一种双层立体车库技术领域
本发明涉及立体车库技术领域，具体是涉及一种双层立体车库。
背景技术
停车问题是城市在发展过程中出现的静态交通（车辆停放状态）问题，静态交通是相对于动态交通（车辆行驶状态）而存在的一种交通形态，二者相互联系，互相影响，停车设施是城市静态交通的主要内容，随着城市的不断发展，各种车辆的不断增加，对停车设施的需求也在不断增加，如果两者之间失去平衡，城市里就会出现停车难的一系列问题。数据显示，最近几年我国城市机动车辆平均增长速度在15%-20%，而同时期城市停车基础设施的平均增长速度只有2%-3%，特别是大城市的机动车拥有量的增长速度远远超过停车基础设施的增长速度，因此，我们必须重视城市停车难的问题，并积极探求解决的措施。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种结构简单、操作方便的双层立体车库。
为解决上述技术问题，本发明提供以下技术方案：一种双层立体车库，包括立体框架、载车板、用于驱动载车板做升降运动的传动系统、用于控制传动系统的控制系统，所述立体框架包括置于一端的两根间隔设置的竖向滑轨立柱、与竖向滑轨立柱底部滑动配合的纵向滑轨，所述传动系统驱动载车板在竖向滑轨立柱上做升降运动，还包括有用于驱动两竖向滑轨立柱在纵向滑轨内同步往复移动的受控制系统控制的驱动系统，所述纵向滑轨长度为两竖向滑轨立柱之间间距的2倍。
在上述方案基础上优先，所述立体框架还包括有置于另一端的两根竖向立柱，两竖向立柱之间间距与两竖向滑轨立柱之间间距等宽；所述竖向立柱上部内侧面设有与载车板相对应的支撑槽。
在上述方案基础上优先，所述立体框架还包括有固定座，两竖向立柱固定连接于固定座上。
在上述方案基础上优先，两竖向立柱之间连接有固定杆，两竖向滑轨立柱之间也连接有固定杆。
在上述方案基础上优先，所述控制系统采用PLC可编程序控制器。
本发明与现有技术相比具有的有益效果是：本发明提供的立体车库，结构简单，操作方便，制造成本低，可有效解决城市停车难问题，市场前景广阔。
附图说明
图1为本发明侧视图；
图2为本发明立体框架结构示意图。
图中标号为：1-载车板，2-传动系统，3-驱动系统，4-PLC可编程序控制器，5-竖向滑轨立柱，6-纵向滑轨，7-竖向立柱，8-支撑槽，9-固定座，10-固定杆。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
参照图1和图2可知，一种双层立体车库，包括立体框架、载车板1、用于驱动载车板1做升降运动的传动系统2。
其中，所述立体框架包括置于一端的两根间隔设置的竖向滑轨立柱5、置于另一端的两根竖向立柱7、与竖向滑轨立柱5底部滑动配合的纵向滑轨6、固定座9，两竖向立柱7之间间距与两竖向滑轨立柱5之间间距等宽，立体框架的横向长度大于纵向宽度，两竖向立柱7之间连接有固定杆10，两竖向滑轨立柱5之间也连接有固定杆10，两竖向立柱7固定连接于固定座9上。竖向立柱7上部内侧面设有与载车板1相对应的支撑槽8。固定座9、纵向滑轨6均掩埋于地下，且纵向滑轨6长度为两竖向滑轨立柱5之间间距的2倍，传动系统2驱动载车板1在竖向滑轨立柱5上做升降运动。
还包括有用于驱动两竖向滑轨立柱5在纵向滑轨6内同步往复移动的驱动系统3，用于控制传动系统2、驱动系统3作业的控制系统。其中，传统系统、驱动系统的结构及工作原理均为现有技术，例如，传统系统包括正反转电机、减速器、按一定方式分布用于牵引运动的牵引绳等，此处不再赘述。该控制系统采用PLC可编程序控制器4，主要有手动、自动、复位、急停四种控制方法。自动控制应用于平时的正常工作状态，手动控制应用于调试、维修状态，复位应用于排除故障场合，急停应用于发现异常的紧急场合。
当第一辆车入库时，可直接倒车入底层车位；当第二辆车要入库时，利用控制系统控制驱动系统3驱动竖向滑轨立柱5沿纵向向外移动，载车板1脱离竖向立柱7的支撑槽8，利用控制系统控制传动系统2驱动载车板1下降，第二辆车驱车停在载车板1后驱动载车板1上升至一定高度，该高度满足载车板1与支撑槽8相对应，然后控制驱动系统3驱动竖向滑轨立柱5沿纵向向内移动，使载车板1卡入竖向立柱7的支撑槽8内，完成入库。高层车位的车辆需要出库时，竖向滑轨立柱5先向外横移，载车板1与支撑槽8脱离，然后载车板1下降即可。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。