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1、10申请公布号CN104151589A43申请公布日20141119CN104151589A21申请号201410374212622申请日20140801C08J7/04200601C09D175/06200601B29C55/14200601C08L67/0020060171申请人苏州袭麟光电科技产业有限公司地址215422江苏省苏州市太仓市浮桥镇老闸区兴闸路8号72发明人金国华黄强杨乐施燕陈胜利周明许修安叶建明韩州朱霆54发明名称一种低雾度聚酯薄膜的制备方法57摘要本发明属于聚酯薄膜技术领域，具体涉及一种低雾度聚酯薄膜的制备方法。所述低雾度聚酯薄膜的制备方法，包括如下步骤配置涂布液；聚酯薄。
2、膜纵向拉伸；涂布液涂布；聚酯薄膜横向拉伸。本发明提供的技术方案将硅溶胶加入涂布液中，对聚酯表面进行涂布改性，提高薄膜爽滑性能的特性，解决了未添加填料的低雾度薄膜难以加工的问题，方法简单易行，适于推广。51INTCL权利要求书1页说明书4页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书4页10申请公布号CN104151589ACN104151589A1/1页21一种低雾度聚酯薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤1配置涂布液将固化剂、粘合剂、表面活性剂、硅溶胶和水搅拌均匀，获得水性涂布液；2聚酯薄膜纵向拉伸将聚酯铸片经6080温度的辊筒进行预热，再进入红外线加热器内进行加。
3、热，然后纵向拉伸形成膜片；3涂布液涂布对膜片的一面或两面进行电晕处理，并将步骤1配置的水性涂布液均匀涂覆电晕面上；4聚酯薄膜横向拉伸将步骤3涂布后的膜片在100130的温度下横拉预热，涂布液固化后，进行横向拉伸，经热定型处理和烘干固化，冷却后牵引收卷，制得低雾度聚酯薄膜。2根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，所述硅溶胶的粒径为5080NM。3根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，所述固化剂为异氰酸酯，所述粘合剂为聚丙烯酸酯和聚酯的13重量配比的混合物，所述表面活性剂为甲基苯硫酸铵盐、聚乙二醇壬酚醚硫酸铵盐、聚乙二醇壬酚醚硫酸钠盐、聚乙二醇辛酚醚铵盐阴离子型表面活性剂或聚乙二醇硬酯酸醚、乙。
4、二醇壬酚醚、聚乙二醇辛酚醚、聚乙二醇癸基醚、聚乙二醇三癸基醚、聚乙二醇月桂醚等非离子型表面活性剂。4根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，所述异氰酸酯选自甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、己二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯或异佛尔酮二异氰酸酯。5根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，所述涂布液各组分按重量配比如下6根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，所述步骤2中纵向拉伸的线速度为2575M/MIN、纵向拉伸倍率为2835倍。7根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，所述步骤3涂布液涂层的湿膜厚度为2070M。本发明水性涂布液可通过涂布机的扇形模头喷涂在膜片，再用挤压式线棒进行刮涂，将。
5、水性涂布液均匀涂覆在膜片上，通过挤压式线棒对涂层进行精确计量，能到所需的湿膜厚度。8根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，所述步骤4中横向拉伸的倍率为35倍。9根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，所述步骤4中热定型处理和烘干固化温度为200240，冷却至5070，牵引收卷。权利要求书CN104151589A1/4页3一种低雾度聚酯薄膜的制备方法技术领域0001本发明属于聚酯薄膜技术领域，具体涉及一种低雾度聚酯薄膜的制备方法。背景技术0002聚酯薄膜因具有拉伸强度大、弹性模量高、耐冲击强度大、耐热耐寒性好、电绝缘性能佳等优良特点，而广泛应用于众多行业和领域。聚酯薄膜因应用领域的不同，其性能。
6、的要求也各不相同。常规领域中多注重聚酯薄膜的机械性能和稳定性等，而对光学性能则要求不高。0003在光学薄膜领域，为了使薄膜达到低雾度、高透光率的效果，生产过程需要降低添加剂比如SIO2的使用量，但降低添加剂含量会使薄膜表面粗糙度降低，使后续的分切收卷非常困难。0004因此为了使聚酯薄膜在光学领域的使用更为普遍，急需解决兼顾加工性能与高透光率的技术方案。发明内容0005本发明提供了一种低雾度聚酯薄膜的制备方法，用以解决加工性能与低雾度无法兼得的问题。0006为了解决上述技术问题，本发明的技术方案是所述低雾度聚酯薄膜的制备方法，包括如下步骤00071配置涂布液将固化剂、粘合剂、表面活性剂、硅溶胶和。
7、水搅拌均匀，获得水性涂布液；00082聚酯薄膜纵向拉伸将聚酯铸片经6080温度的辊筒进行预热，再进入红外线加热器内进行加热，然后纵向拉伸形成膜片；00093涂布液涂布对膜片的一面或两面进行电晕处理，并将步骤1配置的水性涂布液均匀涂覆电晕面上；00104聚酯薄膜横向拉伸将步骤3涂布后的膜片在100130的温度下横拉预热，涂布液固化后，进行横向拉伸，经热定型处理和烘干固化，冷却后牵引收卷，制得低雾度聚酯薄膜。0011优选地是，硅溶胶的粒径为5080NM。0012优选地是，所述固化剂为异氰酸酯，所述粘合剂为聚丙烯酸酯和聚酯的13重量配比的混合物，所述表面活性剂为甲基苯硫酸铵盐、聚乙二醇壬酚醚硫酸铵盐。
8、、聚乙二醇壬酚醚硫酸钠盐、聚乙二醇辛酚醚铵盐阴离子型表面活性剂或聚乙二醇硬酯酸醚、乙二醇壬酚醚、聚乙二醇辛酚醚、聚乙二醇癸基醚、聚乙二醇三癸基醚、聚乙二醇月桂醚等非离子型表面活性剂。0013本发明所述的异氰酸酯是异氰酸的各种酯的总称，其包括NCO基团，按NCO基团的数量分类，包括单异氰酸酯RNCO和二异氰酸酯OCNRNCO说明书CN104151589A2/4页4及多异氰酸酯等种类。0014优选地是，所述异氰酸酯选自甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、己二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯或异佛尔酮二异氰酸酯。0015优选地是，所述涂布液各组分按重量配比如下00160017优选地是，所述步骤2中纵向。
9、拉伸的线速度为2575M/MIN、纵向拉伸倍率为2835倍。0018优选地是，所述步骤3涂布液涂层的湿膜厚度为2070M。本发明水性涂布液可通过涂布机的扇形模头喷涂在膜片，再用挤压式线棒进行刮涂，将水性涂布液均匀涂覆在膜片上，通过挤压式线棒对涂层进行精确计量，能到所需的湿膜厚度。0019优选地是，所述步骤4中横向拉伸的倍率为35倍。0020优选地是，所述步骤4中热定型处理和烘干固化温度为200240，冷却至5070，牵引收卷。0021本发明提供的技术方案将硅溶胶加入涂布液中，对聚酯表面进行涂布改性，提高薄膜爽滑性能的特性，解决了未添加填料的低雾度薄膜难以加工的问题，方法简单易行，适于推广。具体。
10、实施方式0022实施例10023所述低雾度聚酯薄膜的制备方法，包括如下步骤00241配置涂布液将固化剂、粘合剂、表面活性剂、硅溶胶和水搅拌均匀，获得水性涂布液；00252聚酯薄膜纵向拉伸将聚酯铸片经6080温度的辊筒进行预热，再进入红外线加热器内进行加热，然后以25M/MIN线速度和35纵向拉伸倍率倍纵向拉伸形成膜片；00263涂布液涂布对膜片的一侧进行电晕处理，并将步骤1配置的水性涂布液均匀涂覆在电晕面上，涂布液涂层的湿膜厚度为20M；00274聚酯薄膜横向拉伸将步骤3涂布后的膜片在100130的温度下横拉预热，涂布液固化后，以5倍横向拉伸的倍率进行横向拉伸，在200240温度下热定型处理和。
11、烘干固化，在5070冷却后牵引收卷，制得低雾度聚酯薄膜。所述涂布液各组分按重量配比如下0028说明书CN104151589A3/4页500290030所述硅溶胶的粒径为50NM。0031实施例20032所述低雾度聚酯薄膜的制备方法，包括如下步骤00331配置涂布液将固化剂、粘合剂、表面活性剂、硅溶胶和水搅拌均匀，获得水性涂布液；00342聚酯薄膜纵向拉伸将聚酯铸片经6080温度的辊筒进行预热，再进入红外线加热器内进行加热，然后以75M/MIN线速度和28纵向拉伸倍率倍纵向拉伸形成膜片；00353涂布液涂布对膜片的两侧进行电晕处理，并将步骤1配置的水性涂布液均匀涂覆电晕面上，涂布液涂层的湿膜厚度。
12、为70M；00364聚酯薄膜横向拉伸将步骤3涂布后的膜片在100130的温度下横拉预热，涂布液固化后，以3倍横向拉伸的倍率进行横向拉伸，在200240温度下热定型处理和烘干固化，在5070冷却后牵引收卷，制得低雾度聚酯薄膜。所述涂布液各组分按重量配比如下00370038所述硅溶胶的粒径为80NM。0039对比实验0040表1为实施例1、实施例2和双向拉伸聚酯薄膜的性能测试数据。0041表10042说明书CN104151589A4/4页6光透过率雾度动摩擦系数实施例1920800309实施例290110281对比例911006010043通过表1可知，通过本发明方法获得的聚酯薄膜保持了高的光透过率，低的雾度，虽然没有添加防粘连的，但表面仍然爽滑。说明书CN104151589A。