技术领域
本发明涉及不饱和聚酯漆领域，具体涉及乐器、展柜、高档工艺品礼盒的 一种不含蜡的不饱和聚酯钢琴清面漆。
背景技术
目前，乐器、展柜、工艺品市场使用PU亮光清面漆，但是在应用过程 中存在着不少缺陷。PU亮光清面漆是由树脂(甲组份，含-OH基团)与固化 剂(乙组份，含-NCO基团)按一定的比例反应而成，属于双组份涂料，这种 类型的涂料硬度、丰满度达不到客户要求。另外，乐器、展柜、工艺品市场 使用含蜡型不饱和聚酯抛光体系，实际成膜过程中石蜡浮于漆膜表面，使表 面无光，须经多道砂磨、抛光工艺后才能得到亮光漆膜，对于有雕花、沟槽 等无法抛光的表面涂装而言则不实用。另一方面，含蜡型不饱和聚酯漆存在 厚涂，蜡在涂膜表面上浮不均匀，表面干燥不好，流平差，漆膜收缩率大， 难抛光、易碎裂等技术缺陷。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明提供了一种不含蜡的钢琴清面漆，提供一 种用于乐器、展柜、工艺品表面的涂装，主要是达到漆膜表面具有PU亮光清 面漆的流平性、平整度、光滑性，并且兼具含蜡型不饱和聚酯漆的厚涂施工 不易起痱子、暗泡特性，漆膜且具有高硬度、高丰满度、高光泽等特点，可 选择不抛光即可获得较好的涂膜物理性能，且容易大面积施工。
具体方案为，一种不含蜡的钢琴清面漆，其由按重量百分比计的如下组 分组成：不饱和聚酯树脂：70～90％；苯乙烯：2～15％；丁酯：1～10％； 丁酮：1～8％；助剂：0.1～4％。
上述的清面漆，其中，各组分的重量百分比分别为：不饱和聚酯树脂： 70～85％；苯乙烯：7～10％；丁酯：3～5％；丁酮：2～5％；助剂：0.1～ 4％。
上述的清面漆，其中，各组分的重量百分比分别为：不饱和聚酯树脂： 83％；苯乙烯：8％；丁酯：4％；丁酮：3％；助剂：2％。
上述的清面漆，其中，所述助剂包括流平剂、消泡剂、促进剂和引发剂， 所述流平剂为聚醚改性有机硅流平剂、氟改性聚丙烯酸酯流平剂中的至少一 种，所述消泡剂为溶剂型不含硅消泡剂。
上述的清面漆，其中，所述流平剂为聚醚改性有机硅流平剂和氟改性聚 丙烯酸酯流平剂按配比1:1组合而成。
上述的清面漆，其中，所述促进剂为6％Co2+的环烷酸钴与丁酯的混合溶 液，所述引发剂为活性氧的10％的过氧化丁酮的邻苯二甲酸二丁酯溶液。
本发明的另一面，一种不含蜡的钢琴清面漆的制备方法，包括以下步骤： 将不饱和聚酯树脂、苯乙烯、丁酯和丁酮搅拌均匀得到第一混合物；
将流平剂和消泡剂加入第一混合物中并搅拌均匀得到A组份；
将A组份分成两份，其中一份加入促进剂和稀释剂搅拌均匀得到B组份，另 一份加入引发剂和稀释剂搅拌均匀得到C组份；
将B组份和C组份混合并搅拌均匀。
上述的制备方法，其中，所述制备方法还包括，在常温条件下以每分钟 500～700的转速搅拌不饱和聚酯树脂、苯乙烯、丁酯和丁酮10分钟；所述稀 释剂为苯乙烯活性稀释剂。
上述的制备方法，其中，所述制备方法还包括，以每分钟800～1000的 转速下，在第一混合物中依次投入流平剂和消泡剂分散10～15min并且搅拌 温度控制在50℃以下。
上述的制备方法，其中，所述制备方法还包括，用200目的滤网过滤A 组份。
本发明提供了一种不含蜡的钢琴清面漆，其由按重量百分比计的如下组 分组成：不饱和聚酯树脂：70～90％；苯乙烯：2～15％；丁酯：1～10％； 丁酮：1～8％；助剂：0.1～4％，将PU亮光清面漆和含蜡型PE亮光清面漆结 合起来，利用二者的优点解决现有乐器、展柜、工艺品用漆的问题，主要是 达到漆膜表面具有PU亮光清面漆的流平性、平整度、光滑性，并且兼具含蜡 型不饱和聚酯漆的厚涂施工不易起痱子、暗泡特性，漆膜且具有高硬度、高 丰满度、高光泽等特点，可选择不抛光即可获得较好的涂膜物理性能，且容 易大面积施工。
具体实施方式
在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本发明更为彻底的 理解。然而，对于本领域技术人员而言显而易见的是，本发明可以无需一个 或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中，为了避免与本发明发生混淆， 对于本领域公知的一些技术特征未进行描述。
为了彻底理解本发明，将在下列的描述中提出详细的步骤以及详细的结 构，以便阐释本发明的技术方案。本发明的较佳实施例详细描述如下，然而 除了这些详细描述外，本发明还可以具有其他实施方式。
实施例1，一种不含蜡的钢琴清面漆，按重量百分比计的如下组分组成： 不饱和聚酯树脂：70％；苯乙烯：15％；丁酯：10％；丁酮：1％；助剂：4％。
实施例2，一种不含蜡的钢琴清面漆，按重量百分比计的如下组分组成： 不饱和聚酯树脂：85％；苯乙烯：2％；丁酯：1％；丁酮：8％；助剂：4％。
实施例3，一种不含蜡的钢琴清面漆，按重量百分比计的如下组分组成： 不饱和聚酯树脂：90％；苯乙烯：2％；丁酯：6.9％；丁酮：1％；助剂：0.1％。
实施例4，一种不含蜡的钢琴清面漆，按重量百分比计的如下组分组成： 不饱和聚酯树脂：80％；苯乙烯：10％；丁酯：5％；丁酮：2％；助剂：3％。
实施例5，一种不含蜡的钢琴清面漆，按重量百分比计的如下组分组成： 不饱和聚酯树脂：85％；苯乙烯：7％；丁酯：3％；丁酮：2％；助剂：3％。
实施例6，一种不含蜡的钢琴清面漆，按重量百分比计的如下组分组成： 不饱和聚酯树脂：83％；苯乙烯：8％；丁酯：4％；丁酮：3％；助剂：2％。
在本发明一优选但非限制的实施例中，助剂包括流平剂、消泡剂、促进 剂和引发剂，流平剂为聚醚改性有机硅流平剂、氟改性聚丙烯酸酯流平剂中 的至少一种，消泡剂为溶剂型不含硅消泡剂；进一步流平剂为聚醚改性有机 硅流平剂和氟改性聚丙烯酸酯流平剂按配比1:1组合而成，将两种流平剂结合 起来使用，氟改性聚丙烯酸酯流平剂能够起到底材润湿及抗缩孔效果，聚醚 改性有机硅能够起到快速流平、降低动态表面张力的效果，会得到更好的涂 膜效果，进一步，聚醚改性有机硅流平剂采用用丁酯稀释后的10％BYK-333， 氟改性聚丙烯酸酯流平剂为德国巴斯夫的EFKA-FL3777产品，溶剂型不含硅 消泡剂为德国巴斯夫的EFKA-PB2720产品。
在本发明一优选但非限制的实施例中，促进剂为6％Co2+的环烷酸钴与丁 酯的混合溶液，选用上海长风化工的6％的环烷酸钴产品，选用此种促进剂可 以使交联的胶膜更加均匀以及提升了交联后的胶膜强度。引发剂为含活性氧 的10％的过氧化丁酮的邻苯二甲酸二丁酯溶液，选用上海长风化工的过氧化 丁酮产品，选用此种引发剂可以达到在合理的时间内引发聚合完全，而且在 聚合过程中反应平稳，使漆膜具有高硬度、高丰满度、高光泽度等特点。
本发明的另一面，一种不含蜡的钢琴清面漆的制备方法，包括以下步骤：
步骤S1：将不饱和聚酯树脂、苯乙烯、丁酯和丁酮搅拌均匀得到第一混 合物，具体为在常温条件下以每分钟500～700的转速搅拌不饱和聚酯树脂、 苯乙烯、丁酯和丁酮10分钟；
步骤S2：将流平剂和消泡剂加入第一混合物中并搅拌均匀得到A组份， 具体为以每分钟800～1000的转速下，在第一混合物中依次投入流平剂和消 泡剂分散10～15min并且搅拌温度控制在50℃以下，并且用200目的滤网过 滤A组份，检查A组份的细度≤25微米；
步骤S3：将A组份分成两份，其中一份加入促进剂和稀释剂搅拌均匀得 到B组份，另一份加入引发剂和稀释剂搅拌均匀得到C组份，根据使用的粘 度的要求，加入相应量的稀释剂，稀释剂为活性稀释剂苯乙烯，其苯乙烯与 树脂要发生交联反应，起到架桥作用，故钢琴清面漆成膜物质≥99％，施工 时接近零VOC排放。具体可以为以下重量份配比组成：A分组50+稀释剂 15+促进剂1.4得到B组份；A分组50+稀释剂15+引发剂1.6得到C组 份，本组份是在常温条件下的配比；
步骤S4：将B组份和C组份混合并搅拌均匀,从B、C组份中取出等量两 份，混合均匀，过滤喷涂，其中B组份中加入促进剂应在12小时内使用完， C组份中加入引发剂应在4小时内使用完。
以下提供在不同的温度条件下每50份A中制备B和C组份需要加入的 促进剂和引发剂的量。
在喷涂施工不含蜡钢琴清面漆，可采用湿碰湿重涂喷涂，每遍间隔时间 25～30min，喷涂2～3遍，可以得到更好的涂膜丰满度、平整性。
以下提供使用本发明的清面漆与传统旧产品性能检测数据如下：
从列表中可以看出，与传统的PU亮光清面漆和含蜡型不饱聚酯漆相对 比，本发明的各项性能指标均显示优良，某些性能甚至超过后两者,具体为漆 膜流平性好，表面光滑、平整。漆膜具有高硬度、高丰满度、高光泽度等特 点。厚涂施工不易起痱子、暗泡，可以获得较厚涂层。涂膜成膜物质≥99％， 施工时VOC排放接近零。无需抛光，且容易大面积施工。
综上所述，本发明提供了一种不含蜡的钢琴清面漆，其由按重量百分比 计的如下组分组成：不饱和聚酯树脂：70～90％；苯乙烯：2～15％；丁酯： 1～10％；丁酮：1～8％；助剂：0.1～4％，将PU亮光清面漆和含蜡型PE亮 光清面漆结合起来，利用二者的优点解决现有乐器、展柜、工艺品用漆的问 题，主要是达到漆膜表面具有PU亮光清面漆的流平性、平整度、光滑性，并 且兼具含蜡型不饱和聚酯漆的厚涂施工不易起痱子、暗泡特性，漆膜且具有 高硬度、高丰满度、高光泽等特点，可选择不抛光即可获得较好的涂膜物理 性能，且容易大面积施工。
以上对本发明的较佳实施例进行了描述。需要理解的是，本发明并不局 限于上述特定实施方式，其中未尽详细描述的设备和结构应该理解为用本领 域中的普通方式予以实施；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技 术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案 做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例，这并不影响 本发明的实质内容。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明 的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于 本发明技术方案保护的范围内。