一种氧化硅纳米花的制备方法.pdf

上传人:大师****2 文档编号:815957 上传时间:2018-03-13 格式:PDF 页数:7 大小:998.36KB
返回 下载 相关 举报
摘要
申请专利号:

CN201010244407.0

申请日:

2010.08.03

公开号:

CN102344147A

公开日:

2012.02.08

当前法律状态:

终止

有效性:

无权

法律详情:

未缴年费专利权终止IPC(主分类):C01B 33/18申请日:20100803授权公告日:20131023终止日期:20160803|||授权|||实质审查的生效IPC(主分类):C01B 33/18申请日:20100803|||公开

IPC分类号:

C01B33/18; B82B3/00

主分类号:

C01B33/18

申请人:

同济大学

发明人:

蔡克峰; 周炽炜

地址:

200092 上海市杨浦区四平路1239号

优先权:

专利代理机构:

上海科盛知识产权代理有限公司 31225

代理人:

林君如

PDF下载: PDF下载
内容摘要

本发明涉及一种氧化硅纳米花的制备方法,将洗净的硅片喷上催化剂膜,置于耐火砖上后推入石英管式炉,排出炉内氧气并通入惰性气体冲刷管路后保持一定流量并将炉温升到1000℃,再关掉惰性气体,改通混合气体,一部分混合气体直接通入石英管式炉中,另一部分混合气体作为载流气将原料蒸汽引入至石英管式炉中,控制炉温至1000℃,保温60~80min,最后向炉中通入惰性气体并将石英管式炉冷却至室温,即得到产品。与现有技术相比,本发明制备的氧化硅纳米花可以用于制备催化、传感、以及光致发(蓝)光和波导等光学材料,结构特殊,扩充了现有的纳米花家族,制备方法简单,原料易得,设备要求简化,成本低。

权利要求书

1: 一种氧化硅纳米花的制备方法, 其特征在于, 该方法包括以下步骤 : 将洗净的硅片 喷上催化剂膜, 置于耐火砖上后推入石英管式炉, 排出石英管式炉内的氧气并通入惰性气 体冲刷管路 1 ~ 10 次后保持一定流量并将炉温升至 1000℃, 再关掉惰性气体, 改通混合气 体, 一部分混合气体直接通入石英管式炉中, 另一部分混合气体作为载流气将原料蒸汽引 入至石英管式炉中, 将炉温升至 1000℃, 保温 60 ~ 80min, 最后向石英管式炉中通入惰性气 体并将石英管式炉冷却至室温, 即得到产品。
2: 根据权利要求 1 所述的一种氧化硅纳米花的制备方法, 其特征在于, 所述的硅片经 以下步骤洗净 : 硅片经四氯化碳、 丙酮和乙醇中依次超声清洗 8 ~ 12min, 然后用去离子水 淋洗, 再将其置于 1wt%的氢氟酸中浸泡 4 ~ 5min, 取出再经去离子水淋洗, 最后用氩气吹 干即可。
3: 根据权利要求 1 所述的一种氧化硅纳米花的制备方法, 其特征在于, 所述的催化剂 膜为金膜, 该催化剂膜的厚度为 5nm。
4: 根据权利要求 1 所述的一种氧化硅纳米花的制备方法, 其特征在于, 所述的耐火砖 为莫来石砖。
5: 根据权利要求 1 所述的一种氧化硅纳米花的制备方法, 其特征在于, 所述的惰性气 体为氩气, 该惰性气体冲刷管路的流量为 280 ~ 350sccm, 冲刷完毕后保持的流量为 50 ~ 70sccm。
6: 根据权利要求 1 所述的一种氧化硅纳米花的制备方法, 其特征在于, 所述的混合气 体为氢气和氩气的混合气体, 其中氢气的含量为 4v/v%~ 6v/v%。
7: 根据权利要求 1 所述的一种氧化硅纳米花的制备方法, 其特征在于, 所述的混合气 体直接通入石英管式炉的流量为 110 ~ 130sccm。
8: 根据权利要求 1 所述的一种氧化硅纳米花的制备方法, 其特征在于, 所述的混合气 体作为载流气的流量为 15 ~ 25sccm。
9: 根据权利要求 1 所述的一种氧化硅纳米花的制备方法, 其特征在于, 所述的原料蒸 汽为四氯化硅蒸汽。
10: 根据权利要求 1 所述的一种氧化硅纳米花的制备方法, 其特征在于, 所述的混合气 体作为载流气时通入冰浴中的液态四氯化硅, 将四氯化硅蒸汽引入石英管式炉中。

说明书


一种氧化硅纳米花的制备方法

    【技术领域】
     本发明涉及一种纳米材料的制备方法, 尤其是涉及一种氧化硅纳米花的制备方法。 背景技术
     氧化硅纳米花除具有氧化硅纳米线所具有的性能, 如显著的蓝光发射性能, 可以 用于光通讯、 光学传感器和高密度的光学集成, 还具有独特的性能, 可用于光学开关、 同质 结和异质结相关的电学器件。其制备一般涉及到激光法、 溶剂热法、 碳热还原法、 CVD 法等。 纳米花的结构相对独特, 成功制备的报道很少, 而且需采用的温度高, 对设备的要求高、 过 程复杂、 原料昂贵。
     因此本领域迫切需要开发一种原料易得, 工艺简单易于控制, 对设备要求低且能 够合成较高产量的氧化硅纳米花的制备方法。 发明内容 本发明的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种可以用于制备 催化、 传感、 以及光致发 ( 蓝 ) 光和波导等光学材料的氧化硅纳米花的制备方法。
     本发明的目的可以通过以下技术方案来实现 :
     一种氧化硅纳米花的制备方法, 其特征在于, 该方法包括以下步骤 : 将洗净的硅片 喷上催化剂膜, 置于耐火砖上后推入石英管式炉, 排出石英管式炉内的氧气并通入惰性气 体冲刷管路 1 ~ 10 次后保持一定流量并将炉温升至 1000℃, 再关掉惰性气体, 改通混合气 体, 一部分混合气体直接通入石英管式炉中, 另一部分混合气体作为载流气将原料蒸汽引 入至石英管式炉中, 将炉温升至 1000℃, 保温 60 ~ 80min, 最后向石英管式炉中通入惰性气 体并将石英管式炉冷却至室温, 即得到产品。
     所述的硅片经以下步骤洗净 : 硅片经四氯化碳、 丙酮和乙醇中依次超声清洗 8 ~ 12min, 然后用去离子水淋洗, 再将其置于 1wt%的氢氟酸中浸泡 4 ~ 5min, 取出 再经去离 子水淋洗, 最后用氩气吹干即可。
     所述的催化剂膜为金膜, 该催化剂膜的厚度为 5nm。
     所述的耐火砖为莫来石砖。
     所述的惰性气体为氩气, 该惰性气体冲刷管路的流量为 280 ~ 350sccm, 冲刷完毕 后保持的流量为 50 ~ 70sccm。
     所述的混合气体为氢气和氩气的混合气体, 其中氢气的含量为 4v/v%~ 6v/v%。
     所述的混合气体直接通入石英管式炉的流量为 110 ~ 130sccm。
     所述的混合气体作为载流气的流量为 15 ~ 25sccm。
     所述的原料蒸汽为四氯化硅蒸汽。
     所述的混合气体作为载流气时通入冰浴中的液态四氯化硅, 将四氯化硅蒸汽引入 石英管式炉中。
     与现有技术相比, 本发明制备的氧化硅纳米花可以用于制备催化、 传感、 以及光致 发 ( 蓝 ) 光和波导等光学材料, 结构特殊, 扩充了现有的纳米花家族, 制备方法简单, 原料易 得, 设备要求简化, 成本低。附图说明
     图 1 为实施例 1 制备的氧化硅纳米花的 SEM 照片 ;
     图 2 为实施例 2 制备的氧化硅纳米花的 SEM 照片 ;
     图 3 为实施例 3 制备的氧化硅纳米花的 SEM 照片 ;
     图 4 为实施例 3 制备的氧化硅纳米花的 SEM 照片。
     具体实施方式
     下面结合附图和具体实施例对本发明进行详细说明。
     实施例 1 一种氧化硅纳米花的制备方法, 该方法包括以下步骤 :
     (1) 将硅片依次浸泡在四氯化碳、 丙酮和乙醇中, 并且分别超声清洗 10min, 然后 将硅片取出用去离子水淋洗, 再将其置于 1wt%的氢氟酸中浸泡 5min, 取出后再经去离子 水淋洗, 最后用氩气吹干即得到洗净的硅片 ;
     (2) 将洗净的硅片喷上 5nm 厚度的金膜, 然后置于莫来石耐火砖上, 推入石英管式 炉。 石英管系统抽真空排出氧气后, 通入氩气冲刷系统 1 次后保持 60sccm, 然后将炉温通过 3h 从常温升到 1000℃ ;
     (3) 关掉氩气, 改通含 5v/v %氢气的氢氩混合气, 一路直接通入石英管内, 流量 为 120sccm ; 另一路作为载流气通入冰浴中的四氯化硅液体引入四氯化硅蒸汽, 流量为 20sccm。待炉温再次稳定于 1000 ℃后, 保温 30min, 关闭混合气和停止加热, 改通流量为 20sccm 的氩气, 系统自然降至室温后, 取出硅片。经电镜观察, 硅片表面显示有大量的花苞 状纳米结构形成。产物电镜照片如图 1 ~ 2 所示。
     实施例 2
     其它条件同实施例 1, 控制保温时间为 60min, 结果显示有大量的花状纳米结构形 成, 其花瓣直径为 20-60nm。产物电镜照片如图 3 ~ 4 所示。
     实施例 3
     一种氧化硅纳米花的制备方法, 该方法包括以下步骤 :
     (1) 将硅片依次浸泡在四氯化碳、 丙酮和乙醇中, 并且分别超声清洗 8min, 然后将 硅片取出用去离子水淋洗, 再将其置于 1wt%的氢氟酸中浸泡 4min, 取出后再经去离子水 淋洗, 最后用氩气吹干即得到洗净的硅片 ;
     (2) 将洗净的硅片喷上厚度为 5nm 的金膜, 置于莫来石砖上后推入石英管式炉, 排出炉内氧气并通入氩气, 控制流量为 280sccm 冲刷管路 10 次, 然后保持氩气的流量为 50sccm, 并控制升温将炉温升到 1000℃ ;
     (3) 关掉氩气, 向管式炉中通入氢气和氩气组成的混合气体, 其中氢气的含量为
     4v/v%, 混合气体分成两部分通入石英管式炉 : 一部分混合气体直接通入石英管式炉中, 流 量为 110sccm, 另一部分混合气体通入冰浴中的液态四氯化硅, 将四氯化硅蒸汽引入石英管 式炉中, 该部分混合气体的流量为 15sccm, 继续升温, 控制炉温达 1000℃, 保温 80min, 最后 向炉中通入氩气并将石英管式炉冷却至室温, 即得到氧化硅纳米花产品。
     实施例 4
     一种氧化硅纳米花的制备方法, 该方法包括以下步骤 :
     (1) 将硅片依次浸泡在四氯化碳、 丙酮和乙醇中, 并且分别超声清洗 12min, 然后 将硅片取出用去离子水淋洗, 再将其置于 1wt%的氢氟酸中浸泡 5min, 取出后再经去离子 水淋洗, 最后用氩气吹干即得到洗净的硅片 ;
     (2) 将洗净的硅片喷上厚度为 5nm 的金膜, 置于莫来石砖上后推入石英管式炉, 排出炉内氧气并通入氩气, 控制流量为 350sccm 冲刷管路 5 次, 然后保持氩气的流量为 70sccm, 并控制升温将炉温升到 1000℃ ;
     (3) 关掉氩气, 向管式炉中通入氢气和氩气组成的混合气体, 其中氢气的含量为 6v/v%, 混合气体分成两部分通入石英管式炉 : 一部分混合气体直接通入石英管式炉中, 流 量为 130sccm, 另一部分混合气体通入冰浴中的液态四氯化硅, 将四氯化硅蒸汽引入石英管 式炉中, 该部分混合气体的流量为 25sccm, 继续升温, 控制炉温达 1000℃, 保温 60min, 最后 向炉中通入氩气并将石英管式炉冷却至室温, 即得到氧化硅纳米花产品。
     在阅读了本发明的上述讲授内容之后, 本领域技术人员可以对本发明作各种改动 或修改, 这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。

一种氧化硅纳米花的制备方法.pdf_第1页
第1页 / 共7页
一种氧化硅纳米花的制备方法.pdf_第2页
第2页 / 共7页
一种氧化硅纳米花的制备方法.pdf_第3页
第3页 / 共7页
点击查看更多>>
资源描述

《一种氧化硅纳米花的制备方法.pdf》由会员分享,可在线阅读,更多相关《一种氧化硅纳米花的制备方法.pdf(7页珍藏版)》请在专利查询网上搜索。

1、10申请公布号CN102344147A43申请公布日20120208CN102344147ACN102344147A21申请号201010244407022申请日20100803C01B33/18200601B82B3/0020060171申请人同济大学地址200092上海市杨浦区四平路1239号72发明人蔡克峰周炽炜74专利代理机构上海科盛知识产权代理有限公司31225代理人林君如54发明名称一种氧化硅纳米花的制备方法57摘要本发明涉及一种氧化硅纳米花的制备方法,将洗净的硅片喷上催化剂膜,置于耐火砖上后推入石英管式炉,排出炉内氧气并通入惰性气体冲刷管路后保持一定流量并将炉温升到1000,再关。

2、掉惰性气体,改通混合气体,一部分混合气体直接通入石英管式炉中,另一部分混合气体作为载流气将原料蒸汽引入至石英管式炉中,控制炉温至1000,保温6080MIN,最后向炉中通入惰性气体并将石英管式炉冷却至室温,即得到产品。与现有技术相比,本发明制备的氧化硅纳米花可以用于制备催化、传感、以及光致发蓝光和波导等光学材料,结构特殊,扩充了现有的纳米花家族,制备方法简单,原料易得,设备要求简化,成本低。51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书3页附图2页CN102344166A1/1页21一种氧化硅纳米花的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤将洗净的硅片喷上催。

3、化剂膜,置于耐火砖上后推入石英管式炉,排出石英管式炉内的氧气并通入惰性气体冲刷管路110次后保持一定流量并将炉温升至1000,再关掉惰性气体,改通混合气体,一部分混合气体直接通入石英管式炉中,另一部分混合气体作为载流气将原料蒸汽引入至石英管式炉中,将炉温升至1000,保温6080MIN,最后向石英管式炉中通入惰性气体并将石英管式炉冷却至室温,即得到产品。2根据权利要求1所述的一种氧化硅纳米花的制备方法,其特征在于,所述的硅片经以下步骤洗净硅片经四氯化碳、丙酮和乙醇中依次超声清洗812MIN,然后用去离子水淋洗,再将其置于1WT的氢氟酸中浸泡45MIN,取出再经去离子水淋洗,最后用氩气吹干即可。。

4、3根据权利要求1所述的一种氧化硅纳米花的制备方法,其特征在于,所述的催化剂膜为金膜,该催化剂膜的厚度为5NM。4根据权利要求1所述的一种氧化硅纳米花的制备方法,其特征在于,所述的耐火砖为莫来石砖。5根据权利要求1所述的一种氧化硅纳米花的制备方法,其特征在于,所述的惰性气体为氩气,该惰性气体冲刷管路的流量为280350SCCM,冲刷完毕后保持的流量为5070SCCM。6根据权利要求1所述的一种氧化硅纳米花的制备方法,其特征在于,所述的混合气体为氢气和氩气的混合气体,其中氢气的含量为4V/V6V/V。7根据权利要求1所述的一种氧化硅纳米花的制备方法,其特征在于,所述的混合气体直接通入石英管式炉的流。

5、量为110130SCCM。8根据权利要求1所述的一种氧化硅纳米花的制备方法,其特征在于,所述的混合气体作为载流气的流量为1525SCCM。9根据权利要求1所述的一种氧化硅纳米花的制备方法,其特征在于,所述的原料蒸汽为四氯化硅蒸汽。10根据权利要求1所述的一种氧化硅纳米花的制备方法,其特征在于,所述的混合气体作为载流气时通入冰浴中的液态四氯化硅,将四氯化硅蒸汽引入石英管式炉中。权利要求书CN102344147ACN102344166A1/3页3一种氧化硅纳米花的制备方法技术领域0001本发明涉及一种纳米材料的制备方法,尤其是涉及一种氧化硅纳米花的制备方法。背景技术0002氧化硅纳米花除具有氧化硅。

6、纳米线所具有的性能,如显著的蓝光发射性能,可以用于光通讯、光学传感器和高密度的光学集成,还具有独特的性能,可用于光学开关、同质结和异质结相关的电学器件。其制备一般涉及到激光法、溶剂热法、碳热还原法、CVD法等。纳米花的结构相对独特,成功制备的报道很少,而且需采用的温度高,对设备的要求高、过程复杂、原料昂贵。0003因此本领域迫切需要开发一种原料易得,工艺简单易于控制,对设备要求低且能够合成较高产量的氧化硅纳米花的制备方法。发明内容0004本发明的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种可以用于制备催化、传感、以及光致发蓝光和波导等光学材料的氧化硅纳米花的制备方法。0005本发明的目的可。

7、以通过以下技术方案来实现0006一种氧化硅纳米花的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤将洗净的硅片喷上催化剂膜,置于耐火砖上后推入石英管式炉,排出石英管式炉内的氧气并通入惰性气体冲刷管路110次后保持一定流量并将炉温升至1000,再关掉惰性气体,改通混合气体,一部分混合气体直接通入石英管式炉中,另一部分混合气体作为载流气将原料蒸汽引入至石英管式炉中,将炉温升至1000,保温6080MIN,最后向石英管式炉中通入惰性气体并将石英管式炉冷却至室温,即得到产品。0007所述的硅片经以下步骤洗净硅片经四氯化碳、丙酮和乙醇中依次超声清洗812MIN,然后用去离子水淋洗,再将其置于1WT的氢氟酸中浸泡。

8、45MIN,取出再经去离子水淋洗,最后用氩气吹干即可。0008所述的催化剂膜为金膜,该催化剂膜的厚度为5NM。0009所述的耐火砖为莫来石砖。0010所述的惰性气体为氩气,该惰性气体冲刷管路的流量为280350SCCM,冲刷完毕后保持的流量为5070SCCM。0011所述的混合气体为氢气和氩气的混合气体,其中氢气的含量为4V/V6V/V。0012所述的混合气体直接通入石英管式炉的流量为110130SCCM。0013所述的混合气体作为载流气的流量为1525SCCM。0014所述的原料蒸汽为四氯化硅蒸汽。0015所述的混合气体作为载流气时通入冰浴中的液态四氯化硅,将四氯化硅蒸汽引入石英管式炉中。说。

9、明书CN102344147ACN102344166A2/3页40016与现有技术相比,本发明制备的氧化硅纳米花可以用于制备催化、传感、以及光致发蓝光和波导等光学材料,结构特殊,扩充了现有的纳米花家族,制备方法简单,原料易得,设备要求简化,成本低。附图说明0017图1为实施例1制备的氧化硅纳米花的SEM照片;0018图2为实施例2制备的氧化硅纳米花的SEM照片;0019图3为实施例3制备的氧化硅纳米花的SEM照片;0020图4为实施例3制备的氧化硅纳米花的SEM照片。00210022具体实施方式0023下面结合附图和具体实施例对本发明进行详细说明。0024实施例10025一种氧化硅纳米花的制备方。

10、法,该方法包括以下步骤00261将硅片依次浸泡在四氯化碳、丙酮和乙醇中,并且分别超声清洗10MIN,然后将硅片取出用去离子水淋洗,再将其置于1WT的氢氟酸中浸泡5MIN,取出后再经去离子水淋洗,最后用氩气吹干即得到洗净的硅片;00272将洗净的硅片喷上5NM厚度的金膜,然后置于莫来石耐火砖上,推入石英管式炉。石英管系统抽真空排出氧气后,通入氩气冲刷系统1次后保持60SCCM,然后将炉温通过3H从常温升到1000;00283关掉氩气,改通含5V/V氢气的氢氩混合气,一路直接通入石英管内,流量为120SCCM;另一路作为载流气通入冰浴中的四氯化硅液体引入四氯化硅蒸汽,流量为20SCCM。待炉温再次。

11、稳定于1000后,保温30MIN,关闭混合气和停止加热,改通流量为20SCCM的氩气,系统自然降至室温后,取出硅片。经电镜观察,硅片表面显示有大量的花苞状纳米结构形成。产物电镜照片如图12所示。0029实施例20030其它条件同实施例1,控制保温时间为60MIN,结果显示有大量的花状纳米结构形成,其花瓣直径为2060NM。产物电镜照片如图34所示。0031实施例30032一种氧化硅纳米花的制备方法,该方法包括以下步骤00331将硅片依次浸泡在四氯化碳、丙酮和乙醇中,并且分别超声清洗8MIN,然后将硅片取出用去离子水淋洗,再将其置于1WT的氢氟酸中浸泡4MIN,取出后再经去离子水淋洗,最后用氩气。

12、吹干即得到洗净的硅片;00342将洗净的硅片喷上厚度为5NM的金膜,置于莫来石砖上后推入石英管式炉,排出炉内氧气并通入氩气,控制流量为280SCCM冲刷管路10次,然后保持氩气的流量为50SCCM,并控制升温将炉温升到1000;00353关掉氩气,向管式炉中通入氢气和氩气组成的混合气体,其中氢气的含量为说明书CN102344147ACN102344166A3/3页54V/V,混合气体分成两部分通入石英管式炉一部分混合气体直接通入石英管式炉中,流量为110SCCM,另一部分混合气体通入冰浴中的液态四氯化硅,将四氯化硅蒸汽引入石英管式炉中,该部分混合气体的流量为15SCCM,继续升温,控制炉温达1。

13、000,保温80MIN,最后向炉中通入氩气并将石英管式炉冷却至室温,即得到氧化硅纳米花产品。0036实施例40037一种氧化硅纳米花的制备方法,该方法包括以下步骤00381将硅片依次浸泡在四氯化碳、丙酮和乙醇中,并且分别超声清洗12MIN,然后将硅片取出用去离子水淋洗,再将其置于1WT的氢氟酸中浸泡5MIN,取出后再经去离子水淋洗,最后用氩气吹干即得到洗净的硅片;00392将洗净的硅片喷上厚度为5NM的金膜,置于莫来石砖上后推入石英管式炉,排出炉内氧气并通入氩气,控制流量为350SCCM冲刷管路5次,然后保持氩气的流量为70SCCM,并控制升温将炉温升到1000;00403关掉氩气,向管式炉中。

14、通入氢气和氩气组成的混合气体,其中氢气的含量为6V/V,混合气体分成两部分通入石英管式炉一部分混合气体直接通入石英管式炉中,流量为130SCCM,另一部分混合气体通入冰浴中的液态四氯化硅,将四氯化硅蒸汽引入石英管式炉中,该部分混合气体的流量为25SCCM,继续升温,控制炉温达1000,保温60MIN,最后向炉中通入氩气并将石英管式炉冷却至室温,即得到氧化硅纳米花产品。0041在阅读了本发明的上述讲授内容之后,本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。说明书CN102344147ACN102344166A1/2页6图1图2说明书附图CN102344147ACN102344166A2/2页7图3图4说明书附图CN102344147A。

展开阅读全文
相关资源
猜你喜欢
相关搜索

当前位置:首页 > 化学;冶金 > 无机化学


copyright@ 2017-2020 zhuanlichaxun.net网站版权所有
经营许可证编号:粤ICP备2021068784号-1