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1、10申请公布号CN104072205A43申请公布日20141001CN104072205A21申请号201410330771722申请日20140711C04B41/8620060171申请人江苏拜富科技有限公司地址214221江苏省宜兴市丁蜀镇陶瓷工业园区申请人武汉理工大学72发明人张强范盘华74专利代理机构湖北武汉永嘉专利代理有限公司42102代理人钟锋54发明名称一种全抛釉陶瓷制品及其制备方法57摘要本发明涉及一种全抛釉陶瓷制品及其制备方法，全抛釉陶瓷制品包括陶瓷坯体及陶瓷坯体外的全抛釉层，所述全抛釉层的原料主要成分为粉料，所述粉料各组分及重量含量为钠长石4262、钾长石27、白云石0。
2、4、方解石48、碳酸钡02、氧化铝68、烧滑石35、氧化锌246、石英粉39、苏州高岭土0525、煅烧高岭土16、硅灰石510、锂辉石0130、硼钙石0128。采用一次配料球磨完成全抛釉浆料的制备，因氧化铝等耐磨物质含量少，球磨时间短，生产效率更高；并通过加入少量锂辉石、硼钙石可以提高烧成后全抛釉陶瓷产品的耐磨性和硬度。51INTCL权利要求书1页说明书3页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书3页10申请公布号CN104072205ACN104072205A1/1页21一种全抛釉陶瓷制品，包括陶瓷坯体及陶瓷坯体外的全抛釉层，其特征在于所述全抛釉层的原料主要成分为。
3、粉料，所述粉料各组分及重量含量为钠长石4262、钾长石27、白云石04、方解石48、碳酸钡02、氧化铝68、烧滑石35、氧化锌246、石英粉39、苏州高岭土0525、煅烧高岭土16、硅灰石510、锂辉石0130、硼钙石0128。2根据权利要求1所述的全抛釉陶瓷制品，其特征在于所述全抛釉层的原料还包括减水剂，所述减水剂加入量为粉料质量的032035。3根据权利要求2所述的全抛釉陶瓷制品，其特征在于所述减水剂为三聚磷酸钠、水玻璃、腐植酸钠按质量比111配制而成的复合减水剂。4根据权利要求1所述的全抛釉陶瓷制品，其特征在于所述全抛釉层的原料还包括悬浮剂，所述悬浮剂的加入量为粉料质量的030。5根据权。
4、利要求4所述的全抛釉陶瓷制品，其特征在于所述悬浮剂为取代度为0507的羧甲基纤维素钠。6一种权利要求1至5任一所述的全抛釉陶瓷制品的制备方法，其特征在于根据权利要求1至5任一所述的配方称取原料，按原料中粉料磨球水1205加入球磨机中球磨1822H，然后经除铁、过筛得全抛釉浆料，再将所述全抛釉浆料施于已印花的陶瓷坯体上，并在11801220下一次性烧成，并经磨边、抛光等工序得到全抛釉陶瓷制品。7根据权利要求6所述的全抛釉陶瓷制品的制备方法，其特征在于所述过筛是过325目，筛余小于等于05。权利要求书CN104072205A1/3页3一种全抛釉陶瓷制品及其制备方法技术领域0001本发明属于陶瓷生产。
5、技术领域，具体涉及一种全抛釉陶瓷制品及其制备方法。背景技术0002目前喷墨打印技术在陶瓷装饰新产品开发上被大量应用，陶瓷喷墨打印的优势是花色品种设计更为灵活，色釉用量更为节省，图案纹理更为逼真，但由于其釉料用量极少，导致色釉图案易磨损，严重影响装饰效果，为进一步保留陶瓷喷墨打印装饰效果，弥补其使用上的不足，在陶瓷产品色釉图案之上施加一层耐磨透明的全抛釉，烧制后将釉面进行抛光就能够解决这一问题。但普通透明釉的耐磨性不能满足瓷质砖的耐磨要求，故开发一种既透明、又耐磨且成本低的陶瓷全抛釉成为人们追求的目标。0003全抛釉产品集抛光砖的光洁和仿古砖的内涵于一体，实现了“看得见，摸不着”的艺术效果。而全。
6、抛釉是这一完美结合的关键。目前我国主要陶瓷产区都推出了全抛釉产品，深得市场推崇和认可，是市场中的高档陶瓷制品，市场前景广阔。0004中国专利CN102329152A公开了一种全抛釉仿古砖面釉及其制备方法，其原料组成中有毒物质碳酸钡的加入量为46。其次，该全抛釉制备中加有乙二醇和印油即原料球石乙二醇印油118202503，既增加了生产成本，有容易导致釉面缺陷的产生。专利CN102603364A公开了一种超耐磨高硬度全抛釉料的原料配方及制备方法，其全抛釉制浆过程为两步完成首先配料球磨制备釉浆，其次将配制的增稠剂按比例与釉浆混合4060MIN，生产效率较低；2全抛釉配料组成中氧化铝加入比例为10份，。
7、即10，由于刚玉氧化铝为价格比较高的原料，其比例增加会明显提高成本，也会增加球磨时间，降低生产效率。发明内容0005本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足，提供一种全抛釉陶瓷制品及其制备方法，其全抛釉原料采用一次配料球磨完成制备过程，生产效率高，并且利用该全抛釉原料制备的全抛釉陶瓷产品透明性好、防污耐磨。0006本发明为解决上述技术问题采用以下技术方案0007一种全抛釉陶瓷制品，包括陶瓷坯体及陶瓷坯体外的全抛釉层，所述全抛釉层的原料主要成分为粉料，所述粉料各组分及重量含量为钠长石4262、钾长石27、白云石04、方解石48、碳酸钡02、氧化铝68、烧滑石35、氧化锌246、石英。
8、粉39、苏州高岭土0525、煅烧高岭土16、硅灰石510、锂辉石0130、硼钙石0128。0008按上述方案，所述全抛釉层的原料还包括减水剂，所述减水剂加入量为粉料质量的032035。0009按上述方案，所述减水剂为三聚磷酸钠、水玻璃、腐植酸钠按质量比111配制而成的复合减水剂。说明书CN104072205A2/3页40010按上述方案，所述全抛釉层的原料还包括悬浮剂，所述悬浮剂的加入量为粉料质量的030。0011按上述方案，所述悬浮剂为取代度为0507的羧甲基纤维素钠CMC。0012本发明还提供上述全抛釉陶瓷制品的制备方法，其技术方案是根据上述的配方称取原料，按原料中粉料磨球水1205加入球。
9、磨机中球磨1822H，然后经除铁、过筛得全抛釉浆料，再将所述全抛釉浆料施于已印花的陶瓷坯体上，并在11801220下一次性烧成，并经磨边、抛光等工序得到全抛釉陶瓷制品。0013按上述方案，所述过筛是过325目，筛余小于等于05。0014本发明的有益效果在于本发明原料中仅含02碳酸钡和68氧化铝，球磨时无需添加乙二醇、印油等物质，只加水和少量CMC即可，既减少生产成本，又避免釉面缺陷的产生；另外，本发明全抛釉原料采用一次配料球磨工艺完成制备，因氧化铝等耐磨物质含量少，球磨时间短，生产效率更高；再者，本发明通过加入少量锂辉石、硼钙石可以提高全抛釉的耐磨性和硬度，采用该全抛釉得到的陶瓷产品品质更好。。
10、0015此外，本发明提供的全抛釉浆料稳定性好12月不沉淀、比重较大比重在186190G/CM3之间、粒度小325目筛余不大于05、烧失量小6581，烧成温度范围宽11801220、陶瓷釉面耐磨性好、不吸污，釉下图案纹理清晰。具体实施方式0016为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合实施例对本发明作进一步详细描述。0017实施例10018全抛釉浆料其原料主要成分包括粉料、减水剂和悬浮剂，所述粉料包括以下重量含量的组分钠长石42、钾长石7、方解石8、碳酸钡2、氧化铝8、烧滑石50、氧化锌46、石英粉9、苏州高岭土05、煅烧高岭土1、硅灰石10、锂辉石01、硼钙石28；0019所述减。
11、水剂为三聚磷酸钠、水玻璃、腐植酸钠按质量比111配制而成的复合减水剂；0020所述悬浮剂为羟甲基纤维素CMC，CMC取代度为05。0021复合减水剂为粉料质量的033，CMC为粉料质量的030022全抛釉浆料的制备将上述原料按比例准确称量，装入陶瓷球磨机中，加入水，原料中粉料磨球水1205，球磨22H，然后经除铁、过筛即得到全抛釉浆料，其比重190G/CM3，325目筛余05。该全抛釉浆料稳定性好，放置60天不沉淀。0023将所得全抛釉浆料施于已印花的陶瓷坯体上，并在1220下一次性烧成，并经磨边、抛光等工序得到瓷质砖。测得烧失量65。0024本实施例得到的全抛釉陶瓷制品图案清晰，采用蓝墨水测。
12、试无痕迹残留，可判断耐污性好。本实施例所制备的全抛釉层析出的微晶相有刚玉质微晶其莫氏硬度为90、钙长石其莫氏硬度为6065、硅灰石其莫氏硬度为4050等,非晶相为碱石灰玻璃其莫氏硬度为50。测得所制备的全抛釉层莫氏硬度达45左右，而全抛釉的耐磨性与硬度是正相关的，因此可见其耐磨性良好。说明书CN104072205A3/3页50025实施例20026全抛釉浆料其原料主要成分包括粉料、减水剂和悬浮剂，所述粉料包括以下重量含量的组分钠长石56、钾长石2、白云石17、方解石4、氧化铝6、烧滑石3、氧化锌35、石英粉3、苏州高岭土25、煅烧高岭土6、硅灰石7、锂辉石3、硼钙石23；0027所述减水剂为三。
13、聚磷酸钠、水玻璃、腐植酸钠按质量比111配制而成的复合减水剂；0028所述悬浮剂为羟甲基纤维素CMC，CMC取代度为06。0029复合减水剂为粉料质量的032，CMC为粉料质量的030030全抛釉浆料的制备将上述原料按比例准确称量，装入陶瓷球磨机中，加入水，原料中粉料磨球水1205，球磨20H，然后经除铁、过筛即得到全抛釉浆料，其比重189G/CM3,325目筛余047。该全抛釉浆料稳定性好，放置60天不沉淀。0031将所得全抛釉浆料施于已印花的陶瓷坯体上，并在1200下一次性烧成，并经磨边、抛光等工序得到瓷质砖。测得烧失量75。本实施例得到的全抛釉陶瓷制品性能与实施例1所得制品性能相似。00。
14、32实施例30033全抛釉浆料其原料主要成分包括粉料、减水剂和悬浮剂，所述粉料包括以下重量含量的组分钠长石62、钾长石21、白云石4、方解石45、碳酸钡07、氧化铝61、烧滑石35、氧化锌20、石英粉46、苏州高岭土10、煅烧高岭土17、硅灰石5、锂辉石27、硼钙石01；0034所述减水剂为三聚磷酸钠、水玻璃、腐植酸钠按质量比111配制而成的复合减水剂；0035所述悬浮剂为羟甲基纤维素CMC，CMC取代度为07。0036复合减水剂为粉料质量的035，CMC为粉料质量的030037全抛釉浆料的制备将上述原料按比例准确称量，装入陶瓷球磨机中，加入水，原料中粉料磨球水1205，球磨18H，然后经除铁。
15、、过筛即得到全抛釉浆料，其比重186G/CM3,325目筛余046。该全抛釉浆料稳定性好，放置30天不沉淀。0038将所得全抛釉浆料施于已印花的陶瓷坯体上，并在1180下一次性烧成，并经磨边、抛光等工序得到瓷质砖。测得烧失量81。0039本实施例得到的全抛釉陶瓷制品性能与实施例1所得制品性能相似。0040由以上实施例可知本发明提供的全抛釉层原料配伍合理，加入适当比例刚玉微晶料及氧化钙等材料，保证烧成中钙长石等微晶的析出，提高了全抛釉层的硬度和耐磨性；该全抛釉浆料制备方法简单，节能环保，因而适于工业化生产。0041值得注意的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。说明书CN104072205A。