机床监测装置.pdf

本发明涉及一种机床监测装置，它具识别装置(32)，设计用于借助于对辐射(S)的谱分析处理，识别出在机床工作部位(34)里存在的材料种类，尤其是人体组织。建议：识别装置(32)具有一个传感器单元(50)，它具有至少一个用于在波长范围(WL2)内检测辐射的敏感范围(64)，这波长范围至少部分地在红外谱(72)里。

1.  机床监测装置，具有识别装置(32)，它设计用于借助于对辐射(S)的谱分析处理，对在机床工作部位(34)里的材料种类，尤其是人体组织进行存在识别，其特征在于，识别装置(32)具有传感器单元(50)，传感器单元具有至少一个用于在波长范围(WL₂)内检测辐射的敏感范围(64)，该范围至少部分地在红外谱(72)里。

2.  按权利要求1所述的机床监测装置，其特征在于，识别装置(32)设计用于借助于对反射在检查物体上的辐射(S_R)的反射谱的分析处理，进行存在识别。

3.  按权利要求1或2所述的机床监测装置，其特征在于，所述波长范围(WL₂)是近中的红外范围，尤其是在约700nm和3000nm之间的范围。

4.  按上述权利要求之一所述的机床监测装置，其特征在于，识别装置(32)具有发射单元(48)，它设计用于发射具有至少一个在波长范围(WL₂)内的辐射部分的辐射。

5.  按权利要求4所述的机床监测装置，其特征在于，发射单元(48)设计用于发射在波长范围(WL₂)内和在至少另一个波长范围(WL₁，WL₂，WL₃)内的辐射。

6.  按权利要求4或5所述的机床监测装置，其特征在于，发射单元(48)设计用于脉动地发射至少一个波长范围(WL₁，WL₂，WL₃，WL₄)的辐射。

7.  按权利要求5所述的机床监测装置，其特征在于，所述至少另一个波长范围(WL₁)的辐射位于可见谱范围(70)里。

8.  按权利要求5所述的机床监测装置，其特征在于，所述至少另一个波长范围(WL₁)的辐射位于紫外谱范围(68)里。

9.  按上述权利要求之一所述的机床监测装置，其特征在于光学单元(54)，它设计用于确定识别装置(32)的反应范围(36)。

10.  按上述权利要求之一所述的机床监测装置，其特征在于，传感器单元(50)具有至少另一个敏感范围(64)，该敏感范围设计用于在另一个波长范围(WL₁)里检测辐射。

11.  按上述权利要求之一所述的机床监测装置，其特征在于，识别装置(32)具有分析处理部件(80)，它设计用于借助至少两个辐射特征值(V₁，V₂，V₃)的关系来识别材料种类的存在。

12.  按权利要求11所述的机床监测装置，其特征在于，所述至少两个辐射特征值(V₁，V₂，V₃)分别配属于在不同的波长范围(WL₁，WL₂，WL₃)里的辐射部分。

13.  按上述权利要求之一所述的机床监测装置，其特征在于，至少一个波长范围(WL₁，WL₂，WL₃)设计成窄带的。

14.  按上述权利要求之一所述的机床监测装置，其特征在于，识别装置(32)具有至少两个发射单元(48)和/或至少两个接收单元(50)。

15.  机床，尤其是切割机床或锯削机床，具有按上述权利要求之一所述的机床监测装置。

机床监测装置
技术背景
本发明涉及一种按权利要求1的前序部分所述的机床监测装置。
业已得知一种机床监测装置，它具有一个用于识别材料的识别装置。
发明内容
本发明从一种机床监测装置或机床监测设备出发，它具有一种识别装置，其设计用于借助于对辐射的谱分析处理，识别出在一个机床工作部位里存在的材料，尤其是人体组织。
建议：识别装置具有一个传感器单元，它具有至少一个用于在一个波长范围内检测辐射的敏感范围，其至少部分地在红外谱里。所谓“机床工作范围“尤其是应理解为直接就在刀具周围的机床的一个范围。所谓“直接”就在刀具周围的一个范围尤其应该指一个范围，在这范围中它的每个点离刀具具有最小的距离，这距离最大10cm，优选最大5cm，特别优秀最大2cm。此外所谓“辐射”在这里尤其应该是指电磁辐射。所谓一种被传感器单元检测的辐射的“谱”尤其是应该指关于波长、频率和/时间的辐射特征值的分布，尤其是辐射强度的分布。所谓一个“波长范围”应该是指电磁谱的一个谱段，它由两个参数来规定：波长范围的“波长”表示其中央的波长，而所谓波长范围的“带宽”是指其半值宽度(也用FWHM表示)。此外所谓对辐射的“谱分析处理”尤其是指信号分析处理，其中通过检测和处理辐射的一个谱的特征，尤其是一种在波长范围上求积分的信号强度，来获得分析处理结果。通过按照本发明的设计方案，就机床而言可以成本有利地，可靠而快速地识别出使用情况。另外，所谓一种“人体组织”尤其是应该指一个尤其是不穿衣服的人体结组的一个身体部分，例如像皮肤，指甲和/或位于更深的组织层。
为了在应用机床时实现高安全性，识别装置优选具有一个分析处理部件用于对一个由传感器单元检测的辐射进行分析处理，该部件设计用于根据辐射来识别在机床工作范围里存在的人体组织。
在本发明的一种优选的实施形式中建议：识别装置设计用于借助于对一个反射在检查物体上的辐射的反射谱的分析处理来进行存在识别，因此可以实现对材料有效的，基于对比检测的识别。
如果波长范围至少部分地是一个近中的红外范围，尤其是一个范围在约700nm和3000nm之间的范围，那么可以实现一种特别可靠的识别。因此可以有一个敏感范围，它有目标地与对反射谱的检测和分析处理协调。所谓一个“近中的红外范围”在此尤其应指红外谱的一个波长区间它位于波长15μm以下。如果敏感范围设计用来检测在一个红外谱的波长区间上，波长8μm以下的辐射，那么就可以在人体组织和材料之间达到高的对比度。如果波长范围是一个近红外范围，那么尤其是有利的。所谓一个“近红外范围”在此尤其是指红外谱的一个波长区间，它位于波长3μm以下，正如尤其是在IR-A和IR-B范围里的波长区间。波长范围还可以部分地布置在电磁频谱的可见的和/或紫外范围里。
为了用传感器单元来检测只是在波长范围里的辐射，在一定条件下有利的是：用一个前置于传感器单元的光学过滤器，用来对传感器单元在波长范围上的灵敏性进行谱的限制。所应用的光学过滤器的谱特性通常对应于一个带通特性，然而另外的谱过滤器特性在个别情况下可能是合理的。
如果识别装置具有一个发射单元，它设计用于发射一种具有至少一个在波长范围内的辐射部分的辐射，那么就可以实现一种具有高信号强度的分析处理信号。
在本发明的另一种优选设计方案中，尤其是适合用于区分人体组织和材料的是，设有一个发射单元，用于发射一种在波长范围内和在至少另一个波长范围内的辐射。这里应用一个发射单元是特别有利的，这发射单元的辐射是脉动的，尤其是因此使脉动的辐射在两个波长范围内的时间特征不同。这种实施形式的优点是，可以借助于分析处理部件，按照由发射单元所发出的波长范围，来区分由传感器单元所接收的辐射，并因此分开地检测在两个波长范围内辐射的材料种类的谱特征。
此外建议：发射单元设计用于发射在几个波长范围内的辐射。因此可以有利地实现在识别组织，尤其是人体组织时的可靠性，确切地说，其方式是：可以使几个波长范围和/或波长用来进行识别。此外可以有利地形成单个波长和/或波长范围的传感器单元和/或识别装置所探测到的辐射的彼此的不同的关系，尤其是反差，并实现一种尤其是冗余的，对材料类型或人体组织的识别，正如这例如可以根据用于区分人体组织和一种潮湿材料部段的反射谱的微小可区分性，作为区分准则而需要的那样。这里尤其是还包括了一个宽的谱范围，借助于它可以实现尽可能多的材料种类与人体组织的区分。
在一种特别有利的实施形式中，从发射单元发射出的辐射是“脉动的”，所谓脉动是指：发射出的辐射随时间而规则地变化。考虑到从发射单元发射出的辐射随时间而变化的特征，可以借助于分析处理部件，使这用传感器单元接收到的辐射明确地与其它的存在于周围的电磁辐射区别开来，从而可以明显地提高信噪比。这种实施形式的另一个大的优点是：通常可以不再用光学过滤器来限制由传感器单元接收的波长范围。
此外建议：发射单元设计用于脉动地，尤其是分别以不同的脉动频率，来发射不同波长的辐射。因此所谓“脉动频率”尤其是应该指一种频率，用此频率实现一个信号的，尤其是一个要发射出的信号的脉动。这里可以有利地借助于分析处理部件，来区分单个波长范围和/或探测的谱的单个波长。此外，机床监测装置可以设计得成本特别有利，其方法是：一般可以取消附加的，用来区分探测到的谱的光学过滤器。脉动频率可以有利地是一个在25Hz和1GHz之间的值。不同的波长和/或波长范围的脉动频率的区别特别有利地分别是一个系数2或者其二倍，在正好三个波长和/或波长范围时，脉动频率例如为10kHz，20kHz和40kHz.
此外还建议：至少另外一个波长范围的辐射位于可见谱范围和/或紫外谱范围里。这里可以有利地加大谱范围，用来探测或识别材料类型和/或人体组织，并且可以检测附带的特征的波长范围，用于区分或识别材料类型和/或人体组织。
除此之外还建议：机床监测装置是一个光学单元，它设计用于确定识别装置的反应范围。所谓识别装置的“反应范围”尤其应该是一个空间范围，这范围配属于一个可以由识别装置来进行的过程，这过程当在这空间范围里存在有这材料种类的一个物体时触发。反应范围优选相应于机床工作范围的至少一个局部范围。备选或者附加地，可以设有一个反应范围，它与机床工作范围有区别。例如这反应范围可以设计用于机床监测装置的报警功能。识别装置有利地与一个执行器单元作用连接，其中在反应范围里存在有这材料种类的物体，就使执行器单元触发，例如像用来停止机床驱动部件。光学单元可以相应于一个接入在传感器单元的辐射路径里的光学系统。如果机床监测装置具有一个用于发射一种辐射的发射单元，那么光学单元可以备选或附带地对应于一个接入在发射单元的辐射路径里的光学系统。通过这光学单元可以实现机床的一种可靠而舒适的应用，其方法是：识别装置的反应可以被限制于一个有限的范围里。
传感器单元有利地具有至少另一个敏感范围，它设计用于在另一个波长范围里检测辐射，因此可以进一步提高识别材料种类的可靠性。波长范围可以相互重叠。
按这种关系建议：识别装置具有一个分析处理部件，它设计用于按照至少两个辐射特征值的关系来识别材料种类的存在，这些特征值分别配属于在一个不同的波长范围里的一辐射分量。因此可以有利地实现快速的识别。尤其是可以不考虑参照辐射。所谓“辐射特征值”尤其应该是一种特征值，它借助一个射到传感器单元上的辐射来检测。该特征值尤其可以是一个电特征值。
在本发明的一种优选的实施形式中建议：波长范围设计成窄带的。所谓“窄带波长范围”在此尤其是指一种波长范围，其带宽最大200nm，有利地最大50nm，优选最大20nm，特别优选最大10nm。因此可以有利地放弃对所检测到的辐射进行设计费用高的滤波。带宽原则上也可以在一个1μm以下的范围里。
如果机床监测装置具有一个标志单元，它设计用于标注反应范围，那么还可以有利地提高操纵的舒适性。在一种特别有利的实施形式中，标志装置由一个光学的部件组成用于以可见光来照射反应范围。
为了扩展反应范围和/或为了可靠地区分人体组织和材料，有利地在本发明的实施形式中检测单元具有多于一个的发射单元和/或接收单元，它们可以在空间上相互完全分开。
附图说明
其它的优点可以见以下的附图说明。在附图中表示了本发明的实施例。附图、说明书和权利要求书包含有大量特征的组合。专业人员也将有目的地，单个地来研究这些特征，并汇总成合理的其它组合。
附图所示为：
图1一个具有识别装置的台式圆盘锯的侧视图；
图2具有一个识别装置的反应范围的台式圆盘锯的俯视图；
图3在台式圆盘锯上的识别装置的一个传感器单元的一种备选布置的立体图；
图4具有一个用于发射一个辐射到反应范围里的发射单元，一个传感器单元和一个检查物体的识别装置的简图；
图5发射单元的一个发射构件和传感器单元的一个传感构件的正视图；
图6传感器构件的敏感范围的一个视图；
图7发射构件的波长范围的一个视图；
图8一种脉动的，从一个发射构件发射出的辐射的一个视图；
图9一种由传感器单元接收的谱的一个视图；
图10识别装置的一种内部线路；
图11一个存储在识别装置里的数据库。
具体实施方式
图1表示了一个设计成台式圆盘锯的机床10的侧视图。机床10具有一个设计成盘状锯片的刀具12，这刀具在锯运行时借助于一个布置在一个驱动部外壳14里的，并且设计成电动机的驱动单元16被旋转驱动。一个锯台18支承在驱动部外壳14上，在其上面可以安放了一个待加工的工件20。为了保护操作者，机床10有一个保护罩22，它在机床10不运行的状态下，完全包围住从锯台18里伸出来的刀具12的部分。为了实施对工件20的加工，通过一个操作者将这个工件按已知的方式在一个工作方向24上，向着刀具12的方向运动，操作者的手26在图1中简略地表示出。此处这围绕一个旋转轴线28可旋转地支承的保护罩22通过工件20而向上摆动，因而使刀具切削刃释放。
为了提高操作者的安全性，机床10设有一个机床监测装置30。机床监测装置30具有一个识别装置32，它设计成借助于对辐射的谱分析处理，以识别出在机床10的一个机床工作部位34里存在人体组织。机床工作部位34在图2的机床10的俯视图中可以从上面看到。为了一目了然起见，在图2中没有表示出保护罩22。识别装置32具有一个反应范围36，它配属于对一个与驱动单元16耦合的执行器单元38的操纵，这执行器单元38与识别装置32作用连接(也见图10)。如果通过识别装置32识别出在反应范围36里存在有人体组织，那么就将一个操纵信号传输至执行器单元38，该执行器单元按照这个操纵信号使驱动部16停下。反应范围36基本上对应于机床工作范围34，其在工作方向24上布置在刀具12的前面，旁边和后面。在所示的例子中，识别装置32布置在保护罩22里，也就是说，在保护罩22的布置在工作方向24上位于刀具12前面的前部范围里。
图3表示了在台式圆盘锯之内的识别装置32的一种相对于图1和图2所示为备选的布置。台式圆盘锯具有一个间隙楔40，该间隙楔布置在围绕刀具12的圆周方向42上。保护罩22具有一个推出器(Ausleger)44，在这推出器的前面的，相反于工作方向24的端部处布置了识别装置32。推出器44具有两个隔板状加长段46，在这些加长段处布置了识别装置32，其中一个发射单元48和一个传感器单元50分别布置在其中一个隔板状加长段46上，并且因此还空间上相互分开地布置在间隙楔40里。
识别装置32的作用原理按照图4进行详细的说明。在简图中表示了锯台18，工件20和识别装置32。为了一目了然起见，未画出刀具12和保护罩22。在工件20上，在反应部位36里布置了一个检查物体52。该检查物体52尤其可以是手26。识别装置32具有在图4中简略所示的发射单元48，它在运行时向反应部位36发射辐射S_I。这辐射S_I被反射到检查物体52上，并作为辐射S_R被识别装置32的一个在图4中简略表示的传感器单元50接收。发射单元48和传感器单元50的前面是一个光学单元54。光学单元54具有一个透镜单元(未示出)，它规定了反应部位36的界限，辐射S_I被发射至这界限里。透镜单元还设计用于，将传感器单元50的灵敏度性制于在反应部位36里反射的辐射S_R。光学单元54具有一个光学轴线56。机床监测装置30还具有一个标识部件58，它简略表示于图3中，并在识别装置32运行时通过对操作者可以看到地投影到锯台18上使识别装置32的反应部位36，例如通过有色光标识。标识单元58例如可以设计成激光标识器。备选或附加地，可以由发射单元48来实施对反应部位36的标识，这发射单元产生一部分在可见范围里的辐射。
图5表示了识别装置32的发射单元48和传感器单元50的正视图，在其中光学轴线56与图面相应。发射单元48具有三个发射构件60.1，60.2，60.3，它们分别由一个发光二极管(LED)构成。传感器单元50具有两个传感器构件62.1，62.2，它们具有不同的敏感范围64.1，64.2(图6)，其中敏感范围64.1，64.2至少可以部分地重叠。传感器构件62.1，62.2分别由一个光电二极管构成。原则上也可以考虑使传感器单元50具有一个传感器构件，它覆盖或检测一个总的，由发射构件60.1，60.2，60.3发射出的波长范围。
发射构件60.1，60.2，60.3设计成分别用于发射出一个辐射S_I，这辐射的中心波长λ_I1，λ_I2，λ_I3在一个窄带的波长范围里WL₁＝[λ₁，λ₂]，WL₂＝[λ₃，λ₄]，WL₃＝[λ₅，λ₆]，其中各个波长范围WL₁，WL₂，WL₃相互不同。窄带的波长范围WL₁，WL₂，WL₃的带宽66大约为50nm。各个波长范围WL₁，WL₂，WL₃的带宽66也还可以设计成不同的。备选地，发射构件60.1，60.2，60.3也可以由一种激光器，一种发光材料管和/或其它的，对于专业人员来说有意义的发射构件60构成。此外，发射单元48可以具有一个发射构件60，它设计用于发射不同波长WL₁，WL₂，WL₃的辐射。发射单元48设计用于发射在三个波长范围WL₁，WL₂，WL₃中的特别是具有3个λ_I1，λ_I2，λ_I3的辐射(图7)。发射单元48设计用于发射在波长范围WL₁至WL₃里脉动的的辐射S_I。波长范围WL₁，WL₂，WL₃中的至少两个布置在红外谱72里。波长范围WL₁，WL₂，WL₃中的一个，或者两个，或者三个分别为具有极限值[700nm，1400nm]的近红外谱IR-A的一个范围。备选或附加地，可以选波长范围在红外范围IR-B(1.4-3μm)和IR-C(3-15μm)里。具有发射构件60.1，60.2，60.3的发射单元48产生辐射S_I，它包括了图7所示的波长范围WL_I。此外其中一个波长范围WL₁或一个中心波长λ_I1位于一个可见的谱范围70或者在紫外谱范围68里。
发射构件60.1，60.2，60.3的波长范围WL₁，WL₂，WL₃在机床监测装置30的不同的设计方案中可以是不同的。如果只是要区分一个干燥的工件20和一个人体组织，那么波长λ_I1，λ_I2，λ_I3的值λ_I1＝450nm，λ_I2＝740nm，和λ_I3＝1450nm，或者λ_I1＝740nm，λ_I2＝840nm，和λ_I3＝1550nm是有利的。此外也可以考虑，只是将发射构件60.1，60.2，60.3的其中两个考虑用来区分一个干燥的工件20和一个人体组织，例如像波长λ_I1，λ_I2为λ_I1＝740nm和λ_I2＝1450nm，λ_I1＝740nm和λ_I2＝1550nm，或者λ_I1＝1075nm和λ_I2＝1375nm。为了区分潮湿的和/或干燥的工件20和一个人体组织，波长λ_I1，λ_I2，λ_I3可以具有值λ_I1＝375nm，λ_I2＝740nm，和λ_I3＝1550nm，或者λ_I1＝375nm，λ_I2＝1075nm，和λ_I3＝1375nm。此外可以有利的是：为了可靠地区分人体组织和工件20，应用或发射四个波长范围WL₁，WL₂，WL₃，WL₄或四个中心波长λ_I1，λ_I2，λ_I3，λ_I4。这里尤其是提出中心波长λ_I1，λ_I2，λ_I3，λ_I4，其中λ_I1＝375nm，λ_I2＝740nm，λ_I3＝1550nm和第四在400nm和600nm之间的范围里的中心波长，例如λ_I4＝470nm或者λ_I4＝525nm。原则上每个另外的对专业人士来说合理的波长的组合都是可能的，这种波长的组合适合于在所述谱范围里区分材料种类。
两个传感器构件62.1，62.1分别具有一个不同的敏感范围64.1，64.2(图6)，其中这两个敏感范围64.1，64.2设计用于检测在总的，由发射单元48发射出的波长范围WL₁，WL₂，WL₃中的辐射。传感器单元50可以为了对于检测到的辐射S_R进行窄带滤波，除了传感器构件62.1，62.2外，设有一个过滤器组件系统，它接于传感器构件62.1，62.2之前。备选或附加于光电二极管，传感器构件62.1，62.2可以作成光敏感元件的场。
发射构件60.1，60.2，60.3此外发出一个脉动的，尤其是一个有规则脉动的辐射S_I，或者说一个对于在反应范围36里的各波长范围WL₁，WL₂WL₃具有可变强度的辐射S1(图8)，因此在传感器单元50之内可以实现区分这由单个发射构件60.1，60.2，60.3发射的辐射S1和从人体组织和/或工件20反射的辐射SR。对于发射构件60.1，60.2，60.3的单个波长范围WL₁，WL₂，WL₃或波长λ_I1，λ_I2，λ_I3的脉冲76.1，76.2，76.3，76.4的脉冲频率74这里设计成相互不同的。由单个发射构件60.1，60.2，60.3发射出的辐射S_I的时间特征，对于不同的波长范围WL₁，WL₂，WL₃或中心波长λ_I1，λ_I2，λ_I3来说是相互无关的。这里单个波长范围WL₁，WL₂，WL₃或波长λ_I1，λ_I2，λ_I3脉冲频率74各有一个系数2的差别，例如像就波长λ_I1而言，脉冲频率74为10kHz，就波长λ₄₂而言，脉冲频率为20kHz，就波长λ₄₃而言，脉冲频率为40kHz。脉冲74的宽度78大约为100μs。此外也可以考虑：一个或几个发射构件60.1，60.2，60.3发射一个其强度在时间上恒定的辐射S_I。
按照图9，10和11，说明了借助于对在认别装置的反应范围36里的在检查物体上反射的辐射S_R的反射谱的分析处理，来认别人体组织的原理。图9表示了反射在检查物体52上的，而且由传感器构件62.1，62.2所检测的辐射S_R的射谱。这个反射谱与辐射S_R的波长λ有关，对应于信号强度的分布。传感器构件62.1，62.2或其敏感范围64.1，64.2分别检测具有发射出的辐射S_I的对应的波长范围WL₁，WL₂，WL₃的反射谱的一部分，其中波长范围WL₁，WL₂，WL₃根据脉动由反射谱里选出。传感器构件62.1，62.2在其输出接线柱上分别产生一个反射特征值R₁，它分别设计成电压或电流(图10)。反射特征值R₁例如与在波长WL₁上积分的并在图9中剖面线表示的辐射S_R的信号强度成比例。
如由图10可见，在识别装置32的一个分析处理部件80的输入端上给出了反射特征值R₁。在另外一种方案中也可以考虑，加强反射特征值R₁。借助脉动的，由发射单元48发射的辐射S_I，在识别装置32之内，尤其是在分析处理部件80里，可以使探测到的辐射S_R在单个波长范围WL₁，WL₂，WL₃里实现对应。这里分析处理部件80可以具有一种同步解调器和/或另一个用于锁定探测的线路，通过这线路使发射单元48与传感器单元50逻辑连接，并因此实现一个接收的辐射S_R与单个波长范围WL₁，WL₂，WL₃的匹配。此外尤其是可以提高信噪比。由反射特征值R₁在分析处理部件80里构成一个幅射特征值V_I，它分别配属于由发射单元48所发射的波长范围WL₁，WL₂，WL₃的其中一个。在一种分析处理中，借助于逻辑运算将幅射特征值V₁与一个存储在识别装置32的一个存储单元82里的数据库84的值进行对比。数据库84简略地表示于图11中。在第一分析处理策略中，将检测到的辐射特征值V_I与存储值A₁，A₂，A₃对比。每一个对(V_I，A_I)配有一个识别变量，这变量可以假设为值“假”(F)或者“真”(T)。当值为“F”时，就排除了在反应范围36里存在有人体组织。在第二种备选或附加的分析处理策略中，通过分析处理部件80求出在不同的辐射特征值V_I之间的比值V₁/V₂；V₁/V₃；V₂/V₃。将这些比值与存储值A₁，A₂，A₃等等进行对比，因而，如上所述，就可以推断出在反应范围36中是否存在人体组织。通过比值的形成可以实施一种与强度无关的并且尤其是与距离无关的识别。在存储单元82里，除此之外可以存储有关于传感器构件62.1，62.2的谱灵敏度和发射单元60.1，60.2，60.3的谱幅射特征方面的信息，它们可以被用来进行幅射特征值V_I的分析处理。
这里所述的识别装置32是一个模拟的识别装置，其中反射的辐射S_R的检测或分析处理仅按模拟的方式进行。在本本发明的另外一种实施形式中，同样也可以组合地采用模拟的和数字的信号处理手段，或者只是采用数字的信号处理手段。
此外由机床监测装置30检测一个或几个环境特征值。为此机床监测装置30具有未详细表示出的传感器，例如像一种用来检测温度的温度传感器，因此可以补偿在机床监测装置30运行时，识别装置32和/或分析处理部件80的单个构件的温度波动。此外机床监测装置30也具有一个或几个传感器，用来检测周围环境的辐射强度，其特别有利地在电磁辐射的谱的紫外和/或可见的和/或红外范围里是敏感的。此处借助于一种已知的环境辐射强度可以改善对于由材料所反射的辐射进行检测和/或分析处理。