成当储存箱10位于某一控制机构上或附近时自动地移动到某一状态。这在图5中示意性地绘出，示出当储存箱10位于控制元件15之上时，控制元件15使保持臂12绕枢轴16朝释放位置旋转。保持臂12的反向运动例如可以通过弹簧装置，重力，和/或其他适当的装置来实现。此外，

45、保持架12能够以各种不同的方式安说明书CN102338992ACN102339005A9/15页12排和形成，包括例如一个或多个可枢转的，可平移的，旋转的，可变形保持元件，夹紧元件等等。0082储存箱10用于储存中间掩模版保持器1和中间掩模版MA的组件。因此，中间掩模版MA和中间掩模版保持器1可以一起储存，从而可以有效地操作掩模MA，特别是在共同使用和/或运输中间掩模版MA和中间掩模版保持器1时。储存箱10能够防止中间掩模版MA和中间掩模版保持器1的整个组件的污染。优选地，当中间掩模版MA由中间掩模版保持器1储存在储存箱中时，该中间掩模版MA不与储存箱10直接接触，进一步减小了中间掩模版污染的

46、机会。此外，在这种方式下减小了因接触储存箱10而导致中间掩模版损坏的机会。0083当储存箱10的保持架12处于保持状态时，将中间掩模版保持器1稳定地限制在储存箱10中，从而使中间掩模版MA可以安全和容易地从中间掩模版保持器1移开，如图3所示。在中间掩模版移开的过程中，储存箱盖13暂时与基座14分开。将中间掩模版MA移开是所希望的，例如用以清洁中间掩模版和/或在没有中间掩模版保持器1的一定制造过程和/或装置中使用中间掩模版MA。中间掩模版MA的移开和运动例如可以通过合适的致动器装置，一个或多个机器人，用手和/或通过其他合适的装置来实现。0084如图4所示，当保持架12处于其释放位置时，中间掩模版

47、保持器1从储存箱10中释放。然后，如果盖13从基座14移开，那么中间掩模版保持器1可以与中间掩模版MA一起从储存箱10移开。中间掩模版保持器1的移开和运动例如也可以通过合适的致动器装置，一个或多个机器人，用手和/或通过其他合适的装置来实现。希望移开中间掩模版MA，例如用以清除组件中间掩模版MA，1和/或在一定的制造过程中使用中间掩模版MA和/或连同中间掩模版保持器1的装置。0085图5示出发明第二实施方式的顶视图。第二实施方式包括中间掩模版MA和中间掩模版保持器1的组件。中间掩模版保持器1能够以几种方式来安排以保持中间掩模版MA。在该实施方式中，中间掩模版保持器形成为用于支撑中间掩模版MA一侧

48、的支撑框架1。此外，中间掩模版保持器1可以包括例如中间掩模版载体，储存箱等等和/或成为中间掩模版载体，储存箱等等的一部分。0086根据本发明，中间掩模版保持器1的状态可在形状锁合的中间掩模版阻止状态和中间掩模版释放状态之间调整。当中间掩模版保持器1处于阻止状态时，中间掩模版保持器1安排为以形状锁合的方式沿纵向保持和/或定位中间掩模版MA的至少一个边缘A。因此，中间掩模版保持器1可以在所需的纵向中间掩模版位置稳定地保持中间掩模版MA，优选不使用力锁合，导致在其水平加速过程中在中间掩模版MA和中间掩模版保持器1之间相对较少的或没有摩擦。在该实施方式中，中间掩模版边缘人包括四个基本上平的中间掩模版表

49、面，它们垂直于图5的平面延伸。此外，在该实施方式中，所述纵向中间掩模版方向是如图5所示利用箭头X和Y的水平方向。当中间掩模版保持器1处于释放位置时，中间掩模版保持器1释放中间掩模版MA。0087如图5中清楚地绘出，第二实施方式的中间掩模版保持器1配有以形状锁合方式保持中间掩模版MA的保持元件2，3。提供两个可动的中间掩模版保持元件2，它们在使用中位于中间掩模版边缘A两个部分的对面。中间掩模版保持器1进一步包括三个不可动的保持元件3，它们安排为邻接中间掩模版边缘A的部分保持部件。在该实施方式中，不可动说明书CN102338992ACN102339005A10/15页13的保持元件3相对于中间掩模版MA的形状位于所述可动保持元件2的对边。0088可动的保持元件2可在分别用于提供所述形状锁合的阻止状态和释放状态的中间掩模版阻止位置和中间掩模版释放位置之间移动。每个可动的中间掩模版保持元件2用于在所述阻止位置固定。当保持元件2位于所述阻止位置时，如图5所示，每个可动的中间掩模版保持元件2和中间掩模版边缘A之间的距离D约小于1M，从而使中间掩模版MA以基本上形状锁合的状态保持在支撑框架1上。所述距离D优选约小于100NM，更优选基本上为0NM，使保持元件2几乎或基本上与中间掩模版边缘A接触，而不在其上施加夹紧力。当保持元件2处于所述释放位置时，每个可动的中间掩模版