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1、10申请公布号CN102001800A43申请公布日20110406CN102001800ACN102001800A21申请号201010608882122申请日20101228C02F9/14200601C02F3/3020060171申请人泸州北方化学工业有限公司地址646003四川省泸州市高坝泸州北方化学工业有限公司72发明人余伟红李宗铸74专利代理机构成都虹桥专利事务所51124代理人罗丽武森涛54发明名称含有机硅废水的净化处理方法57摘要本发明属于废水净化处理方法领域，特别涉及含有机硅废水的净化处理方法。本发明所要解决的技术问题是提供一种成本较低的含有机硅废水的净化处理方法。本发明含。
2、有机硅废水的净化处理方法为含有机硅废水依次经过厌氧反应、好氧反应、混凝沉淀、臭氧氧化、二次好氧反应、二次混凝沉淀和二次臭氧氧化处理。本发明通过两级生化两级臭氧废水处理工艺，降低对高浓度、毒性大、含盐量高等难降解废水的处理费用，降低企业成本。运用本工艺能够将含有机硅的废水COD直接处理到100MG/L以下，符合国家污水综合排放标准。51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书5页CN102001810A1/1页21含有机硅废水的净化处理方法，其特征在于含有机硅废水依次经过厌氧反应、好氧反应、混凝沉淀、臭氧氧化、二次好氧反应、二次混凝沉淀和二次臭氧氧化处理。2。
3、根据权利要求1所述的含有机硅废水的净化处理方法，其特征在于厌氧反应废水流量1100L/H，控制DO值00110MG/L。3根据权利要求1或2所述的含有机硅废水的净化处理方法，其特征在于厌氧反应溶液MLSS大于50时排泥，调节溶液PH775。4根据权利要求1所述的含有机硅废水的净化处理方法，其特征在于好氧反应采用生物膜方式，控制供气阀门调节废水DO值在00140MG/L，生化柱水温为1235。5根据权利要求1所述的含有机硅废水的净化处理方法，其特征在于臭氧氧化的臭氧量10100000MG/H。6根据权利要求1所述的含有机硅废水的净化处理方法，其特征在于二次好氧反应采用生物膜和生物滤池结合的方式，。
4、由供气阀门控制调节，使废水DO值在00140MG/L。7根据权利要求1所述的含有机硅废水的净化处理方法，其特征在于二次臭氧氧化时臭氧量10100000MG/H。8根据权利要求17任一项所述的含有机硅废水的净化处理方法，其特征在于含有机硅废水CODCR3500MG/L、氯离子浓度4000MG/L。权利要求书CN102001800ACN102001810A1/5页3含有机硅废水的净化处理方法技术领域0001本发明属于废水净化处理方法领域，特别涉及含有机硅废水的净化处理方法。背景技术0002有机硅生产工艺决定了其废水中有机污染物成分复杂，主要成分聚硅氧烷既有有机物的性质又有无机物的特性，为难生化降解。
5、的有机物质，直接生物处理难以达到处理要求。传统的生化处理工艺对有机硅废水几乎没有处理效果，国内外多采用物理化学法如FENTON试剂法、高压电晕臭氧联用法进行处理，该处理方式成本高，且难直接达标排放。目前国内出现了前端预处理生化法处理有机硅废水的试验研究如微电解高效微生物处理法，该法提高了有机硅废水的可生化性，能有效降低废水CODCR，但仍无法达到国家污水综合排放标准GB89781996一级排放标准，对其生产废水的深度处理没有进行彻底的研究，有机硅废水的处理达标仍是世界性难题。发明内容0003本发明所要解决的技术问题是提供一种含有机硅废水的净化处理方法。0004本发明含有机硅废水的净化处理方法为。
6、含有机硅废水依次经过厌氧反应、好氧反应、混凝沉淀、臭氧氧化、二次好氧反应、二次混凝沉淀和二次臭氧氧化处理。0005所述厌氧反应是密闭条件下进行，培养驯化厌氧菌，在厌氧条件下由多种厌氧或兼性微生物的共同作用，使有机物分解并产生消解气CH4和CO2，消解气从废水中排出。厌氧过程一般划分为三个连续的阶段，即水解酸化阶段、产氢产乙酸阶段和产甲烷阶段，相应的将厌氧发酵微生物分为发酵细菌群、产氢产乙酸菌群、产甲烷菌群。所述厌氧反应废水流量1100L/H，DO值水中溶解氧控制在00110MG/L。MLSS如大于50时可适当排泥，加氢氧化钠或硫酸稀溶液调节；PH控制在775之间。0006所述好氧反应采用生物膜。
7、方式，废水中生成好氧活性污泥。具体为废水经过好氧培养驯化后，由供气阀门控制调节使废水DO值在00140MG/L，优选为410MG/L，生化柱水温为1235，停留时间控制为10100小时，优选为1530小时。0007所述混凝沉淀废水静置沉淀0110小时，下层为好氧活性污泥，上层清水引入臭氧反应池。0008所述臭氧氧化废水中通入臭氧量10100000MG/H，臭氧时间0110小时。优选为1000030000MG/H。臭氧对有机物有强烈的氧化作用，起脱色和消毒的作用。0009所述二次好氧反应为生物膜和生物滤池结合的方式，废水中生成好氧活性污泥。采用陶瓷或活性炭作为生物滤池和生物膜的载体，菌种经过好氧。
8、培养驯化后，电磁空气泵鼓风，由供气阀门控制调节，使废水DO值在00140MG/L，优选为520MG/L，生化柱水温为1235，停留时间控制10100小时，优选为1530小时。0010所述二次混凝沉淀废水静置沉淀0110小时，下层为好氧活性污泥，上层清水引入二次臭氧反应池。说明书CN102001800ACN102001810A2/5页40011所述二次臭氧氧化废水中通入臭氧量10100000MG/H，臭氧时间0110小时，优选为臭氧量2000030000MG/H，臭氧时间515分钟。0012本发明方法适用于CODCR3500MG/L，氯离子浓度4000MG/L的含有机硅废水。0013本发明通过两。
9、级生化两级臭氧废水处理工艺，降低对高浓度、毒性大、含盐量高等难降解废水的处理费用，降低企业成本。0014运用本工艺将含有机硅的废水COD直接处理到100MG/L以下，符合国家污水综合排放标准GB89781996一级排放标准。具体实施方式0015本发明将含有机硅废水引入厌氧反应池后，在厌氧菌的作用下，经过水解发酵、产氢产酸、产甲烷三个阶段后，废水CODCR有较大幅度降低。废水经厌氧后，引入好氧反应池，采用生物膜法，电磁空气泵鼓风，得到的废水静置沉淀，将上清液引入二次臭氧反应池中用臭氧进行高级氧化后，引入二次好氧反应池，该好氧池采用生物滤池和生物膜相结合的方式进行好氧处理，废水静置沉淀，将上清液引。
10、入二次臭氧反应池进行再度高级氧化后，废水达标后排放。0016实施例10017厌氧反应池，引入含有机硅废水氯离子浓度4000MG/L，CODCR3200MG/L，PH控制在575之间，进液的流量控制约15L/H。厌氧反应池中废水DO值应10MG/L，如过高时应检查原因。MLSS如高至50时可适当排泥，然后加氢氧化钠或硫酸稀溶液调节使PH控制在775之间；停留时间2024小时。0018好氧反应池采用生物膜法，用丝状纤维组成的纤维束作为软性填料，经过好氧培养驯化后，废水流量控制在2L/H，电磁空气泵鼓风使废水DO值在410MG/L，由供气阀门控制调节，停留时间2024小时。0019混凝沉淀废水静置沉。
11、淀5小时，将上清液引入臭氧反应池。0020臭氧反应池臭氧量20000MG/H，臭氧氧化时间为5小时；处理后废水引入二次好氧反应池。0021二次好氧反应池，该好氧池采用生物滤池废水通过滤池，滤料截留废水中的悬浮物，同时把废水中的胶体和溶解性物质吸附在自己的表面，其中的有机物使微生物很快地繁殖起来，微生物进一步吸附废水中呈悬浮、胶体和溶解态的物质并逐渐形成生物膜和生物膜相结合的方式进行好氧处理采用活性炭颗粒或粗陶瓷颗粒作生物滤池填料，采用下端进水上端出水方式，由供气阀门控制调节使废水DO值在520MG/L，；停留时间2024小时。0022二次混凝沉淀废水静置沉淀10小时，将上清液引入二次臭氧反应池。
12、。0023二次臭氧反应池臭氧量30000MG/H，臭氧氧化时间为10分钟，废水达标后排放。0024两个好氧反应池中的生化柱水温为13，废水在系统中总停留时间为82H。分别对各个步骤的生物处理效果，厌氧、好氧的处理效果进行检测，对生物反应池溶解氧、污泥浓度、生物相进行监测，测定方法见表1，SS活性污泥浓度、DO水中溶解氧、COD化学需氧量、色度、PH等参数结果见表2，处理效率见表3。0025表1说明书CN102001800ACN102001810A3/5页500260027表2浓度单位MG/L0028说明书CN102001800ACN102001810A4/5页60029表30030说明书CN102001800ACN102001810A5/5页70031上述表2、3表明废水经过两级生化两级臭氧的处理工艺，COD的去除率为97，出水COD平均100MG/L以下，且微生物性状稳定，生化系统出水稳定。说明书CN102001800A。