技术领域
本发明涉及一种医疗器械，尤其是一种放射性支架及其制备方法。
背景技术
恶性肿瘤是威胁人类健康的重大疾病，因恶性肿瘤所引起的血管、消 化道、泌尿生殖道、呼吸道等管腔组织的狭窄和梗阻亦一直困扰着人类。 管腔内支架对于缓解此类症状具有良好效果，但支架本身对肿瘤治疗并无 意义，随着肿瘤增生可能出现再次狭窄，导致需要再次植入支架。而利用 低能放射性核素，如125I和103Pd，进行近距离照射在肿瘤治疗中已经得到 肯定。而且，125I和103Pd已经作为商业化产品应用于临床近距离治疗肿瘤， 临床效果良好。因此，将管腔内支架与放射性核素125I或103Pd结合起来制 成放射性支架，不仅可以利用支架的机械支撑作用预防各种管腔再狭窄等 症状，还可以利用放射性核素的射线杀死杀伤肿瘤细胞，达到治疗或者控 制恶性肿瘤的目的，从而避免再狭窄导致的病情恶化。
鉴于放射性125I支架的优势，其制备技术引起广泛重视，目前将125I 应用在放射性支架领域主要有如下几个思路：在普通支架上捆绑放射性125I 粒子制成放射性支架，但是编织管腔支架的金属丝或塑料丝直径一般很细 (直径0.05-0.2mm)，而放射性粒子直径一般为0.8mm，很难将其固定于 管腔支架上；而且该法要借助其他材料包裹或捆绑放射性粒子，体内管腔 组织内径较小，放射性粒子的引入增大了支架的整体体积，植入腔道占用 较大空间，影响正常生理活动，官腔内物质运动亦容易造成放射性粒子脱 落，从而损伤其它组织；另外，放射性核素集中于放射性粒子部位，在支 架表面分布不均匀，靠近放射性粒子的肿瘤细胞能够得到很好的控制，而 远离放射性粒子的肿瘤细胞受射线剂量相对较小，受控效果较差，引入更 多放射性粒子反而会加重前述问题；另有提出使用离子形态放射层，使用 该法制备的放射性支架，因为放射性核素以离子状态存在，易于在各种高 分子材料中扩散，易溶于水性介质，从而会被人体吸收并随代谢分布于体 内各处，造成体内放射性污染，损伤正常组织机能，因此需要及时严格的 监控体内放射性核素水平，一旦发现微量泄露，必须立刻手术取出支架并 进行体内去除放射性污染处理，容易给病人带来痛苦及二次伤害，并且， 离子形态的125I渗透能力更强，而且碘元素易于在甲状腺富集，如果125I 渗透并富集于甲状腺，会造成甲状腺功能不可逆转的损伤，这是临床上不 希望见到的。
103Pd是另外一种常用于放射治疗的核素，其半衰期16.96天，平均射 线能量21-23keV，初始剂量率0.20-0.24Gy/h，相比125I，其对于增殖较 快、分化较差的肿瘤具有更好的疗效，而且其能量较低，易于防护，穿透 射程适中，不会对周围正常组织造成不必要的损害。现有技术中曾有使用 电镀工艺将103Pd电镀于普通支架上，但是由于放射性物质质量极微，其单 分子层总面积不及支架表面积大，在不添加载体的情况下，属于微观世界 范畴，其反应动力学行为难以估摸，一般反应难以控制，亦难以实现在支 架上的均匀分布。而且，电镀工艺与设备一般较为复杂，不适于放射性物 质的操作，也不适用于像放射性粒子、放射性支架之类的体积较小的产品 的批量生产。另外，支架属于弹性体，在使用过程中会经过多次压缩与弹 伸的过程，而该放射性支架中103Pd暴露于表面，植入人体后放射性103Pd 直接与人体接触，由于支架压缩、弹伸的机械力与官腔组织内部物质运动、 腐蚀等作用，容易造成103Pd的脱落，从而随着管腔内部物质的运动扩散迁 移到体内其他部位，造成正常组织的损伤，这是临床中不希望见到的。
鉴于上述缺陷，本发明创作者经过长时间的研究和实践终于获得了本 创作。
发明内容
本发明的目的在于提供一种放射性支架，用以克服上述技术缺陷。
为实现上述目的，本发明提供一种放射性支架，其特征在于，包括一 支架本体、一提供放射源的放射层与一保护层，所述保护层包覆所述放射 层；
所述放射层样貌呈微米级微粒状、微米森林状或复合样貌。
较佳的，所述放射层包括放射性物质，所述放射层覆盖支架的全部或 一部分，所述保护层包覆支架的全部。
较佳的，所述放射性物质为Ag125I；所述保护层材料为聚氨酯。
较佳的，所述放射性物质为103Pd；所述保护层材料为聚氨酯。
较佳的，所述放射层厚度为1-10μm，所述保护层厚度为10-100μm。
一种放射性支架的制备方法，其特征在于包括步骤：
S1，支架依次经过喷砂糙化表面、丙酮清洗除油、硝酸浸蚀除去附着 物、水洗除去残留的酸液；
S2，采用喷淋法活化支架表面，使支架表面附着晶粒；
S3，采用化学沉积的方法，使支架表面均匀覆盖放射层；
S4，将支架用去离子水清洗干净，并在温和气流下干燥；
S5，采用旋转固化的方法，使支架表面形成聚氨酯保护层。
较佳的，所述步骤S2具体为，在支架表面喷淋0.5-50g/L银氨溶液， 其中氨水浓度5-25％，随后喷淋1-20％肼溶液，然后干燥至无明显液滴附着。
较佳的，所述步骤S3具体为，
S3a，先将支架置于由0.5-2.5g/L硝酸银、15-25％氢氧化铵、40-80g/L 乙二胺四乙酸二钠、0.2-2％肼组成的溶液中，室温下搅拌反应1-10h；
S3b，将支架取出并用去离子水清洗干净；
S3c，再将支架置于由6-12g/L溴化钠、0.1-0.5g/L碘化钠、1-100mg/L 氢氧化钠、5-10g/L铁氰化钾及放射性125I组成的溶液中，室温下搅拌反应 10-30min。
较佳的，所述步骤S5具体为，旋转条件下在支架表面涂刷5-20％脂肪 族聚碳酸型聚氨酯的四氢呋喃溶液，并一直旋转至干燥，而形成所述保护 层。
较佳的，其还包括步骤S3b’，所述步骤S3b’在所述步骤S3b与所述 步骤S3c之间，具体为，将不需要覆盖所述放射层的支架部分用0.5-5mol/L 的硝酸清洗以除去覆盖的银层，并将支架用去离子水清洗干净。
较佳的，所述步骤S2具体为，在支架表面喷淋0.2-1g/L氯化钯溶液， 随后喷淋5-20％肼溶液，然后干燥至无明显液滴附着。
较佳的，所述步骤S3具体为，将支架置于由0.1-2g/L氯化钯、15-25％ 氢氧化铵、50-90g/L乙二胺四乙酸二钠、0.2-2％肼及放射性103Pd组成的溶 液中，35-50℃搅拌反应2-5h。
较佳的，所述步骤S5具体为，旋转条件下在支架表面涂刷5-20％聚醚 型聚氨酯的四氢呋喃溶液，并一直旋转至干燥，而形成所述保护层。
较佳的，对于支架上不需要覆盖放射层的部分，在所述步骤S1结束后， 所述步骤S2开始前，用滤纸包裹支架不需要携带放射性的部位，再转至步 骤S2；所述步骤S2结束后，所述步骤S3开始前，揭去滤纸，转至所述步 骤S3。
与现有技术比较，本发明的有益效果在于：
本发明所述的放射性支架中，放射性物质化学形态，如碘化银(Ag125I) 和钯(103Pd)，均难溶于各种介质，且以微米级微粒、微米森林或复合结 构的形式附着于普通支架表面，且在聚氨酯覆膜的保护下，不与人体直接 接触，亦不易发生渗透泄露，安全性强；
放射层与支架为一整体，不易脱落；放射层与保护层厚度共计仅有 10-110μm，体积小，植入腔道不会占用过多空间，不会影响腔道内物质运 动，实用性强；
放射层覆盖部分，放射性核素分布均匀，而且可以根据需要选择性的 覆盖部分支架表面，灵活性强；
所用制备方法简单、易于操作，放射性原料利用率高，所用聚氨酯为 良性弹性体，不易破裂，而且具有良好的生物相容性和稳定性。
附图说明
图1为本发明放射性支架的整体示意图；
图2为本发明放射性支架的部分放大示意图；
图3为本发明放射性支架实施例一的放射层电镜照片；
图4为本发明放射性支架实施例九的放射层电镜照片。
具体实施方式
以下结合附图，对本发明上述的和另外的技术特征和优点作更详细的 说明。
请参阅图1所示，图1为本发明放射性支架的整体示意图，其整体结 构为普通的支架，为管状网式结构，其包括两端的环状收口以及连接所述 环状收口的网状结构。
请参阅图2所示，图2为本发明放射性支架的部分放大示意图，其为 所述环状收口或所述网状结构的部分放大示意图，其包括一本体层1，一 放射层2以及一保护层3。
实施例一：
所述本体层1为支架本体结构，其可以为金属材质、塑料材质或其他 材质。在所述本体层1外，存在一放射层2，所述放射层2包括放射性物 质，作为本发明所述的放射性支架的放射源，所述放射层2为覆盖在所述 本体层1外的一层，其样貌表现为微米级微粒状、微米柱(微米森林)状 或复合样貌，所述复合样貌，为微米级微粒状与支架本体原貌的结合或微 米柱(微米森林)状与支架本体原貌的结合。在实施例一中，所述放射层 2中的放射性物质为Ag125I，所述放射层2还包括非放射性材料，以溴化银 (AgBr)为主，所述放射层2呈微米柱(微米森林)状样貌。所述放射层 2外部存在一保护层3，所述保护层3包覆或包含所述放射层2；所述放射 层2与所述保护层3之间并没有明显的界限。本实施例中，所述保护层3 为脂肪族聚碳酸型聚氨酯，其包覆在所述放射层2之外，并且填充在所述 放射层2中的微粒结构之间、微米柱结构之间的空隙，所述空隙不必然被 所述保护层3完全填满，可能还包括气体。
请参阅图3所示，其为本发明放射性支架所述放射层2的电镜照片， 放大倍数5000倍，所述放射层2主要为AgBr，放射性Ag125I均匀掺杂于其 中，构成所述放射层2材料局部呈现微米柱状，整体所述放射层2形成微 米森林状，具有狭窄的孔洞。
所述保护层3包覆在此种所述放射层2之外，对所述放射层2相对松 散的结构起到一个固定的作用，防止所述放射层2中的物质从所述放射性 支架中脱落，同时，由于所述放射层2结构中存在相对较大、较多的空隙， 所述放射层2同时也起到了对于所述保护层3的保护固定作用，防止保护 层3从所述放射层2外剥离出去。
所述放射层2可以完全覆盖所述本体层1，也可以部分覆盖所述本体 层1；所述保护层3可以完全包覆或部分包覆所述本体层1，但应完全包覆 所述放射层2，通常所述保护层3均为完全包覆所述本体层1，这样无论对 所述放射层2或所述保护层3来说，材料会更加稳定，不易脱落泄露。
实施例一所述放射性支架的制备方法为：
步骤S1，预处理：支架依次经过喷砂糙化表面、丙酮清洗除油、硝酸 浸蚀除去附着物、水洗除去残留的酸液；
步骤S2，活化：采用喷淋法活化支架表面，使支架表面附着晶粒；
步骤S3a，沉积银：采用化学沉积的方法，使支架表面均匀覆盖银层；
步骤S3b，清洗：将支架取出并用去离子水清洗干净；
步骤S3c，卤化：采用化学吸附的方法，使支架表面的银层因卤化而 形成所述放射层；
步骤S4，清洗并干燥：将支架用去离子水清洗干净，并在温和气流下 干燥；
步骤S5，覆膜：采用旋转固化的方法，使支架表面形成聚氨酯保护层。
其中，所述步骤S2中，所述的喷淋法活化支架表面的方法为：在支架 表面喷淋10g/L银氨溶液，其中氨水浓度12.5％，随后喷淋10％肼溶液，然 后干燥至无明显液滴附着；
其中，所述步骤S3a中，所述的化学沉积银的方法为：将支架置于由 2g/L硝酸银、18％氢氧化铵、50g/L乙二胺四乙酸二钠、0.5％肼组成的溶液 中，室温下搅拌反应3h；
其中，所述步骤S3c中，所述的化学吸附的方法为：将支架置于由10g/L 溴化钠、0.3g/L碘化钠、10mg/L氢氧化钠、8g/L铁氰化钾及放射性125I 组成的溶液中，室温下搅拌反应15min，使支架表面的银层卤化而形成所 述放射层，溴化银与放射性碘化银混合存在，局部呈微米柱状、整体呈微 米森林状，所述放射层2整体呈不规则连通，空隙相对较多。
其中，所述步骤S5中，所述的旋转固化的方法为：旋转条件下在支架 表面涂刷一层10％脂肪族聚碳酸型聚氨酯的四氢呋喃溶液，并一直旋转至 干燥，而形成一层聚氨酯保护层；
实施例一所得到的放射性支架，所述放射层2厚度为5μm，所述保护 层3厚度为50μm。
实施例二：
实施例二与实施例一的区别在于，
其中，所述步骤S2中，所述的喷淋法活化支架表面的方法为：在支架 表面喷淋0.5g/L银氨溶液，其中氨水浓度5％，随后喷淋20％肼溶液，然后 干燥至无明显液滴附着；
其中，所述步骤S3a中，所述的化学沉积银的方法为：将支架置于由 0.5g/L硝酸银、15％氢氧化铵、40g/L乙二胺四乙酸二钠、2％肼组成的溶液 中，室温下搅拌反应10h；
其中，所述步骤S3c中，所述的化学吸附的方法为：将支架置于由6g/L 溴化钠、0.5g/L碘化钠、1mg/L氢氧化钠、5g/L铁氰化钾及放射性125I组 成的溶液中，室温下搅拌反应10min，使支架表面的银层卤化而形成所述 放射层，溴化银与放射性碘化银混合存在，呈较疏的微米森林状结构。
实施例二所得到的放射性支架，所述放射层2厚度为1μm。
实施例三：
实施例三与实施例一的区别在于，
其中，所述步骤S2中，所述的喷淋法活化支架表面的方法为：在支架 表面喷淋50g/L银氨溶液，其中氨水浓度25％，随后喷淋1％肼溶液，然后 干燥至无明显液滴附着；
其中，所述步骤S3a中，所述的化学沉积银的方法为：将支架置于由 2.5g/L硝酸银、25％氢氧化铵、80g/L乙二胺四乙酸二钠、0.2％肼组成的溶 液中，室温下搅拌反应1h；
其中，所述步骤S3c中，所述的化学吸附碘的方法为：将支架置于由 12g/L溴化钠、0.1g/L碘化钠、100mg/L氢氧化钠、10g/L铁氰化钾及放射 性125I组成的溶液中，室温下搅拌反应30min，使支架表面的银层卤化而形 成所述放射层，溴化银与放射性碘化银混合存在，所述放射层2整体呈不 规则连通，空隙相对较少，呈较密的微米森林状结构。
实施例三所得到的放射性支架，所述放射层2厚度为10μm。
实施例四：
实施例四与实施例一的区别在于，
在所述步骤S5中，脂肪族聚碳酸型聚氨酯的四氢呋喃溶液的质量浓度 为20％，得到的放射性支架所述保护层3厚度为100μm。
实施例五：
实施例五与实施例一的区别在于，
在所述步骤S5中，脂肪族聚碳酸型聚氨酯的四氢呋喃溶液的质量浓度 为5％，得到的放射性支架所述保护层3厚度为10μm。
实施例六：
由于肿瘤位置集中，且肿瘤附近组织对于放射性敏感，所以需要在支 架上面做部分放射层，实施例六与实施例一的区别在于，实施例六所得到 的放射性支架只在中间三分之一的位置具有所述放射层2。
其具体制备方法与实施例一不同之处在于，
其还包括步骤S3b’，所述步骤S3b结束后，转至所述步骤S3b’，所 述步骤S3b’结束后，转至所述步骤S3c。
所述步骤S3b’具体为：将支架两端各三分之一处用1mol/L的硝酸溶 液清洗并擦除，去除银层，然后将支架用去离子水清洗干净。
本实施例中，所述步骤S3结束后形成所述放射层，呈复合样貌，所述 复合样貌为微米柱(微米森林)状与支架原貌的结合，更确切的说部分支 架为放射层的微米柱(微米森林)状，部分支架为支架本体的原貌。
实施例七：
其具体制备方法与实施例二不同之处在于，
其还包括步骤S3b’，所述步骤S3b结束后，转至所述步骤S3b’，所 述步骤S3b’结束后，转至所述步骤S3c。
所述步骤S3b’具体为：将支架两端各三分之一处用0.5mol/L的硝酸 溶液清洗并擦除，去除银层，然后将支架用去离子水清洗干净。
实施例八：
其具体制备方法与实施例三不同之处在于，
其还包括步骤S3b’，所述步骤S3b结束后，转至所述步骤S3b’，所 述步骤S3b’结束后，转至所述步骤S3c。
所述步骤S3b’具体为：将支架两端各三分之一处用5mol/L的硝酸溶 液清洗并擦除，去除银层，然后将支架用去离子水清洗干净。
实施例九：
所述本体层1为支架本体结构，其可以为金属材质、塑料材质或其他 材质。在所述本体层1外，存在一放射层2，所述放射层2包括放射性物 质，作为本发明所述的放射性支架的放射源，所述放射层2为覆盖在所述 本体层1外的一层，其样貌表现为微米级微粒状或复合样貌，在实施例九 中，所述放射层2中的放射性物质为103Pd，所述放射层2还包括非放射性 材料，以非放射性钯为主，呈微米级微粒状。所述放射层2外部存在一保 护层3，所述保护层3包覆所述放射层2。
本实施例中，所述保护层3为聚醚型聚氨酯，其包覆在所述放射层2 之外，并且填充在所述放射层2中的微粒结构之间的空隙，所述空隙不必 然被所述保护层3完全填满，可能还包括气体。
请参见图4所示，其为本发明实施例九的所述放射层2电镜照片，所 述放射层呈微米级微粒状，为103Pd与冷钯的颗粒状样貌，其中，103Pd均匀 混合于非放射性钯中，被非放射性钯包裹在其中，不会暴露在表面。另外 所述放射层2之外还存在一保护层3，相当于103Pd的双保险。
实施例九所述放射性支架的制备方法为：
步骤S1，预处理：支架依次经过喷砂糙化表面、丙酮清洗除油、硝酸 浸蚀除去附着物、水洗除去残留的酸液；
步骤S2，活化：采用喷淋法活化支架表面，使支架表面附着晶粒；
步骤S3，沉积钯：采用化学沉积的方法，使支架表面均匀覆盖所述放 射层；
步骤S4，清洗并干燥：将支架用去离子水清洗干净，并在温和气流下 干燥；
步骤S5，覆膜：采用旋转固化的方法，使支架表面形成聚氨酯保护层。
其中，所述步骤S2中，所述的喷淋法活化支架表面的方法为：在支架 表面喷淋0.5g/L氯化钯溶液，随后喷淋10％肼溶液，然后干燥至无明显液 滴附着；
其中，所述步骤S3中，所述的化学沉积钯的方法为：将支架置于由 1g/L氯化钯、20％氢氧化铵、70g/L乙二胺四乙酸二钠、0.5％肼及放射性103Pd 组成的溶液中，40℃搅拌反应3h，使支架表面均匀覆盖所述放射层；
其中，所述步骤S5中，所述的旋转固化的方法为：旋转条件下在支架 表面涂刷一层10％聚醚型聚氨酯的四氢呋喃溶液，并一直旋转至干燥，而 形成一层聚氨酯保护层。
实施例十
实施例十与实施例九相似，区别在于，
所述步骤S2具体为：在支架表面喷淋0.2g/L氯化钯溶液，随后喷淋 20％肼溶液，然后干燥至无明显液滴附着；
所述步骤S3具体为：将支架置于由0.1g/L氯化钯、15％氢氧化铵、50g/L 乙二胺四乙酸二钠、0.2％肼及放射性103Pd组成的溶液中，50℃搅拌反应2h， 使支架表面均匀覆盖所述放射层；
所述步骤S5具体为：旋转条件下在支架表面涂刷一层5％聚醚型聚氨 酯的四氢呋喃溶液，并一直旋转至干燥，而形成一层聚氨酯保护层。
实施例十一
实施例十一与实施例九相似，区别在于，
所述步骤S2具体为：在支架表面喷淋1g/L氯化钯溶液，随后喷淋5％ 肼溶液，然后干燥至无明显液滴附着；
所述步骤S3具体为：将支架置于由2g/L氯化钯、25％氢氧化铵、90g/L 乙二胺四乙酸二钠、2％肼及放射性103Pd组成的溶液中，35℃搅拌反应5h， 使支架表面均匀覆盖所述放射层；
所述步骤S5具体为：旋转条件下在支架表面涂刷一层20％聚醚型聚氨 酯的四氢呋喃溶液，并一直旋转至干燥，而形成一层聚氨酯保护层。
实施例十二
实施例十二与实施例九相似，区别在于，
实施例十二所得到的支架中，所述放射层2只覆盖支架的一部分，其 制备方法与实施例九的区别在于：
所述步骤S2开始前，所述步骤S1结束后，用滤纸包裹支架不需要携 带放射性的部位，再转至步骤S2；
所述步骤S2结束后，所述步骤S3开始前，揭去滤纸，转至所述步骤 S3。
这样，被滤纸遮盖住的部分在最终不会覆盖所述放射层2。
本实施例中，所述步骤S3结束后形成所述放射层，呈复合样貌，所述 复合样貌为微米微粒状与支架原貌的结合，更确切的说部分支架为放射层 的微米微粒状，部分支架为支架本体的原貌。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，对发明而言仅仅是说明性的，而 非限制性的。本专业技术人员理解，在发明权利要求所限定的精神和范围 内可对其进行许多改变，修改，甚至等效，但都将落入本发明的保护范围 内。