光学用薄膜、层叠体及触摸面板.pdf

本发明提供一种维持高表面硬度与透视析像性，同时干涉条纹不明显的光学用薄膜。光学用薄膜(1)具有透明基材层12。在透明基材层(12)的至少一面上层叠有底层(14)。在底层(14)上层叠有透明硬涂层(16)。在透明硬涂层(16)上层叠有防反射层(18)。防反射层(18)为折射率低于透明硬涂层(16)的低折射率层。其设计为，当透明基材层(12)的折射率为n0，底层(14)的折射率为n1，透明硬涂层(16)的折射率为n2，防反射层(18)的折射率为n3时，需满足n3＜n2≤n1≤n0，且(n0-n3)≤0.5的关系。

1、  一种光学用薄膜，其特征在于，
具有：透明基材层，
层叠于所述透明基材层的至少一面的底层，
层叠于至少任一个所述底层的表面的透明硬涂层，以及
层叠于所述透明硬涂层的表面的防反射层，
其中，当所述透明基材层的折射率为n0、所述底层的折射率为n1、所述透明硬涂层的折射率为n2、所述防反射层的折射率为n3时，满足n3＜n2≤n1≤n0且(n0-n3)≤0.5的关系。

2、  如权利要求1所述的光学用薄膜，其中，
(n0-n1)≤0.2，(n1-n2)≤0.15，(n2-n3)≥0.08。

3、  如权利要求1或2所述的光学用薄膜，其中，
所述n0为1.45～1.75，所述n1为1.40～1.70，所述n2为1.35～1.70，所述n3为1.20～1.47。

4、  如权利要求1～3中任一项所述的光学用薄膜，其中，
所述防反射层的厚度为2μm以下。

5、  如权利要求1～4中任一项所述的光学用薄膜，其中，
所述底层的依据JIS-K6768(1999)测定的湿润张力的值为40mN/m以上。

6、  如权利要求1～5中任一项所述的光学用薄膜，其中，
所述光学用薄膜依据JIS-K7136(2000)测定的浊度值为5％以下。

7、  一种层叠体，其特征在于，
在透明基板的至少一面具有透明导电膜，
其中，所述透明基板包含权利要求1～6中任一项所述的光学用薄膜。

8、  一种触摸面板，其特征在于，
具有第一电极基板和第二电极基板，所述第一电极基板在第一透明基板形成有第一透明导电膜，所述第二电极基板在第二透明基板以与第一透明导电膜隔开规定间隙而对置的方式形成有所述第二透明导电膜，
其中，所述第一透明基板及所述第二透明基板中的至少任意一方包含权利要求1～6中任一项所述的光学用薄膜。

9、  如权利要求8所述的透明触摸面板，
所述第一电极基板和所述第二电极基板中的任意一方为可动侧电极基板，任意另一方为固定侧电极基板，并且所述可动侧电极基板含有包含权利要求1～6中任一项所述的光学用薄膜的透明基板。

光学用薄膜、层叠体及触摸面板
技术领域
本发明涉及一种光学用薄膜、层叠体及触摸面板。
背景技术
已知的光学用薄膜(专利文献1)是在透明基材薄膜的表面形成有表面硬度高，难以刮伤的透明树脂膜(以下，称为「透明硬涂膜」)。
[专利文献1]日本专利特开2003-334891号
发明内容
然而，专利文献1中所记载的光学用薄膜，存在干涉条纹明显易见的问题。理论上，这样的干涉条纹可通过完全消除透明硬涂膜厚度不均而得以解决，但是在目前的制膜精度下，难以完全消除透明硬涂膜厚度不均的问题。
作为解决由于厚度不均所造成的干涉条纹的对策，可设想将透明基材薄膜与透明硬涂膜的折射率设计成相同。不过，若以此种方式来控制折射率，将难以避免透明硬涂膜的表面硬度的降低。
此外，作为解决由于厚度不均所造成的干涉条纹的其它对策，可设想使透明硬涂膜含有大量的消光剂，也可将透明硬涂膜的表面设定为凹凸状。不过，若是将透明硬涂膜的表面设定为凹凸状，将造成经由光学用薄膜所观察到的图像分辨率(透视析像性)的降低。
本发明欲解决的课题为提供一种维持高表面硬度与高透视析像性的同时，使干涉条纹不明显的光学用薄膜。并且，其目的也在于提供含有此种光学用薄膜的层叠体，以及含有此种层叠体的触摸面板。
本发明是通过设计成按照透明基材层、底层、透明硬涂层及防反射层的顺序各层的折射率变小，并使透明基材层与防反射层的折射率之差在规定值以下，以解决上述课题。
根据上述发明，由于将构成光学用薄膜的各层的折射率设计成规定的关系，因此可维持高表面硬度与高透视析像性，同时光学用薄膜的干涉条纹也不明显。另外，由于将各层的折射率设计成规定的关系，因此即使在最表面形成厚度薄的防反射层，也可抑制由于厚度不均所造成的干涉条纹的产生。
附图说明
图1所示为涉及本发明的一例的光学用薄膜的截面图。
图2所示为具有图1的光学用薄膜的层叠体的截面图。
图3所示为具有图2的层叠体的触摸面板的截面图。
图中：1-光学用薄膜；12-基材层；14-底层；16-树脂层；18-防反射层；3-层叠体；32-透明基板；34-透明导电膜；5-触摸面板；52-上电极基板(第一电极基板)；522-上透明基板(第一透明基板)；524-上透明导电膜(第一透明导电膜)；54-下电极基板(第二电极基板)；542-下透明基板(第二透明基板)；544-下透明导电膜(第二透明导电膜)；56，58-隔离件；7-粘接层；9-显示元件
具体实施方式
以下，依据图示说明上述本发明的实施方式。
另外在此实施方式中，将由于厚度不均所造成的干涉条纹及此种干涉条纹所造成的色彩不均，称之为「干涉不均」。
《光学用薄膜》
图1所示的光学用薄膜1具有透明基材层12。在透明基材层12的至少一面层叠有底层14。底层14上层叠有透明硬涂层16。在透明硬涂层16上层叠有防反射层18。防反射层18为折射率低于透明硬涂层16的低折射率层。
《透明基材层》
作为透明基材层12并无特别限制，包含作为光学用薄膜1的基材而通常所使用的树脂基材。特别以具有可挠性的树脂基材为佳。构成树脂基材的树脂的种类并无特别限制。例如作为形成薄膜状或薄板状的树脂基材的树脂，可列举例如聚酯系树脂、丙烯酸系树脂、丙烯氨基甲酸乙酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚氨基甲酸乙酯丙烯酸酯系树脂、环氧基丙烯酸酯系树脂、氨基甲酸乙酯系树脂、环氧系树脂、聚碳酸酯系树脂、纤维素系树脂、缩醛系树脂、乙烯系树脂、聚乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、蜜胺系树脂、酚系树脂、有机硅系树脂、氟系树脂、环状烯烃等。其中，因机械的强度和尺寸稳定性优异，以用双轴拉伸的聚对苯二甲酸乙二醇酯构成透明基材层12为佳。期望使用于需要耐热性的用途上时，以用耐热性优良的聚萘二甲酸乙二醇酯构成透明基材层12为佳。这些树脂基材可为透明或半透明的任一种，但以透明为佳。在此所谓的「透明」，指全光线透射率为50％以上，较优选为70％以上。且可被着色，也可为无着色，按用途适宜选择即可。
若是在处理上不会造成不便的情况下，透明基材层12的厚度并无特别限制，例如为10～500μm的范围，且以12～350μm为佳。
《底层》
设置底层14的用意在于，不致于降低透明硬涂层16的硬涂性，且提升与透明基材层12间的密接性。底层14设置在透明基材层12的至少一面即可，也可设置在透明基材层12的两面。
底层14例如可包含热塑性树脂或热固化性树脂。作为热塑性树脂或热固化性树脂，可列举，例如聚酯系树脂、丙烯酸系树脂、氨基甲酸乙酯丙烯酸系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚氨基甲酸乙酯丙烯酸酯系树脂、环氧基丙烯酸酯系树脂、氨基甲酸乙酯系树脂、环氧系树脂、聚碳酸酯系树脂、纤维素系树脂、缩醛系树脂、聚乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、蜜胺系树脂、酚系树脂、有机硅系树脂等。
底层14的厚度以0.03～1μm的范围为佳。通过将底层14的厚度设定成规定厚度以上，可提升与透明基材层12或透明硬涂层16之间的密接性。通过将底层14的厚度设定成规定厚度以下，可防止透明硬涂层16的硬涂性的降低，同时也可防止当层叠透明硬涂层16或是防反射层18时，在光学用薄膜1整体上轻微地着色。
本实施方式的底层14是依据JIS-K6768(1999)所测定的湿润张力值被调整成40mN/m以上者为佳。通过将湿润张力的值设定成规定值以上，透明硬涂层16可被形成无皱、均匀且平滑的涂膜。藉此，可减低由于透明硬涂层16的厚度不均所形成的干涉不均。此外，也可抑制透明基材层12与透明硬涂层16间的密接性不良。另外，通过防止干涉不均，可防止因反射图样所造成的透视析像性的恶化。而底层14的湿润张力依据树脂原本的性质而不限于40mN/m以上。也可通过对底层14表面实施电晕放电处理等来提高湿润张力，使其成为40mN/m以上。
《透明硬涂层》
透明硬涂层16是用以提高光学用薄膜1的表面硬度，防止在表面产生刮伤而设置的。据此，本实施方式的透明硬涂层16的表面硬度优选调整成H以上，较优选为2H以上，更优选为3H以上。通过将表面硬度调整成规定值以上，可有效防止在光学用薄膜1表面所产生的刮伤。表面硬度值以依据JIS-K5400(1990)的方法所测定的铅笔划痕值(铅笔硬度)来表示。
透明硬涂层16包含热塑性树脂、热固化性树脂、电离放射线固化性树脂等树脂。尤其在包含电离放射线固化性树脂时，由于可发挥以表面硬度等为代表的硬涂性而优选。
作为热塑性树脂以及热固化性树脂，可列举与构成底层14的树脂相同的树脂。
作为电离放射线固化性树脂，可采用通过电离放射线(紫外线或电子线)的照射而交联固化的光聚合性预聚物。在此实施方式中，可单独使用后述的光聚合性预聚物，也可组合2种以上来使用。
光聚合性预聚物有阳离子聚合型和自由基聚合型。
作为阳离子聚合型光聚合性预聚物，可列举环氧系树脂或乙烯基醚系树脂等。作为环氧系树脂，可列举例如双酚系环氧树脂、线型酚醛清漆型环氧树脂、脂环式环氧树脂、脂肪族环氧树脂等。
作为自由基聚合型光聚合性预聚物，由硬涂性的观点来看，尤其适宜使用在1分子中具有2个以上的丙烯酰基，且利用交联固化而形成三维网目构造的丙烯酸系预聚物(硬质预聚物)。
作为丙烯系预聚物系，可列举氨基甲酸乙酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸脂、蜜胺丙烯酸酯、聚氟烷基丙烯酸酯、硅丙烯酸酯等。
作为氨基甲酸乙酯丙烯酸酯系预聚物系，例如可通过将聚醚多元醇或聚酯多元醇与聚异氰酸反应得到的聚氨酯寡聚物，与(甲基)丙烯酸反应而酯化来得到。作为聚酯丙烯酸酯系预聚物，例如将经多元羧酸和多元醇的缩合所得的两末端具有羟基的聚酯寡聚物的羟基，通过(甲基)丙烯酸酯化来得到；或将在多价羧酸加成环氧烷所得的寡聚物的末端的羟基，通过(甲基)丙烯酸酯化来得到。环氧丙烯酸酯系预聚物系，例如，可通过较低分子量的双酚型环氧树脂或线型酚醛清漆环氧树脂的环氧乙烷环，与(甲基)丙烯酸的反应而酯化来得到。丙烯酸系预聚物可单独使用，但为了赋于交联固化性的提高和固化收缩的调整等种种性能，优选添加光聚合性单体。
作为光聚合性单体，可列举单官能丙烯酸单体(例如丙烯酸2-乙基己酯、2-羟基丙烯酸乙酯、2-羟基丙烯酸丙酯、丁氧基丙烯酸乙酯等)，2官能丙烯酸单体(例如1，6-己二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、羟基特戊酸酯新戊二醇二丙烯酸酯等)，3官能以上的丙烯酸单体(例如，二季戊四醇六丙烯酸酯、三甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯等)。另外，「丙烯酸酯」，除如文字所述的丙烯酸酯之外，也含有甲基丙烯酸酯。这些光聚合性单体可单独使用，也可组合2种以上使用。
形成透明硬涂层16时，通过紫外线照射使之固化而使用的情况下，除了上述的光聚合性预聚物及光聚合性单体以外，优选配合光聚合引发剂、光聚合促进剂、紫外线敏化剂等添加剂。
作为光聚合引发剂，对于自由基聚合型光聚合性预聚物或光聚合性单体，可列举例如，苯乙酮、二苯甲酮、米氏酮、安息香、联苯酰缩二甲醇、苯甲酰基苯甲酸酯、α-酰基肟酯、塞吨酮(Thioxanthone)类等。作为对阳离子聚合型光聚合性预聚物的光聚合引发剂，可列举例如，包含芳香族锍离子、芳香族氧代锍离子、芳香族碘鎓离子等鎓、四氟硼酸酯、六氟磷酸酯、六氟锑酸酯、六氟砷酸酯等阴离子的化合物。它们可单独使用，也可组合2种以上使用。作为光聚合促进剂，可列举对二甲基氨基安息香酸异戊酯、对二甲基氨基安息香酸乙酯等。作为紫外线敏化剂，可列举正丁胺、三乙胺、三正丁基膦等。
这些添加剂的配合量相对于上述光聚合性预聚物及光聚合性单体的合计100重量份，通常在0.2～10重量份的范围内选择。
另外，作为取代上述光聚合性预聚物或光聚合性单体等的电离放射线固化性树脂，也可使用电离放射线固化型有机无机混合树脂。所谓的电离放射线固化型有机无机混合树脂与以玻璃纤维强化塑料(FRP)为代表的过去的复合体不同，有机物与无机物的混合方式紧密，且分散状态达为分子水平或是接近该水平，故通过电离放射线的照射将无机成分与有机成分进行反应，可形成被覆膜。
作为在本实施方式可采用的电离放射线固化型有机无机混合树脂的无机成分，可列举二氧化硅、二氧化钛等金属氧化物，但其中以采用二氧化硅为佳。作为这种二氧化硅，可列举在表面已导入具有光聚合反应性的感光性基团的反应性二氧化硅。
电离放射线固化型有机无机混合树脂，优选无机成分含有率达10重量％～50重量％，更优选20重量％～40重量％。
其次，作为有机成分，具有可与所述反应性二氧化硅聚合的聚合性不饱和基团的化合物，例如可列举在分子中具有2个以上的聚合性不饱和基团的多价不饱和有机化合物，或是在分子中具有1个聚合性不饱和基团的单价不饱和有机化合物等。
在不阻碍本发明的效果的范围内，本实施方式中的透明硬涂层16可根据需要适宜配合添加成分。作为添加成分，例如可列举表面调整剂、润滑剂、着色剂、颜料、染料、荧光增白剂、阻燃剂、抗菌剂、防霉剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、热稳定剂、抗氧化剂、增塑剂、流平剂、流动调整剂、消泡剂、分散剂、储藏稳定剂、交联剂、硅烷偶联剂、消光剂等。特别是从赋予抗粘性的观点来看，在不阻碍透视析像性的范围内也可添加极少量(例如相对于100重量份树脂成分约为0.1～5.0重量份)的消光剂。
作为可添加的消光剂的种类，并无特别限制，可列举碳酸钙、碳酸镁、硫酸钡、氢氧化铝、二氧化硅、陶土、粘土、滑石等无机粒子，或是丙烯酸树脂粒子、聚苯乙烯树脂粒子、聚氨酯树脂粒子、聚乙烯树脂粒子、苯胍胺树脂粒子、环氧树脂粒子等树脂粒子。由操作性以及易控制表面形状的观点来看，作为这种消光剂，优选使用球形微粒，从不阻碍透明性的观点来看，则优选采用树脂粒子。
此外，当使用混合树脂作为树脂成分的情况下，则存在透明硬涂层16内消光剂集中于表面的倾向，此种现象在采用二氧化硅微粒时特别明显。在本实施方式优选此种现象。因此优选采用二氧化硅微粒。
消光剂的大小(平均粒子径)虽无特别限制，但以0.2μm～20μm为佳，较佳为1.0μm～15μm，更佳为2.0μm～10μm。
不过，例如作为光学用薄膜时的依据JIS-K7136(2000)的方法所测定的浊度值，则以5％以下为佳，3％以下为更佳。
构成上述底层14与透明硬涂层16的各层的树脂，因可提升层间的密接性，以选择溶解度系数相近的树脂作为主成分者为佳。特别是以溶解度系数之差为1以内者较佳。
例如，在透明硬涂层16中使用电离放射线固化性树脂的情况下，选择使构成电离放射线固化性树脂的预聚物的主要低聚物成分的溶解度系数，与构成底层14的主要树脂的单体成分的溶解度系数之差在1以内的树脂。具体而言，当形成透明硬涂层16的电离放射线固化性树脂的低聚物成分为氨基甲酸乙酯丙烯酸酯的情况下，其溶解度系数为10，因此可通过与该溶解度系数10间之差达1以内的饱和聚酯树脂来形成底层14。另外，溶解度系数是通过von Kreevelen所提倡的原子团总和法而得到的，具体而言，可利用下述非专利文献1中所记载的方法来算出。
[非专利文献1]Polymer Handbook，Fourth Edition，John Wiley &Sons，Inc.，1999(VII/675页～VII/686页)
透明硬涂层16的厚度为优选0.1～30μm的范围。较优选为0.5～15μm，更优选为2～10μm。通过将透明硬涂层16的厚度设为0.1μm以上，可使透明硬涂层16发挥充分的表面硬度(硬涂性)。此外，即使是将透明硬涂层16的厚度设定为超过30μm，也无法更加提升透明硬涂层16的表面硬度。随着透明硬涂层16的厚度变厚，容易产生该透明硬涂层16的固化收缩所造成的卷曲，同时也产生因紫外线照度不足所致的固化不足，或降低与底层14间的密接性。因此，由经济性、卷曲防止性、消除固化不足以及与底层1 4间的密接性的观点来看，将透明硬涂层16的厚度设定为30μm以下则较为有效。
《防反射层》
防反射层18的设置的目的在于减少透明硬涂层16表面部分的反射，并提升光学用薄膜1整体的全光线透过率。为了防止在表面部分的反射，可考虑将透明硬涂层16的折射率设计成较小。然而，若是将透明硬涂层16设计成折射率较小，有时会造成透明硬涂层16的硬涂性的降低。因此，在此实施方式中，为了不致使透明硬涂层16的硬涂性降低且可防止表面部分的反射，将具有折射率低于透明硬涂层16的折射率的防反射层18以较薄的厚度形成在透明硬涂层16的表面。也即，本实施方式的防反射层18包含折射率低于透明硬涂层16的材料。此种材料种类并无特别限制，可列举例如有机硅系树脂、氟系树脂、金属氧化物溶胶，或在这些材料中加入了金属氧化物微粒的材料，较优选为添加有多孔状或中空状的金属氧化物微粒的材料。此外，也可使用在上述透明硬涂层16的说明栏中所列举的树脂中添加所述金属氧化物微粒的材料。
作为金属氧化物溶胶系，可列举二氧化硅、氧化铝溶胶等。在这些金属氧化物溶胶中，从折射率、流动性、成本的观点出发，适宜使用二氧化硅溶胶。另外，所谓金属氧化物溶胶是指因金属氧化物的存在而无法观测廷德尔氏现象(Tyndall phenomenon)的材料。换言之，是指所谓的均一溶液。例如，即使是一般称之为胶体二氧化硅溶胶的材料，若是可观测到廷德尔氏现象的材料，则不包括在本实施方式的金属氧化物溶胶中。
这些金属氧化物溶胶可将四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、丙醇锆、异丙醇铝、丁醇钛、异丙醇钛等金属醇加水分解来进行调整。作为金属氧化物溶胶的溶剂，可列举甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、丙酮、1，4-二噁烷等。
金属氧化物微粒是将上述金属氧化物进行微粉末化了的物质，可列举二氧化硅微粒、氧化铝微粒等。其中，从折射率、流动性、成本的观点出发，适宜使用二氧化硅微粒。另外，金属氧化物微粒的形状虽无特别限制，但适宜使用折射率低的多孔状或是中空状的金属氧化物微粒。
作为此类金属氧化物微粒，使用将其作为分散液时可观测到廷德尔氏现象的具有一定粒子径的微粒。只要满足所述条件，金属氧化物微粒的平均粒子径并无特别限制，但以在40～100nm的范围内为佳。通过使用平均粒子径为40nm以上的微粒，金属氧化物粒子不会浮起至防反射层18的表面，进而可防止表面硬度的降低，通过使用平均粒子径为100nm以下的微粒，金属氧化物微粒不会从防反射层18露出，进而可防止表面硬度的降低。此外，为获得良好的透明度，金属氧化物微粒的平均粒子径以40～70nm的范围为更佳。
金属氧化物溶胶与金属氧化物微粒的混合比例虽并无特别限制，但相对于金属氧化物溶胶中的金属氧化物成分100重量份，金属氧化物微粒优选为5重量份以上，更优选为20重量份以上，且较优选为200重量份以下，更优选为100重量份以下。
依据光防止反射理论，防反射层18的厚度优选满足下式。
[数1]d＝(a+1)λ/4n3
在此，d为防反射层18的厚度(单位为「nm」)，a为0或是正偶数，λ为欲防止反射的光的中心波长，n3为防反射层18的折射率。具体而言，例如优选设定成2μm左右，较优选为1μm以下，更优选为0.8μm以下，特别优选为0.5μm以下，最优选为0.3μm以下。
当防反射层18的厚度变厚时，将难以产生由于厚度不均而产生的干涉不均，但与之相反，难以发挥设置在下面的透明硬涂层16的硬涂性。在此实施方式中，为了防止透明硬涂层16的硬涂性的降低以及因光干涉所造成的防止反射效果的降低，在该透明硬涂层16的表面形成较薄的防反射层18。将防反射层18形成较薄时，防反射层18容易产生厚度不均，且容易产生由于此种防反射层18本身的厚度不均而产生的干涉不均。在此实施方式中，由于将光学用薄膜1的各层设计成如后所述的构造，因此即使是将防反射层18形成较薄，也可有效的防止由于防反射层18的厚度不均而产生的干涉不均。
作为所述底层14、透明硬涂层16、防反射层18的形成方法，可通过下述方法来形成，即，配合各构成成分或根据需要使用的其它成分，再溶解或分散于适当的溶剂中调制涂布液，再用辊涂法、棒涂法、喷涂法、气刀刮涂法、模具涂布法、刮刀涂布法、旋涂法、凹版印刷涂法、流涂法、网版印刷法等众所周知的方法将该涂布液依次涂布于透明基材层12，使之干燥，如有需要再使用适当必要的固化方法使之固化。
在此实施方式中，其特征在于，当透明基材层12的折射率为n0，底层14的折射率为n1，透明硬涂层16的折射率为n2，防反射层18的折射率为n3时，至少这4层的折射率被设计成具有规定的关系。本发明者们发现，通过将构成光学用薄膜1的各层12、14、16、18的折射率n0～n3设为规定的关系，可使由于厚度不均而产生的干涉不均变得不明显。
具体而言，在此实施方式中，设计为满足n3＜n2≤n1≤n0，且(n0-n3)≤0.5的关系，优选为满足(n0-n3)≤0.3的关系。在透明基材层12与透明硬涂层16之间配置底层14，透明基材层12，底层14以及透明硬涂层16的折射率n0，n1及n2满足上述关系时，这3层的界面折射率之差将会变小。另外在此实施方式中，在透明硬涂层16上以较薄的膜厚层叠有其折射率n3为低于此种透明硬涂层16的折射率n2的防反射层18。由此，在抑制由于透明硬涂层16的厚度不均所造成的干涉不均的产生的同时，将光学用薄膜的透视析像性维持在较高的水平。其结果，可获得干涉不均不明显，且透视析像性较高的光学用薄膜。即使是满足n3＜n2≤n1≤n0的关系，若透明基材层12与防反射层18的折射率之差大于0.5时，在各层界面所引起的折射率变化将变大，无法抑制干涉不均。
通常为了抑制干涉不均，考虑以氟树脂等来形成透明硬涂层16以缩小透明基材层12与透明硬涂层16的折射率的方法。然而在此种情况下，由于透明硬涂层16将变得易脆且与透明基材层12之间的密接性也会降低故而不优选。在此实施方式中，通过配置底层14并适当的设定3层的折射率之差而避免此种问题的产生可抑制干涉不均。此外，在此实施方式中，在透明硬涂层16上进一步以较薄的膜厚层叠折射率n3低于此种透明硬涂层16的折射率n2的防反射层18。由此，在防止表面部分上的反射的同时，以较高的水平维持光学用薄膜的透视析像性。
此外，当以电离放射线固化性树脂构成透明硬涂层16的情况下，透明硬涂层16的折射率n2为1.40～1.50的范围。因此从减少与透明基材层12之间的折射率差额且有助于防止反射性的提高的观点来看，也可在透明硬涂层16中含有折射率高于电离放射线固化性树脂的折射率的无机微粒，由此来提升透明硬涂层16的折射率。作为此种无机微粒，具体而言优选折射率达1.9以上，例如可列举氧化钛、氧化锆、氧化锑、氧化锡、氧化钽、氧化锌、氧化铈、氧化铅、氧化铟、金、银等。其中，从透明性及常用性的观点来看，适宜使用氧化钛、氧化锆。另外，从可赋予紫外线阻断性的观点来看，适宜使用氧化锌、氧化钛、氧化铈、氧化铅。另外，从可赋予带电防止性的观点来看，适宜使用掺杂有锑的氧化锡，或是掺杂有锡的氧化铟等。
此种无机微粒的平均粒子径优选0.1μm以下。通过采用平均粒子径达0.1μm以下的无机微粒，可防止透明硬涂层16的光的散射，防止透明性的降低。
透明硬涂层16中的无机微粒的含有量并无特别的限定，但因无机微粒的种类而有所变化，故而无法一概而论，但优选以作为粘合剂成分的树脂与无机微粒的体积比计为约1∶0.5～1∶2的含量。如此，通过在透明硬涂层16中含有无机微粒，可容易地将透明硬涂层16的折射率n2调节至后述范围内。
在此实施方式中，邻接的各层的折射率之差优选设计成满足以下关系。即，n0与n1之差为0.2以下，较优选为0.1以下。n1与n2之差为0.15以下，较优选为0.1以下。n2与n3之差为0.08以上，较优选为0.1以上。如此，通过缩小相邻接的各层的折射率之差而可更加有利于干涉不均的抑制。此外，n2与n3之差越大，则有在表面部分上的反射越少的倾向。
特别从更加防止干涉不均的观点来看，透明基材层12的折射率n0优选1.45～1.75，更优选为1.50～1.75。底层14的折射率n1优选1.40～1.70，更优选为1.45～1.70。透明硬涂层16的折射率n2优选为1.35～1.70，更优选为1.45～1.70。防反射层18的折射率n3优选为1.20～1.47，更优选为1.20～1.45。
另外，在此实施方式中，虽例示仅在透明基材层12的一面设置透明硬涂层16的情况，但是透明硬涂层16也可设置在透明基材层12的两面。在此情况下，也可将底层14，透明硬涂层16及防反射层18依序层叠于透明基材层12的一面，并且在透明基材层12的另一面设置与透明硬涂层16不同的透明硬涂层(省略图示)。另外也可将透明基材层12置于中心，在一面与另一面分别设置底层14及透明硬涂层16，至少在单面、最好为两面分别使其满足上述折射率条件(n3＜n2≤n1≤n0，且(n0-n3)≤0.5)。
此外，有关防反射层18也可设置在透明基材层12的两面。在此情况下，在透明基材层12的一面依序层叠底层14、透明硬涂层16及防反射层18，并且在透明基材层12的另一面可设置不同于防反射层18的防反射层(省略图示)。
另外，在透明基材层12的一面依序层叠底层14，透明硬涂层16及防反射层18，并且在透明基材层12的另一面也可设置粘接层(省略图示)。作为粘接层的材质，例如除了天然橡胶系、再生橡胶系、氯丁二烯橡胶系、丁腈橡胶系、苯乙烯·丁二烯系等弹性体粘接剂、丙烯系、聚酯系、環氧系、氨基甲酸乙酯系、氰基丙烯酸酯系等合成樹脂粘接剂之外，还可列举乳胶系粘接剂等公知的粘接剂。为了发挥其粘接性，通常粘接层的厚度为15μm以上。因而几乎不会对干涉不均造成影响。
而至于各层12、14、16、18及粘接层，也可使其具有紫外线吸收性能。特别是在将350～380nm范围的光线透过率设为0.1％～70％范围的情况下，即可维持硬涂性又可赋予耐候性。当在透明硬涂层16中使用电离放射线固化性树脂时，通过调整电离放射线固化性树脂固化时的紫外线区域及所吸收的紫外线区域，可在不影响透明硬涂层16的固化的情况下赋予紫外线吸收性。例如，优选使用在与紫外线吸收剂的吸收波长域的峰值差异达到20nm以上的不同位置具有吸收波长域的峰值的光聚合引发剂。由此，可充分使透明硬涂层16固化，并可赋予优越的硬涂性。
作为图像显示元件的液晶显示元件可应用于携带电子笔记本或信息终端等输入装置。这种输入装置多使用在观察对象可明确观看到的特定波长的发光强度较强的三波长荧光灯下。另一方面，当在这种输入装置中使用液晶显示元件时，采用在液晶显示元件上载置有透明的触摸面板的构造。在此种触摸面板中，将在透明基材薄膜表面形成有透明硬涂膜的光学用薄膜作为表面基板使用。
在此实施方式中，将透明基材层12、底层14、透明硬涂层16及防反射层18的各折射率n0～n3设计成特定的关系。由此，在不使表面硬度与透视析像性降低的情况下，特别是在以三波长荧光灯作为照明的环境下，即使是在现有的制膜精度下难以完全消除由于厚度不均而产生的干涉不均，也可使其变得不明显。
本实施方式的光学用薄膜1由于干涉不均不明显，因此可使用于防止带电薄膜、红外线阻断薄膜、防反射薄膜、防止飞散薄膜、触摸面板等。
《层叠体》
图2所示的层叠体3具有透明基板32以及层叠于透明基板32的至少一面的透明导电膜34。在此实施方式中，透明基板32包含图1所示的光学用薄膜1。
此外，为了便于说明，将与光学用薄膜1的设有防反射层18的面相反的面称之为「背面」，将光学用薄膜1的设有防反射层18的面称之为「前面」。在此实施方式中，虽例示将透明导电膜34设置在构成透明基板32的光学用薄膜1的背面的情况，但也可将其设置在前面。
作为透明导电膜34，例如可以包含通常广为人知的透明导电性材料或有机导电性材料。
作为透明导电性材料，例如可列举氧化铟、氧化锡、氧化铟锡、金、银、钯等透明导电性物质。
作为有机导电性材料，可列举例如，聚对亚苯基、聚乙炔、聚苯胺、聚噻吩、聚对亚苯基亚乙烯基、聚吡咯、聚呋喃、聚噻吩、聚吡啶等导电性高分子。其中优选以具有优良透明性和导电性且较低成本的氧化铟、氧化锡或氧化铟锡中的任一种作为主要成分的透明导电性材料。
透明导电膜34可使用上述导电性材料，通过干式法(例如真空蒸镀法、溅涂法、离子镀着法等)或湿式法(例如溶液涂布法等)形成薄膜状态。
由于透明导电膜34的厚度因所使用的材料而不同，故无法一概而论，但优选将其厚度设定为使表面阻率在1000Ω以下，较优选为在500Ω以下。例如，优选10nm以上，更优选为20nm以上。在考虑经济性时，优选80nm以下，更优选为70nm以下的范围。在此类薄膜中，难以产生由于透明导电膜34的厚度不均所造成的可视光的干涉条纹。另外，全光线透过率通常优选80％以上，更优选为85％以上，特别优选为88％以上。
本实施方式的层叠体3由于干涉不均不明显，因此可作为防止带电薄膜或红外线阻断薄膜、防止反射薄膜、触摸面板等电极基板来使用。在下述说明中，例示触摸面板中使用本实施方式的层叠体3的情况。
《触摸面板》
图3所示的触摸面板5为装配在设置于各种电子设备(例如移动电话或车辆导航系统等)的液晶等显示元件9前面的电阻膜方式的触摸面板。通过这种触摸面板5可进行辨识或选择显示在背面的显示元件9上的文字及记号、图案等，通过手指或专用笔等按压操作，可进行设备的各个功能的切换操作。
该实施方式的触摸面板5具有上电极基板(第一电极基板)52以及下电极基板(第二电极基板)54。上电极基板52具有上透明基板(第一透明基板)522。在上透明基板522的下面形成有上透明导电膜(第一透明导电膜)524。下电极基板(第二电极基板)54具有下透明基板(第二透明基板)542。在下透明基板542的上面形成有下透明导电膜(第二透明导电膜)544。
触摸面板5可将上电极基板52侧和下电极基板54侧的任一侧作为可动电极，在本实施方式中，例示将上电极基板52作为可动电极，且将下电极基板54作为固定(非可动)电极的情况。
在此实施方式中，在上电极基板52的下面与下电极基板54的上面的各外周部分隔着略呈框状的间隔体56相互贴合。此外，上电极基板52的上透明导电膜524以及下电极基板54的下透明导电膜544，隔有规定间隙而相对配置。在下透明导电膜544的上面可根据需要以规定间隔配置有多个点状间隔体58。此外，间隔体58可根据需要配置即可，也可为不配置间隔体58的构成。
在上下透明导电膜524、544的两端分别形成有一对电极(省略图示)。在此实施方式中，形成于上透明导电膜524上的一对上电极(省略图示)以及形成于下透明导电膜544上的一对下电极(省略图示)，以相互交差的方向配置。
此外，在此实施方式中，在下电极基板54下面也可介入粘接层7而贴附隔离件(省略图示)。
当将此实施方式的触摸面板5搭载于如彩色液晶等显示元件9前面时，首先剥离此实施方式的触摸面板5的隔离件(省略图示)，露出粘接层7，使其与显示元件9前面对置而接触。由此，可形成附有触摸面板的彩色液晶显示元件。
在所述附有触摸面板的液晶显示元件中，使用者一面辨识配置在触摸面板5背面的显示元件9的显示内容，一面以手指或笔等对上电极基板52的上面进行按压操作时，上电极基板52发生挠曲，被按压处的上透明导电膜524与下透明导电膜544。借助上述一对上下电极可对该接触进行电性检测，从而检测出被按压的位置。
在该实施方式中，以图2所示的层叠体3构成作为可动电极的上电极基板52。层叠体3的透明导电膜34相当于上透明导电膜524。即，上电极基板52的上透明基板522由图1所示的光学用薄膜1构成，且在光学用薄膜1的背面层叠有上透明导电膜524。
在此实施方式中，作为固定电极的下电极基板54的下透明基板542例如由玻璃等构成。
由于此实施方式的触摸面板5使用图2所示的层叠体3来作为可动电极，因此可抑制干涉不均。由于层叠体3中所采用的图1所示的光学用薄膜1具有高硬涂性及高透视析像性，因此触摸面板5难以刮伤，且可获得容易观看配置在触摸面板5背面的液晶等显示元件9的显示效果。
此外，在此实施方式中，除了可动电极之外，在固定电极(下电极基板54)中也可使用图2所示的层叠体3。由此可形成更轻、更薄、难以破裂的触摸面板。
[实施例]
此外，列举将上述发明的实施方式更加具体化的实施例，进行更加详细的说明。另外，文中的「份」、「％」在无特别说明的情况下指重量基准。
《实验例1》
首先，调制底层用涂布液，透明硬涂层用涂布液以及防反射层用涂布液。
<底层用涂布液>
·聚酯系树脂                                1份
(elitel UE3200、UNITIKA公司)
·稀释溶剂                                  32份
<透明硬涂层用涂布液>
·电离放射线固化性树脂                      100份
(固态组分35％、Hitaloid7975、日立化成公司)
·光聚合引发剂                              1份
(IRGACURE184、CIBASPECIALTY CHEMICALSK公司)
·二季戊四醇六丙烯酸酯                    12份
并且，在透明硬涂层用涂布液所包含的Hitaloid7975中含有丙烯基丙烯酸酯作为预聚物的主要寡聚物成分。
<防反射层用涂布液>
·二氧化硅溶胶(二氧化硅成分：10％)        200份
·多孔状二氧化硅微粒分散液                250份
(二氧化硅成分：5％、平均粒子径：55nm)
·异丙醇                                  350份
·正丁醇                                  350份
此外，二氧化硅溶胶的调制如下进行。对于四乙氧基硅烷的乙醇溶液，以盐酸作为溶剂进行加水分解反应，获得二氧化硅成分相当于10％的二氧化硅溶胶。所获得的二氧化硅溶胶无法观察到廷德尔氏现象。
粘接，以棒涂法将已调制的底层用涂布液涂布至作为透明基材层12的厚度为100μm的透明高分子薄膜(聚对苯二甲酸乙二醇酯、折射率：1.65)的一面并使其加热固化，形成厚度约0.2μm的聚酯系树脂制的底层14(折射率：1.60)。
再以棒涂法将已调制的透明硬涂层用涂布液涂布至底层14上，使其干燥而形成涂膜。粘接对于已形成的涂膜，以高压水银灯照射紫外线并使其固化，形成厚度约10μm的电离放射线固化性树脂制的透明硬涂层16(折射率：1.53)。在此时间点按下述方式评估透明硬涂层16的密接性(以下，也称之为「密接性1」。)。关于「密接性1」利用依据JIS-K5600-5-6的横断法(crosscut)来评价，首先向透明硬涂层16侧按照间隙间隔1mm的网格为100个的方式划入切痕。其次在已划入切痕的面贴上依据JIS-Z1522的玻璃纸胶带，目视观察玻璃纸胶带剥离后的涂膜状态。其结果，将完全无剥离者评估为「○」、仅有些许剥离者评估为「△」、全部剥离者评估为「×」。
其次，用棒涂法将已调制的防反射层用涂布液涂布至透明硬涂层16上，并使其加热固化，在波长550nm附近以成为最小反射率的方式形成厚度约0.1μm的防反射层18(折射率：1.36)，从而获得薄膜试样。
针对所获得的薄膜试样，利用下述方法评估其干涉不均、密接性2、透视析像性、铅笔硬度、测定浊度及绝对镜面反射的值。结果如表1所示。
(1)关于「干涉不均」，首先在黑色布上以设置有防反射层的面为上侧的方式载置薄膜试样。其次，利用三波长灯具将照明光照射至薄膜试样的防反射层18侧。然后，从利用反射光可观察三波长灯具图像的位置目视观察反射光所产生的干涉不均。其结果，将干涉不均为完全不明显者评估为「◎」，将干涉不均不明显者评估为「○」，将有干涉不均但却不明显者评估为「△」，将干涉不均为十分明显者评估为「×」。
(2)关于「密接性2」，对薄膜试样的防反射层18侧以90°正交的方式划入两道直线状切痕后，目视观察该涂膜的状态。其结果，将交错部分未发生剥离者评估为「○」，发生剥离者评估为「×」。
(3)关于「透视析像性」，使用图像清晰度测定器(ICM-1DP：SUGA试验机公司)利用依据JIS-K7105的方法，对于薄膜试样测定光梳2.0mm的图像鲜明度。其结果，将测定值达90％以上者评估为「○」，80％以上且未达90％者评估为「△」，未达80％者评估为「×」。另外，图像鲜明度的测定通过使光从防反射层18侧入射来进行。
(4)关于铅笔硬度，利用依据JIS-K5400(1990)的方法，测定薄膜试样表面的铅笔划痕值。并将所得的测定值达2H以上者评估为「◎」，H以上且未达2H者评估为「○」，未达H者评估为「×」。
(5)关于「浊度」，利用浊度测定计(NDH2000、日本电饰公司)且依据JIS-K7136(2000)的方法，测定薄膜试样的浊度的值(单位为「％」)。另外，浊度值的测定通过使光从防反射层18侧入射来进行。其结果，将5％以下者评估为「○」，超过5％者评估为「×」。
(6)关于「绝对镜面反射」，首先在薄膜试样的设有防反射层的面的反面贴上黑色胶带。然后，用分光光度计(UV3101PC岛津制作所公司)测定薄膜试样的设有防反射层的面的入射角5°及反射角5°的镜面反射率。(此反射率显示为波长550nm附近的最小反射率，单位为％)。其结果，将测定结果为2.0％以下者评估为「◎」，超过2.0％且为3.0％以下者评估为「○」，超过3.0％者评估为「×」。同时显示数据结果。
另外，算出底层14与透明硬涂层16的各个主成分的「溶解度系数」，将两者之差为1以内者评估为「≤1」，大于1者评估为「＞1」。此外，在将底层14形成于透明基材层12的阶段中，测定已形成的底层14的「湿润张力」。关于湿润张力依据JIS-K6768(1999)的方法来进行测定。作为试验用混合液，使用湿润张力为40.0mN/m的混合液。其结果，将湿润张力达40.0mN/m以上者评估为「40≤」，未达40.0mN/m者评估为「＜40」。将这些结果一并示于表1。
《实验例2》
除了使用按照下述处方所调制的透明硬涂层用涂布液之外，以与实验例1相同的条件来调制涂布液，获得薄膜试样。并且进行与实验例1相同的测定及评估。结果如表1所示。
<透明硬涂层用涂布液>
·电离放射线固化性树脂            10份
(BEAMSET 575、荒川化学工业公司)
·光聚合引发剂                    0.5份
(IRGACURE 184、CIBA·JAPAN公司)
·稀释溶剂                        10份
此外，在透明硬涂层用涂布液中所含有的BEAMSET575中，含有氨基甲酸乙酯丙烯酸酯作为预聚物的主要寡聚物成分。
在本实验例中，通过棒涂法将已调制的透明硬涂层用涂布液涂布至底层14上，并将干燥形成涂膜，用高压水银灯对该涂膜照射紫外线使其固化，形成厚度约10μm的电离放射线固化性树脂制的透明硬涂层16(折射率：1.50)。
《实验例3》
除了使用作为透明基材层12的厚度为100μm的透明高分子薄膜(聚萘二甲酸乙二醇酯、折射率：1.75)以外，以与实验例1相同的条件来调制涂布液，获得薄膜试样。并进行与实验例1相同的测定及评估。结果如表1所示。
《实验例4》
准备按照下述处方所调制的底层用涂布液
<底层用涂布液>
·丙烯系树脂                   1份
(JURYMER FC60、日本纯药公司)
·稀释溶剂                     7份
粘接，通过棒涂法将已调制的底层用涂布液涂布至作为透明基材层12的厚度为100μm的透明高分子薄膜(聚碳酸酯、折射率：1.59)的一面，并使其加热固化，从而形成厚度约0.2μm的丙烯酸树脂制的底层14(折射率：1.50)。
粘接，通过棒涂法将实验例2的透明硬涂层用涂布液涂布至底层14上，使其干燥而形成涂膜。粘接用高压水银灯对已形成的涂膜照射紫外线，使其固化而形成厚度约10μm的电离放射线固化性树脂制的透明硬涂层16(折射率：1.50)。在此时间点下，对透明硬涂层16的密接性1进行与实验例1相同方式的评估。
通过棒涂法将实验例1的防反射层用涂布液涂布至透明硬涂层16上，使其加热固化而形成厚度约0.1μm的防反射层18(折射率：1.36)获得薄膜试样。并进行与实验例1相同的测定及评估。结果如表1所示。
《实验例5》
通过棒涂法将实验例4的底层用涂布液涂布至实验例1的透明高分子薄膜(折射率：1.65)的一面，使其加热固化而形成与实验例4相同的底层14(折射率：1.50)。
其次，通过棒涂法将实验例1的透明硬涂层用涂布液涂布至底层14上，并使其干燥形成涂膜，用高压水银灯对所形成的涂膜照射紫外线并使其固化，形成与实验例1相同的透明硬涂层16(折射率：1.53)。
粘接，通过棒涂法将实验例1的防反射层用涂布液涂布至透明硬涂层16上，并使其加热固化而形成与实验例1相同的防反射层18(折射率：1.36)从而获得薄膜试样。并进行与实验例1相同的测定及评估。结果如表1所示。
《实验例6》
准备了按照以下处方调制的底层用涂布液。
<底层用涂布液>
·聚乙酸乙烯酯                            10份
(GOHSENOL GL05、日本合成化学工业公司)
·稀释溶剂                                10份
通过棒涂法将已调制的底层用涂布液涂布至实验例1的透明高分子薄膜(折射率：1.65)的一面，并使其加热固化而形成厚度约0.2μm的聚乙烯乙酸酯制的底层14(折射率：1.45)。
其次，通过棒涂法将实验例1的透明硬涂层用涂布液涂布至底层14上，并将其干燥形成涂膜，用高压水银灯对该涂膜照射紫外线使其固化，形成与实验例1相同的透明硬涂层16(折射率：1.53)。
粘接，通过棒涂法将实验例1的防反射层用涂布液涂布至透明硬涂层16上，使其加热固化而形成与实验例1相同的防反射层18(折射率：1.36)以获得薄膜试样。并进行与实验例1相同的测定及评估。结果如表1所示。
《实验例6-1》
准备了用以下处方调制的透明硬涂层用涂布液。
<透明硬涂层用涂布液>
·电离放射线固化型有机无机混合树脂                        100份
(固态组分50％、无机成分38％、DeSolite7503、JSR公司)
·微粒(二氧化硅)                                          1.9份
(平均粒子径3.5μm)(变动系数60％)
·甲乙酮                                                  40份
·甲苯                                                    15份
粘接，用棒涂法将实验例1的底层用涂布液涂布至实验例1的透明高分子薄膜(折射率：1.65)的一面上，并使其加热固化而形成与实验例4相同的底层14(折射率：1.60)。
粘接，通过棒涂法将已调制的透明硬涂层用涂布液涂布至底层14上，并将其干燥形成涂膜，用高压水银灯对该涂膜照射紫外线，使其固化从而形成透明硬涂层16(折射率：1.50)。
粘接，用棒涂法将实验例1的防反射层用涂布液涂布至透明硬涂层16上，并使其加热固化而形成与实验例1相同的防反射层18(折射率：1.36)，获得薄膜试样。并进行与实验例1相同的测定及评估。结果如表1所示。
《实验例6-2》
通过棒涂法将实验例6的底层用涂布液涂布至实验例1的透明高分子薄膜(折射率：1.65)的一面上，使其加热固化而形成与实验例6相同的底层14(折射率：1.45)。
其次，通过棒涂法将实验例6-1的透明硬涂层用涂布液涂布至底层14上，并使其干燥形成涂膜，用高压水银灯对该涂膜照射紫外线，并使其固化，形成透明硬涂层16(折射率：1.50)。
粘接，以棒涂法将实验例1的防反射层用涂布液涂布至透明硬涂层16上，使其加热固化而形成与实验例1相同的防反射层18(折射率：1.36)，获得薄膜试样。并进行与实验例1相同的测定及评估。结果如表1所示。
《实验例7》
准备了用以下处方调制的防反射层用涂布液。
<防反射层用涂布液>
·电离放射线固化性树脂                         50份
(固态组分100％、CN-120A60、日本化药公司)
·多官能丙烯酸酯                               50份
(三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、固态组分100％)
·光聚合引发剂                                 3份
(IRGACURE 184、CIBA·JAPAN公司)
·多孔状二氧化硅微粒                           100份
(平均粒子径：55nm)
·稀释溶剂                                     6500份
粘接，通过棒涂法将实验例1的底层用涂布液涂布至实验例1的透明高分子薄膜(折射率：1.65)的一面，并使其固化，形成与实验例4相同的底层14(折射率：1.60)。
粘接，用棒涂法将实验例1的透明硬涂层用涂布液涂布至底层14上，并使其干燥形成涂膜，用高压水银灯对该涂膜照射紫外线，使其固化，形成与实验例1相同的透明硬涂层16(折射率：1.53)。
其次，以棒涂法将已调制的防反射层用涂布液涂布至透明硬涂层16上，并使其干燥形成涂膜，用高压水银灯对该涂膜照射紫外线，使其固化，形成厚度约0.1μm的防反射层18(折射率：1.37)，获得薄膜试样。并进行与实验例1相同的测定及评估。结果如表1所示。
《实验例8》
作为防反射层用涂布液，除了使用未含有多孔状二氧化硅微粒分散液的实验例1的防反射层用涂布液之外，以与实验例1相同的条件来调制涂布液，获得薄膜试样。并进行与实验例1相同的测定及评估。结果如表1所示。
在本实验例中，以棒涂法将已调制的防反射层用涂布液涂布至透明硬涂层16上，使其加热固化而形成厚度约0.1μm的防反射层18(折射率：1.44)。
《实验例9》
除了使用以下述处方所调制的防反射层用涂布液之外，以与实验例1相同的条件调制涂布液以获得薄膜试样。并进行与实验例1相同的测定及评估。结果如表1所示。
<防反射层用涂布液>
·聚酯树脂                                  1份
(VYLON200、固态组分100％、东洋纺织公司)
·稀释溶液                                  19份
本实验例中，将已调制的防反射层用涂布液通过棒涂法涂布在透明硬涂层16上，使之加热固化形成厚度约0.1μm的防反射层18(折射率：1.55)。
《实验例10》
除使用按照以下的处方所调制的防反射层用涂布液以外，以与实验例1同样的条件来调制涂布液，得到薄膜试样。并且进行与实验例1同样的测定及评价。结果示于表1。
<防反射层用涂布液>
·丙烯树脂                                                5份
(ACRYDIC A 814、固态组分50％、大日本油墨化学工业公司)
·稀释溶剂                                                45份
在本实验例中，用棒涂法将已调制的防反射层用涂布液涂布至透明硬涂层16上，并使其加热固化而形成厚度约0.1μm的防反射层18(折射率：1.50)。
[表1]

由表1的结果可确认到以下的内容。首先，关于干涉不均，当透明硬涂层16的折射率n2大于底层14的折射率n1(n2＞n1。实验例5、6及6-2)时，或防反射层18的折射率n3为透明硬涂层16的折射率n2以上(n3≥n2。实验例9)时，无法满足n3＜n2≤n1≤n0的关系的情况下，至少存在干涉不均，且明显容易辨识。相对于此，当满足n3＜n2≤n1≤n0关系的情况下，(实验例1～4、6-1、7、8、10)，则不会存在干涉不均，可获得良好的结果。特别是在实验例1～4、6-1、7、8、10中，即使是以较薄的厚度形成防反射层18，仍可充分抑制由于防反射层18本身的厚度不均所容易引起的干涉不均的发生。
粘接，关于铅笔硬度，在使用聚酯树脂或丙烯酸树脂作为防反射层18的粘合剂的情况下(实验例9及10)无法获得充分的铅笔硬度。相对于此，实验例1～8可获得充分的铅笔硬度。
另外，关于透视析像性及浊度，由于不含有能成为不透明要素的消光剂，因此无论是哪个实验例，均可获得良好的结果。相对于此，在实验例6-1中含有能成为不透明要素的二氧化硅。不过，若是将其含有量抑制在极少量时，便可在不影响透视析像性的情况下防止粘接现象。
由该结果可确认到在本实验例中，可维持充分的铅笔硬度和透视析像性且干涉不均呈现不明显者为实验例1～4、6-1、7、8，其中可确认到特别优越者为实验例1、2、4、7、8。也即在实验例1、2、4、7、8的试样中，可确认到在可维持高铅笔硬度与透视析像性的同时干涉条纹也不明显。此外，即使在实验例1、2、4、7、8中，也可确认到n2-n3为0.1以上的实验例1、2、4、7，在防止反射的方面特别优异。
《实验例11》
首先，将图3所示的作为上电极基板52的第一层叠体试样通过下述方式来形成，即，用溅涂法在实验例1中所得的薄膜试样的背面(＝防反射层18的相反面)形成厚度约20nm的ITO膜。
粘接，将图3所示的作为下电极基板54的第二层叠体试样用溅涂法在厚度1mm强化玻璃板的一面形成厚度约20nm的ITO膜后，将其切割成4型的大小(纵87.3mm×横64.0mm的长方形)而制作。
再在具有第二层叠体试样的ITO膜的面用丝网印刷法点状印刷作为间隔体用涂布液的电离放射线固化性树脂(DotCureTR5903：太阳油墨公司)后，用高压水银灯照射紫外线，并以1mm的间隔排列直径为50μm、高度为8μm的间隔体58。
将第一层叠体试样与排列有间隔体58的第二层叠体试样按照使两试样的ITO膜隔有规定间隔而对置的方式配置，以厚度30μm、宽度3mm的双面胶带粘接其边缘，制作出相当于图3所示的触摸面板5的触摸面板试样。此外，在此实验例中，使两试样的粘接部分形成位于触摸面板试样的显示面的区域之外。
在已制作的触摸面板试样中其干涉不均不明显，结果可确认能进行良好的操作。