透明耐候性阻隔膜、 通过层合、 挤出层合或挤出涂覆的制备 技术领域 本发明涉及通过层合、 挤出层合 ( 粘合剂层合、 熔体层合或热熔体层合 ) 或挤出涂 覆制备透明耐候性阻隔薄膜。为此, 将薄的无机涂覆的透明薄膜 ( 例如 PET) 与耐候性透明 薄膜 ( 例如 PMMA 或 PMMA- 聚烯烃共挤出物 ) 层合。无机氧化物层具有相对于水蒸气和氧 气的高的透明阻隔物的性能, 而 PMMA 层带来气候老化稳定性。
背景技术
基 于 聚 甲 基 丙 烯 酸 酯 的 耐 候 性、 透明并且抗冲击的薄膜由本申请人以名称 市售。专利 DE 38 42 796 A1 描述了基于丙烯酸酯的澄清的抗冲击模塑组 合物的制备, 由其制备的薄膜和模制品, 以及制备模塑组合物的方法。 所述薄膜具有当暴露 于热和水分时它们不会变色和 / 或变脆的优点。此外它们避免了当暴露于冲击或弯曲应力 时所谓的应力发白。所述薄膜透明并且即使当暴露于热和水分时, 当遭受气候老化时以及 当遭受冲击或弯曲应力时也保持透明。 模塑组合物加工得到所述透明抗冲击薄膜的过程理想地借助于熔体挤出通过宽 缝喷嘴并且在辊机架上平整而进行。这类薄膜的特征在于耐久的透明性、 对热和低温的不 敏感性、 耐候性、 低的泛黄和变脆, 和当遭受折弯或折叠时低的应力发白, 并且因此它们例 如适合作为遮蓬、 汽车车顶或帆中的窗口。这类薄膜的厚度低于 1mm, 例如 0.02-0.5mm。重 要的应用领域是在刚性的尺寸稳定的基底型体例如金属片、 纸板、 碎料板、 塑料片材等上形 成例如厚度为 0.02-0.5mm 的薄表面层。有各种方法可用于制备这类覆盖物。举例来说, 可 以将薄膜挤出得到模塑组合物, 并且平整, 并且层合到基材上。 可以通过挤出涂覆技术将挤 出的线料施加于基材表面上, 并且使用辊将其平整。 如果作为基材本身使用热塑性塑料, 则 可以将两种组合物共挤出从而由本发明的澄清模塑组合物形成表面层。
然而, PMMA 薄膜仅提供相对于水蒸气和氧气的不足的阻隔性能, 而这对于医学应 用, 包装工业中的应用, 尤其是户外应用的电气应用中的应用是必要的。
为了改进阻隔性能, 将透明无机层施加于聚合物薄膜上。特别是硅氧化物层和铝 氧化物层已被广泛使用。该无机氧化物层 (SiOx 或 AlOx) 通过真空涂覆工艺施加 ( 化学 方式, JP-A-10025357、 JP-A-07074378 ; 热或电子束汽化工艺, 溅射, EP 1 018 166 B1、 JP 2000-307136 A、 WO 2005-029601 A2)。EP 1018166 B1 描述了通过 SiOx 层中的硅 / 氧的比 例, 可以影响 SiOx 层的 UV 吸收。为了保护位于下面的层免于 UV 辐射, 这是重要的。然而, 缺点是当硅 / 氧的比例改变时, 阻隔性能也改变。因此不可能彼此独立地改变透明性和阻 隔性。
无机氧化物层有时主要施加于聚酯和聚烯烃上, 因为这些材料经受得住汽化工艺 过程中的热应力。 此外, 无机氧化物层在聚酯和聚烯烃上具有好的粘附性, 其中聚烯烃在涂 覆工艺前进行电晕处理。 然而, 由于这些材料不是气候老化稳定性的, 因此经常将它们与卤 化薄膜层合, 如例如 WO 94/29106 中所述。但是, 卤化薄膜从环境保护角度考虑是成问题 的。
如从 U.Moosheimer, Galvanotechnik 90 第 9 期, 1999, 第 2526-2531 页中获知的 那样, 用无机氧化物层涂覆 PMMA 不能改进相对于水蒸气和氧气的阻隔作用, 因为 PMMA 是无 定形的。然而, 与聚酯和聚烯烃不同, PMMA 是气候老化稳定性的。 发明内容 本申请人使用被称为 “防涂鸦涂料”的涂料, 其在 PMMA 上具有优异粘附性 (DE 102007007999 A1)。通过氟代甲基丙烯酸酯提供了防涂鸦效果。当氟代组分被含硅氧烷的 组分代替时, 所述涂料可以提供对 SiOx 层的优异粘附作用。这些涂料的优点是它们具有优 异的长期耐天然气候老化性。
目的
本发明基于的目的是提供气候老化稳定性并且高度透明 ( 在> 300nm 波长范围内 > 80% ) 的阻隔薄膜, 其中确保相对于水蒸气和氧气高的阻隔性能。PMMA 提供气候老化稳 定性的性能, 无机氧化物层提供阻隔性能。本发明的第一目的是将 PMMA 作为基底层与无机 氧化物层合并。第二个目的是意于不再由无机氧化物层承担保护作用以免于 UV 辐射的功 能, 而是由 PMMA 层承担, 由此其可以只根据光学标准而最优化。第三个目的是意于通过该 材料组合实现大于 1000V 的局部放电电压。
目的的实现
该目的通过气候老化稳定性的阻隔薄膜实现。通过多层薄膜实现了所述性能, 其中通过真空气相沉积、 层合、 挤出层合 ( 粘合剂层合、 熔体层合或热熔体层合 ), 或挤出 涂覆将单个层彼此合并。为此可以使用常规方法, 例如描述于 S.E.M.Selke, J.D.Culter, R.J.Hernandez,″ Plastics Packaging″, 第 2 版, Hanser-Verlag, ISBN1-56990-372-7, 第 226 和 227 页中的那些。
由于根据现有技术不可能直接无机涂覆 PMMA, 因此采用无机层汽相沉积聚酯薄膜 或聚烯烃薄膜, 并且将其用 PMMA 层合或挤出层合。 PMMA 层保护聚酯薄膜或聚烯烃薄膜免于 气候老化效应。无机层与 PMMA 层之间的粘附作用由可 UV 固化并且包含硅氧烷基团的丙烯 酸酯基粘附促进剂提供。也可以使用热熔粘合剂。
此外, PMMA 层包含 UV 吸收剂, 其保护聚酯薄膜或聚烯烃薄膜以免于 UV 辐射。然 而, UV 吸收剂也可以存在于聚烯烃层中。代替 PMMA 层, 也可以使用由 PMMA 和聚烯烃形成 的共挤出物, 其带来成本优点, 因为聚烯烃比 PMMA 廉价。
本发明的优点 :
●本发明的阻隔薄膜是气候老化稳定性的。
●本发明的阻隔薄膜无卤素。
●本发明的阻隔薄膜具有相对于水蒸气和氧气的高阻隔作用 ( < 0.1g/(m2d))。
●本发明的阻隔薄膜保护位于其下面的层以免于 UV 辐射, 这与 SiOx 层的组成无 关。
●本发明的阻隔薄膜可以在低成本下制备, 因为薄的薄膜可用于间歇的无机真空 气相沉积方法。
保护层
使用的保护层是优选由聚甲基丙烯酸甲酯 (PMMA) 或抗冲击 PMMA(sz-PMMA) 制成
的薄膜。也可以使用由聚甲基丙烯酸酯和聚烯烃或聚酯形成的共挤出物。优选由聚丙烯和 PMMA 形成成的共挤出物。另外可能的还有氟化的卤化层, 例如由 PVDF 与 PMMA 形成的共挤 出物, 或者由 PVDF 和 PMMA 形成的共混物, 但是在此会损失无卤素性的优点。
保护层的厚度为 20μm-500μm, 优选厚度为 50μm-400μm, 并且非常特别优选 200μm-300μm。
在本发明中, 可以将光稳定剂加入基底层。光稳定剂应理解为 UV 吸收剂、 UV 稳定 剂和自由基捕获剂。
任选存在的 UV 稳定剂的例子是二苯甲酮衍生物, 其取代基例如羟基和 / 或烷氧基 多数位于 2- 和 / 或 4- 位。在这些化合物中有 2- 羟基 -4- 正辛氧基二苯甲酮、 2, 4- 二羟基 二苯甲酮、 2, 2′ - 二羟基 -4- 甲氧基二苯甲酮、 2, 2′, 4, 4′ - 四羟基二苯甲酮、 2, 2′ - 二 羟基 -4, 4′ - 二甲氧基二苯甲酮、 2- 羟基 -4- 甲氧基二苯甲酮。取代的苯并三唑也非常 适合作为 UV 保护添加剂, 在这些中尤其有 2-(2- 羟基 -5- 甲基苯基 ) 苯并三唑、 2-[2- 羟 基 -3, 5- 二 (α, α- 二甲基苄基 ) 苯基 ] 苯并三唑、 2-(2- 羟基 -3, 5- 二叔丁基苯基 ) 苯 并三唑、 2-(2- 羟基 -3, 5- 二丁基 -5- 甲基苯基 )-5- 氯苯并三唑、 2-(2- 羟基 -3, 5- 二叔丁 基苯基 )-5- 氯苯并三唑、 2-(2- 羟基 -3, 5- 二叔戊基苯基 ) 苯并三唑、 2-(2- 羟基 -5- 叔丁 基苯基 ) 苯并三唑、 2-(2- 羟基 -3- 仲丁基 -5- 叔丁基苯基 ) 苯并三唑和 2-(2- 羟基 -5- 叔 辛基苯基 ) 苯并三唑、 苯酚、 2, 2′ - 亚甲基双 [6-(2H- 苯并三唑 -2- 基 )-4-(1, 1, 3, 3- 四 甲基丁基 )]。
除了苯并三唑以外还可以使用 2-(2′ - 羟基苯基 )-1, 3, 5- 三嗪类的 UV 吸收剂, 例如苯酚 -2-(4, 6- 二苯基 -1, 2, 5- 三嗪 -2- 基 (xy))-5-( 己氧基 )。
另 外 可 以 使 用 的 UV 稳 定 剂 是 2- 氰 基 -3, 3- 二 苯 基 丙 烯 酸 乙 酯、 2- 乙 氧 基 -2′ - 乙基 -N, N’ - 草酰二苯胺、 2- 乙氧基 -5- 叔丁基 -2′ - 乙基 -N, N’ - 草酰二苯胺, 和取代的苯甲酸苯酯。
光稳定剂或 UV 稳定剂可以如上所述的低分子量化合物形式存在于待稳定的聚甲 基丙烯酸酯组合物中。然而, 在与可聚合的 UV 吸收化合物, 例如二苯甲酮衍生物的丙烯酰 基、 甲基丙烯酰基或烯丙基衍生物或者苯并三唑衍生物的丙烯酰基、 甲基丙烯酰基或烯丙 基衍生物共聚后, UV 吸收性基团也可以共价键接在基体聚合物分子内。
UV 稳定剂的比例, 其中这些也可以是化学上不同的 UV 稳定剂的混合物, 通常为 0.01-10 重量%, 尤其为 0.01-5 重量%, 特别为 0.02-2 重量%, 基于 ( 甲基 ) 丙烯酸酯共聚 物。
这里可以提及的自由基捕获剂 /UV 稳定剂的例子是位阻胺, 其以名称 HALS( 受阻 胺光稳定剂 ) 是已知的。它们可用于抑制涂料和塑料, 尤其是聚烯烃塑料中的老化过程 (Kunststoffe, 74(1984)10, 第 620623 页 ; Farbe+Lack, 96 年 度, 9/1990, 第 689-693 页 )。 存在于 HALS 化合物中的四甲基哌啶基确保 HALS 化合物的稳定化作用。这类化合物在哌啶 氮上既可以是未取代的, 又可以是被烷基或酰基取代的。位阻胺在 UV 区域内不吸收。它们 捕获了形成的自由基, 而 UV 吸收剂不能做到这一点。具有稳定化作用的 HALS 化合物的例 子如下, 所述化合物也可以混合物的形式使用 :
癸二酸双 (2, 2, 6, 6- 四甲基 -4- 哌啶基 ) 酯、 8- 乙酰基 -3- 十二烷基 -7, 7, 9, 9- 四甲基 -1, 3, 8- 三氮杂螺 (4, 5) 癸烷 -2, 5- 二酮、 琥珀酸双 (2, 2, 6, 6- 四甲基 -4- 哌啶基 ) 酯、 聚 (N-β- 羟基乙基 -2, 2, 6, 6- 四甲基 -4- 羟基哌啶琥珀酸酯 ), 或癸二酸双 (N- 甲 基 -2, 2, 6, 6- 四甲基 -4- 哌啶基 ) 酯。
特别优选的 UV 吸收剂的例子是 1076。234、360、119 或
本发明的聚合物混合物中自由基捕获剂 /UV 稳定剂的用量为 0.01-15 重量%, 尤 其为 0.02-10 重量%, 特别为 0.02-5 重量%, 基于 ( 甲基 ) 丙烯酸酯共聚物。
UV 吸收剂优选在 PMMA 层中, 但其也可以存在于聚烯烃层或聚酯层中。
此外, 保护层具有足够的层厚, 以保证 1000V 的局部放电电压。这取决于厚度, 例 如在 PMMA 的情形中为从 250μm 起。局部放电电压是指发生将绝缘材料局部桥接的放电所 处的电压 ( 参见 DIN EN 60664-1)。
基底层
使用的基底层是优选由聚烯烃 (PE、 PP) 或聚酯 (PET、 PEN) 制成的薄膜。也可以使 用由其他聚合物制成的薄膜 ( 例如聚酰胺或聚乳酸 )。基底层的厚度为 1μm-100μm, 优选 厚度为 5μm-50μm, 并且非常特别优选 10μm-30μm。
在> 300nm, 优选 350-2000nm, 特别优选 380-800nm 的波长范围内, 基底层的透明 度大于 80%, 优选大于 85%, 特别优选大于 90%。
阻隔层
阻隔层施加于基底层上并且优选由无机氧化物, 例如 SiOx 或 AlOx 构成。然而, 也 可以使用其他无机材料 ( 例如 SiN、 SiNxOy、 ZrO、 TiO2、 ZnO、 FexOy、 透明有机金属化合物 )。 对于确切的层结构, 参见实施例。优选使用的 SiOx 层是其中硅和氧的比例为 1 ∶ 1-1 ∶ 2, 特别优选 1 ∶ 1.3-1 ∶ 1.7 的层。层厚为 5-300nm, 优选 10-100nm, 特别优选 20-80nm。
使用的 AlOx 层优选为其中铝和氧的比例为 2 ∶ 3 的层。层厚为 5-300nm, 优选 10-100nm, 特别优选 20-80nm。
无机氧化物可以借助于物理真空沉积 ( 电子束工艺或热工艺 )、 磁控管溅射或化 学真空沉积施加。同样可能的是火焰预处理、 等离子体预处理或电晕预处理。
粘合层
粘合层位于保护层与阻隔层之间。其允许在所述两个层之间粘附。粘合层的厚 度为 1-100μm, 优选 2-50μm, 特别优选 2-20μm。粘合层可由涂料配方形成, 其随后固 化。这优选通过 UV 辐射发生, 但也可以热方式发生。粘合层包含 1-80 重量%多官能甲基 丙烯酸酯或丙烯酸酯或其混合物作为主要组分。优选使用多官能丙烯酸酯, 例如己二醇二 甲基丙烯酸酯。可以加入单官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯以增加柔性, 例子是甲基丙烯酸 羟乙酯或甲基丙烯酸月桂酯。粘合层还任选包含改进对 SiOx 的粘附作用的组分, 例子是包 含硅氧烷基团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯, 例如甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷。包含 硅氧烷基团 (Silanoxangruppen) 的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯在粘合层中的存在量可以为 0-48 重量%。粘合层包含 0.1-10 重量%, 优选 0.5-5 重量%, 特别优选 1-3 %引发剂, 例 如 184 或 651。粘合层还可以包含 0-10 重量%, 优选 0.1-10 重 量%, 特别优选 0.5-5%硫化合物作为调节剂。一个变型是, 将一部分主要组分由 0-30 重 量%预聚物代替。粘合剂组分任选包含 0-40 重量%的对于粘合剂而言常规的添加剂。然而, 粘合层也可由热熔粘合剂形成。其可由聚酰胺、 聚烯烃、 热塑性弹性体 ( 聚酯弹性体、 聚 氨酯弹性体或共聚酰胺弹性体 ), 或者由共聚物组成。优选乙烯 - 乙酸乙烯酯共聚物, 或乙 烯 - 丙烯酸酯共聚物, 或者乙烯 - 甲基丙烯酸酯共聚物。粘合层可以在层合中借助于辊涂 工艺涂布, 或者在挤出层合中或在挤出涂覆中借助于喷嘴涂布。
应用
该阻隔薄膜可用于包装工业、 显示技术、 有机光生伏打系统、 薄层光生伏打系统、 结晶型硅模块中, 以及用于有机 LED。 具体实施方式
实施例
1. 保护层 - 阻隔层 - 基底层, 层合
将基底层 4( 例如 PET) 用阻隔层 3( 例如 SiOx) 涂覆。通过层合向其上施加保护 层 1( 例如 PMMA)。举例来说, 作为用于层合的粘合层 2, 可以使用基于丙烯酸酯或甲基丙烯 酸酯的粘附促进剂。其可以通过辊涂工艺 ( 辊涂或吻涂 ) 涂布。保护层 1 的特征是其包含 UV 吸收剂。 工艺 :
1. 基底层 4 的真空涂覆 (PVD、 CVD)
2. 使用粘附促进剂, 其代表粘合层 2, 借助于层合 ( 辊涂工艺 ) 将保护层 1 施加于 阻隔层 3 上
3. 粘合层 2 通过 UV 辐射固化
2. 保护层 - 阻隔层 - 基底层, 挤出涂覆
将基底层 4( 例如 PET) 用阻隔层 3( 例如 SiOx) 涂覆。通过挤出涂覆将保护层 1 以 熔体状态 ( 例如 PMMA-PP 共挤出物 ) 施加到其上。任选地, 可以通过粘合层 2, 例如基于丙 烯酸酯或甲基丙烯酸酯的粘附促进剂, 或者热熔粘合剂, 例如基于乙烯 - 丙烯酸酯共聚物 的那种, 改进保护层在阻隔层上的粘附作用。
保护层 1 的特征是其包含 UV 吸收剂并且其由两个或三个层构成 (PMMA 和 PP 或者 PMMA、 粘附促进剂或热熔粘合剂和 PP)。
工艺 :
1. 基底层 4 的真空涂覆 (PVD、 CVD)
2. 可能地使用热熔粘合剂, 其代表粘合层 2, 借助于多层挤出涂覆将保护层 1 施加 于阻隔层 3 上
3. 保护层 - 阻隔层 - 基底层, 挤出层合
将基底层 4( 例如 PET) 用阻隔层 3( 例如 SiOx) 涂覆。 通过挤出层合将保护层 1( 例 如 PMMA 或者由 PMMA 和聚烯烃形成的共挤出物 ) 施加于其上。作为用于层合的粘合层 2, 可 以例如使用热熔粘合剂, 例如基于乙烯 - 丙烯酸酯共聚物的那些。该热熔粘合剂借助于喷 嘴以熔体状态挤出在保护层 1 与包括阻隔层 3 的基底层 4 之间。保护层 1 的特征是其包含 UV 吸收剂。
工艺 :
1. 基底层 4 的真空涂覆 (PVD、 CVD)
2. 粘合层 2 以熔体状态挤出层合在保护层 1 与包括阻隔层 3 的基底层 4 之间
由本发明的薄膜提供的阻隔作用测量
薄膜体系的水蒸气透过率根据 ASTM F1249 在 23℃ /85%相对湿度下测量。
局部放电电压根据 DIN 61730-1 和 IEC 60664-1 或 DIN EN 60664-1 测量。
实施例
比较例 :
现有技术 (EP 1 018 166 B1) 的薄膜, 例如具有的层厚为 50μm 的 SiOx 涂覆的 2 ETFE 具有 0.7g/(m d) 的水蒸气透过率。具有层厚为 50μm 的基底层的本发明薄膜具有 0.01-0.1g/(m2d) 的水蒸气透过速率 ( 参见实施例 1)。
1.
保护层 : PMMA, 层厚 50μm, 包含 1% UV 吸收剂234。粘合层 : 62% Laromer UA 9048V、 31%己二醇二甲基丙烯酸酯、 2%甲基丙烯酸羟 乙酯、 3% Irgacure 651、 2% 3- 甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷
阻隔层 : 借助于电子束真空汽化施加的 SiO1.5, 层厚 : 40nm。
基底层 : PET Mitsubishi Hostaphan RN12, 层厚 : 12μm。
2. 保护层 : 抗冲击 PMMA, 层厚 : 250μm, 包含 2% UV 吸收剂 Cesa GXUVA006。 粘合层 : 62% Laromer UA 9048 V、 31%己二醇二丙烯酸酯、 2%甲基丙烯酸羟乙 Irgacure 184、 2%丙烯酸丁酯 阻隔层 : Al2O3, 层厚 40nm, 借助于磁控管溅射施加。 基底层 : PEN, 层厚 : 20μm。 3. 保护层 : 由 PMMA 和抗冲击 PMMA 形成的共挤出物, 层厚 150μm, 包含 1.5% UV 吸收 360。酯、 3%
剂
粘合层 : 62% Ebecryl 244、 31%己二醇二丙烯酸酯、 2%甲基丙烯酸羟乙酯、 3% Irgacure 651、 2% Glymo
阻隔层 : SiO1.7, 层厚 80nm, 借助于磁控管溅射施加。
基底层 : PET, 层厚 23μm。
4.
保护层 : 由抗冲击 PMMA( 例如 Plex 8943F), 层厚 40μm, 包含 1.5 % UV 吸收剂 360, 和聚乙烯 ( 例如 Dowlex SC 2108 G), 层厚 200μm 形成的共挤出物。粘附促进剂 : Dupont Bynel 22 E 780( 乙烯 - 丙烯酸酯共聚物 )。
粘合层 : Dupont Bynel 22 E 780
阻隔层 : SiO1.7, 层厚 80nm, 借助于电子束真空汽化施加。
基底层 : PET Mitsubishi Hostaphan RN75, 层厚 75μm。
5.
保护层 : 由抗冲击 PMMA 和 PP 形成的共挤出物, 总层厚 280μm, 包含 1.5 % UV 吸收剂 360。PMMA 与 PP 之 间 的 粘 附 促 进 剂 : Bynel。 层 厚 PMMA-Bynel-PP :210-30-30μm
参考标记列表
1 保护层
2 粘合层
3 阻隔层
4 基底层