等离子显示屏及其制造方法 【技术领域】
本发明涉及用于计算机和电视机等的图象显示的等离子显示屏。
背景技术
近年来，在用于显示图象的以CRT显示屏(CRT)、液晶显示屏(LCD)、等离子显示屏(PDP)为代表的显示装置中，人们正在期待实现以高清晰度电视屏为代表的高质量而且大画面的显示屏。
在这些显示装置中最为普及的CRT在分辨率和图象质量方面是优异的，但是从厚度和重量方面考虑，作为实现40英寸以上大画面的装置却是不能令人满意的。另一方面，LCD具有所谓消耗电能少和驱动电压低的优异性能，但是它却难以实现大屏幕化，而且其视野角度也受到限制。与此相对照，PDP具有宽的视野角，而且其薄型化和大屏幕化都比较容易，已经开发出40英寸的制品(例如《功能材料》，1996年2月，16卷，27页)。
PDP是一种气体放电显示屏，它通常具有由前面玻璃基板和背面玻璃基板通过介于二者之间的隔壁而对向地配置的结构。
在前面玻璃基板的对向面上，排列地设置有多对由Ag或Cr/Cu/Cr构成的导电性的金属电极，然后形成电介质层以便将该金属电极绝缘覆盖，进而在其上面被覆一层由MgO等形成的保护层。在背面玻璃基板地对向面上也排列地设置有多对金属电极，同时也形成了用于被覆这些电极的电介质层，进而在其上面排列地设置隔壁，并在隔壁与隔壁之间涂布荧光体层。在前面玻璃基板与背面玻璃基板之间封装入由稀有气体等组成的放电气体。在需要驱动PDP时，通过向形成在前面玻璃基板上的电极对施加脉冲电压来使封入的放电气体放出紫外线，该紫外线就将设置在背面玻璃基板上的荧光体层激发并因此使其发光。由该荧光体层发出的光通过电介质层和前面玻璃基板等而被使用者看到。
此处，在前面玻璃基板上形成的电介质层一般由低熔点的玻璃形成，作为其特性，要求其透明度高、烧结温度在500～600℃左右并具有足够的耐电压性能。
在以往的电介质层中，一般使用具有足够耐压性能的PbO或Bi2O3类玻璃。但是，由于这些材料的相对介电常数为10～12这样大，因此在放电时流过的电流量大，从而使得消耗于PDP的电能有增多的倾向。
因此，有人考虑使用相对介电常数较低的SiO2作为电介质层。然而，由于SiO2是通过蒸镀法或溅射法来成膜的，因此难以形成作为电介质层所需要的厚度(20～30μm左右)，除此之外，在已形成的膜上容易产生裂纹，因此难以确保其足够的耐压性。
另一方面，作为用于电介质层的玻璃，已经开发出Na2O-B2O3-SiO2系玻璃、Na2O-B2O3-ZnO系玻璃，这些玻璃不含上述那样的PbO和Bi2O3，其相对介电常数比以往的低，而且其软化点为500～600℃(例如可以参照特开平9-199037号公报、特开平9-278482号公报)。通过向这些玻璃中加入Na2O(氧化钠)、K2O(氧化钾)、Li2O(氧化锂)等用于降低玻璃的软化点的由碱金属氧化物组成的软化点降低成分，可以使玻璃的软化点降低，因此可以在比较低的温度下进行电介质层的烧结。
可是，当在电介质层中使用加入了这类软化点降低成分的玻璃的场合，就存在电介质层或前面玻璃基板变黄的可能性。发生这种变黄现象的机理可以认为如下。
在使用Ag或Cu作为设置于前面玻璃基板上的显示电极的情况下，在用于形成电介质层而进行烧结时，存在Ag或Cu发生离子化并开始熔化并扩散到电介质层或前面玻璃基板中的情况。这些扩散的Ag离子或Cu离子容易被由于电介质层中的软化点降低成分发生离子化而生成的Na离子等的碱金属离子或者在前面玻璃基板中所含的Sn离子(2价)还原，在该场合发生了胶体化。这样，在Ag或Cu发生胶体化的场合，就会在电介质层或前面玻璃基板上发生一种导致变为黄色或褐色的所谓变黄的现象(例如J.E.SHELBY and J.VITKO.Jr Journalof Non Crystalline Solides Vol.50(1982)107-117)。由于这种变黄的玻璃吸收波长400nm的光，因此在PDP的情况下，蓝色的亮度降低，并造成色彩的劣化。另外，由于Ag或Cu的胶体是导电性的，因此导致电介质层的绝缘耐压性能降低，并且由于该胶体作为比离子大得多的胶体粒子析出，这些胶体粒子对透过介电质层的光进行反射，这就成为导致PDP的亮度降低的原因。
为了抑制这样的电介质层发生绝缘耐压性能降低或变黄的现象，也可以考虑采用二层结构的电介质层的方法，即，在与显示电极直接接触的部分使用不含软化点降低成分的PbO类玻璃来形成覆盖电介质层的覆膜，然后在其上面积层一种介电常数低的Na2O-B2O3-SiO2类玻璃，从而形成二层结构的电介质层，但是这样会导致电介质层的制造工序数增加，从而导致成本增高，因此不理想。另外，从环境保护的观点考虑，也希望不使用铅(Pb)。
鉴于上述的课题，本发明的目的是提供可靠性高的等离子显示屏及其制造方法，该显示屏具有为了降低介电常数而不含PbO，并且耐电压性能优良的电介质层，而且可以抑制上述前面玻璃基板或电介质层本身变黄，同时不会破坏绝缘性。
【发明内容】
为了达到上述目的，本发明的等离子显示屏具有金属电极和用于覆盖该金属电极的电介质层，其特征在于，该电介质层由包含氧化锌、氧化硼、R2O和MO2的玻璃而构成。其中，R2O是从氧化锂、氧化钠、氧化钾、氧化铷、氧化铯、氧化铜、氧化银中选出的一种物质；MO2是从氧化锰(IV)、氧化铈(IV)、氧化锡(IV)、氧化锑(IV)中选出的一种或两种或以上的物质。
按照这样的方案，即便一般作为金属电极使用的银或铜成为离子而扩散到电介质层或前面玻璃基板中，也能使这些金属保持离子化状态。因此可以抑制银或铜凝聚而胶体化，从而可以抑制由于胶体化所引起的电介质层或前面玻璃基板变黄或者发生绝缘破坏。
此处，碱金属氧化物R2O可以降低玻璃的软化点，同时可以提高电介质层的耐压性能。通过添加这种碱金属氧化物R2O，可以降低在玻璃熔化时的表面张力并因此可以提高其流动性，因此可以抑制在电介质层中形成针孔或裂纹，从而可以提高电介质层的耐压性能。但是，作为软化点降低成分的碱金属氧化物R2O是促进变黄的物质，如果其添加量超过10重量％，则会使电介质层激裂变黄，因此优选将其添加量限制在10重量％或以下。
然而，当在电介质层中使用具有上述组成的玻璃时，虽然如果在其组成中不含MO2，则不会在电介质层中发生肉眼可看出的变黄(表示玻璃变黄的b*值在5左右)，但是由于在实际上仍发生变黄现象，因此在PDP的情况下引起色温大为降低，从而导致显示图象的质量降低。
因此，通过把含有上述MO2的玻璃用于电介质层中，便可以在电介质层和前面玻璃基板中保持优良的耐压性能并可抑制绝缘破坏，而且可以抑制变黄现象的发生。
采取这样的措施，可以提供一种具有可靠性高的电介质层的等离子显示屏及其制造方法，该电介质层由P2O5系玻璃或ZnO系玻璃构成，这些玻璃不含PbO或Bi2O3，以便降低介电常数，而且含有碱金属氧化物(R2O)以便提高耐压性能，该电介质层可以抑制前面玻璃基板和电介质层本身变黄，同时不会发生绝缘破坏的现象。
另外，具体地说，可以确认，如果构成电介质层的玻璃的组成比例为，氧化锌：35～44重量％、氧化硼：35～55重量％、氧化硅：5～15重量％、R2O：1～5重量％、MO2：0.5～10重量％，便可以抑制PDP的变黄和绝缘性能的破坏。
另外，在构成电介质层的玻璃中另外还加入氧化铝，也可以适用。该氧化铝可以起到抑制电介质层分相的作用。
具体地说，如果构成电介质层的玻璃的组成比为，氧化锌：20～43重量％、氧化硼：38～55重量％、氧化硅：5～17重量％、氧化铝：1～10重量％、R2O：1～5重量％、MO2：0.2～5重量％，即可以抑制PDP的变黄和绝缘性能的破坏。
另外，在构成电介质层的玻璃中另外还加入氧化磷(V)，也可以适用。
具体地说，如果构成电介质层的玻璃的组成比例为，氧化锌：20～35重量％、氧化硼：30～55重量％、氧化硅：5～12重量％、氧化磷(V)：15～25重量％、R2O：0.1～5重量％、MO2：0.5～10重量％，即可以抑制PDP的变黄和绝缘性能的破坏。
另外，可以确认，当R2O为氧化钾，而且构成电介质层的玻璃的组成比例为，氧化锌：10～25.5重量％、氧化硼：20～40重量％、氧化硅：10～30重量％、氧化铝：5～25重量％、氧化钾：3～10重量％、MO2：0.5～5重量％的情况下，可以抑制PDP的变黄和绝缘性能的破坏。
另外，当R2O为氧化锂，而且构成电介质的玻璃的组成比例为，氧化锌：10～19重量％、氧化硼：20～40重量％、氧化硅：10～30重量％、氧化铝：5～25重量％、氧化锂：3～10重量％、MO2：1～5重量％的情况下，也可以抑制PDP的变黄和绝缘性能的破坏。
另外，由以下的玻璃构成的电介质层也可以适用，所说的玻璃包括ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3-R2O系玻璃、P2O5-ZnO-B2O3-SiO2-R2O系玻璃或ZnO-B2O3-SiO2-MO-R2O系玻璃(其中，M是选自Mg、Ca、Sr、Ba中的一种或两种或以上的物质)，在这些玻璃中，不含PbO和Bi2O3，而且碱金属氧化物(R2O，其中的R是选自Li、K、Na、Cu、Ag、Cs、Rb中的一种物质)的含量在10重量％或以下，并且添加有0.5～5重量％可以在玻璃中得到3价或4价的离子形态(配置)的金属氧化物MO2。
特别是在使用银电极或铬/铜/铬电极作为金属电极时，防止变黄或抑制绝缘性能破坏的效果更好。
【附图说明】
图1是PDP主要部分的立体图。
图2是沿X轴方向观察图1中的PDP时的侧视图。
图3是沿Y轴方向观察图1中的PDP时的侧视图。
图4是各制造工序中的前面显示屏的侧视图。
图5是喷墨装置的概略图。
用于实施发明的最佳方式
下面参照附图来说明本发明中所说的PDP的一种实施方式。本申请在下文中示出的实施方式和各附图只起示例示的作用，本发明不受这些实施方式和附图的限定。
(PDP的结构)
首先说明PDP的结构。
图1是本实施方式中所说的PDP(AC型)的局部立体图，图2是沿X轴方向观察图1中的PDP时的截面图，图3是沿Y轴方向观察图1中的PDP时的截面图。
如图1所示，PDP具有如下的结构，即，它具有前面屏10和背面屏20，在前面屏10处的前面玻璃基板11和在背面屏20处的背面玻璃基板21通过隔壁24等而相互平行地配置，各基板11、21的外周边部分被玻璃熔块(图中未示出)等密封。
如图1和图3所示，在前面屏10中，带状的扫描电极12a和维持电极12b相互平行地形成在前面玻璃基板11的对向面上，电介质层13覆盖着各电极12a、12b，而且在电介质层13上被覆有保护层14。在图1和图3中，虽然只示出了一对扫描电极12a和维持电极12b，但是在实际上设置了许多对扫描电极12a和维持电极12b。
前面玻璃基板11由浮法生产的硼硅酸钠系玻璃制成。
如图3所示，扫描电极12a和维持电极12b由透明电极12a1、12b1和在其一部分上积层的起汇流母线(バスライン)作用的金属电极12a2、12b2构成，其中，透明电极12a1、12b1由ITO或SnO2构成，而金属电极12a2、12b2由Ag或Cr/Cu/Cr构成。应予说明，在此处，扫描电极12a和维持电极12b具有透明电极12a1、12b1，但是，各电极12a、12b也可以不具有透明电极而是仅由金属电极12a2、12b2构成。
电介质层13是由电介质玻璃构成的膜厚为15～40μm的层，它具有将扫描电极12a和维持电极12b绝缘的功能。
保护层14是由氧化镁(MgO)形成的层，它对电介质层13具有保护作用，使其免受由于在PDP驱动时的放电而引起的溅射的损害。
如图1和图2所示，背面屏20具有背面玻璃基板21、在背面玻璃基板21上按带状排列设置的编址电极(アドレス電極)22、用于覆盖编址电极22的电介质层23、在电介质层23上与编址电极22并行地排列设置的隔壁24、覆盖在隔壁24与隔壁24之间的RGB各色的荧光体层25。
在前面玻璃基板11和背面玻璃基板21之间的间隙，形成由隔壁24按照100～200μm左右的间距分隔出的放电空间30，在此放电空间中封装入由Ne-Xe等组成的放电气体。
在PDP的驱动时，通过向处于前面屏10处的扫描电极12a和处于背面屏20处的编址电极22施加达到放电气体的放电开始电压或以上的电压，使得在前面屏10处的保护层14的表面附近发生放电。此处，放电气体的放电开始电压随着扫描电极12a与编址电极22的距离，放电气体的种类及其封入压力、电介质层13、23和保护层14的厚度等条件的不同而异。一旦在保护层14的表面附近发生放电，就会由于电离作用而产生阳离子和电子，这些阳离子和电子分别向着与其极性相反的扫描电极12a和维持电极12b移动。这些作用使得由电阻值高的MgO构成的保护层14的表面带电，然而，由于MgO的电阻值高，因此其带有的电荷不衰减，从而在保护层14处形成所谓的壁电荷。由于这种壁电荷的作用，使得在放电空间内形成与施加在扫描电极12a和维持电极12b的电压具有相反极性的电场，因此使得放电空间内的电场减弱，从而使上述的放电立即停止。
接着，通过向扫描电极12a和维持电极12b施加放电维持脉冲，使放电开始并维持。此处，在放电空间，由于上述壁电荷的作用而成为容易引起放电的状态，该放电维持脉冲的电压可以是放电开始电压或以下的电压。通过如此施加放电维持脉冲，使得放电能够间歇地维持，由于这种放电，导致从放电气体中产生紫外线。这种紫外线激发在背面屏20上的荧光体层25以使其发光，该发出的光透过前面屏10，从而在PDP上实现图象显示。
(电介质层13的组成)
本发明所具有的特征是发现了可以抑制前面玻璃基板11和电介质层13变黄的电介质层13的组成。
例如，作为在形成电介质层13时使用的电介质玻璃，可以举出ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3-R2O-MO2系电介质玻璃、ZnO-B2O3-SiO2-R2O-MO2系电介质玻璃、P2O5-ZnO-B2O3-SiO2-R2O-MO2系电介质玻璃、ZnO-B2O3-SiO2-CuO-R2O-MO2系电介质玻璃。应予说明，在上述各种玻璃中所含的MO2是从MnO2、CeO2、SnO2、SbO2中选出的一种或两种或以上的物质；R2O是从Li2O、Na2O、K2O、Rb2O、Cs2O、Cu2O、Ag2O中选出的一种物质。
在这些电介质玻璃中含有那些可以在玻璃中得到3价或4价离子形态的金属M(M是从Mn、Ce、Sn、Sb中选出的一种或两种或以上的物质)的氧化物MO2。
此处，如果在电介质玻璃中含有可得到3价或4价离子形态的金属氧化物MO2，则即便在从扫描电极12a和维持电极12b中溶解出来的Ag离子或Cu离子在电介质层13中扩散并一旦被还原成Ag或Cu时，3价或4价的金属离子也会吸引Ag或Cu的电子，而使其本身被还原成2价的金属离子，由此重新恢复为Ag+或Cu2+离子的状态。因此，可以认为，在电介质层13中，Ag或Cu可以保持在离子化状态，从而可以抑制从各电极12a、12b扩散出来的Ag或Cu发生凝集而胶体化。因此在电介质层13中可以抑制变黄现象，同时不会发生绝缘的破坏。进而可以认为，电介质层13中含有的金属氧化物MO2也会扩散到与其接触的前面玻璃基板11中，从而可以抑制在前面玻璃基板11中发生变黄现象。
作为具体的组成，在ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3-R2O-MO2系电介质玻璃中，可以使用ZnO 20～43重量％、B2O3 38～55重量％、SiO2 5～17重量％、Al2O3 1～10重量％、R2O 1～5重量％、MO2 0.5～5重量％的组成。
另外，在ZnO-B2O3-SiO2-R2O-MO2系电介质玻璃中，可以使用ZnO35～44重量％、B2O3 35～55重量％、SiO2 5～15重量％、R2O 1～5重量％、MO2 0.5～10重量％的组成。
在P2O5-ZnO-B2O3-SiO2-R2O-MO2系电介质玻璃中，可以使用P2O515～25重量％、ZnO 20～35重量％、B2O3 30～55重量％、SiO2 5～12重量％、R2O 0.1～5重量％、MO2 0.5～10重量％的组成。
在ZnO-B2O3-SiO2-CuO-R2O-MO2系电介质玻璃中，可以使用ZnO35～45重量％、B2O3 20～35重量％、SiO2 5～20重量％、CuO 0.1～5重量％、R2O 0.1～5重量％、MO2 0.5～10重量％的组成。
此处，ZnO具有既不显著提高玻璃软化点，同时又能降低热膨胀系数的作用。另外，B2O3是玻璃的主成分，具有降低玻璃软化点的作用，但是当其含量超过55重量％时会导致玻璃分相，从而容易使透过率降低。SiO2是作为玻璃结构体不可缺少的成分，其含量如果低于5重量％，则难以发生玻璃化，而如果超过20重量％，则会使玻璃的软化点过高。Al2O3具有抑制玻璃分相的作用，但当其含量超过10重量％时，会导致在玻璃中产生结晶，从而使透过率降低。R2O可降低玻璃的软化点，具有提高玻璃在熔融时的流动性的作用，但当其含量超过10重量％时，会使热膨胀系数增加，同时会使玻璃的耐压性能降低，因此其含量优选在1～5重量％的范围。MO2具有防止屏变黄的作用，其含量优选在0.5重量％或以上、10重量％或以下。其含量如果小于0.5重量％，则不能防止变黄，而如果超过10重量％，则会使玻璃着色。
具有上述各组成的电介质玻璃，其介电常数为6～7左右，这一数值要比氧化铅(PbO)系玻璃或氧化铋(Bi2O3)系玻璃(介电常数10～13左右)低。其原因是，通过将这些电介质玻璃用于PDP的电介质层，可以降低在其驱动时流过的电流量，因此可以抑制电能的消耗。另外，由于在电介质层中含有可以得到3价或4价离子形态的金属氧化物MO2，因此可以抑制屏变黄。进而，由于在电介质层中含有可以抑制针孔或裂纹产生的R2O，同时含有可以抑制在介电质层中具有导电性的银或铜生成胶体的MO2，因此不会引起绝缘破坏。关于这种绝缘破坏，由于背面屏20处的电介质层23中也使用同样组成的电介质玻璃，在背面屏20中也不会引起绝缘破坏。另外，可以确认，与向以往的PbO系玻璃中添加R2O的情况相比，向本申请的ZnO系玻璃中添加R2O时具有显著的提高电介质层的耐压性的效果。
另外，可以认为，通过向不含PbO或Bi2O3而且碱金属氧化物(R2O中的R是从Li、K、Na、Cu、Ag、Cs、Rb中选出的一种物质)的含量在10重量％或以下的ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3-R2O系玻璃、P2O5-ZnO-B2O3-SiO2-R2O系玻璃或ZnO-B2O3-SiO2-MO-R2O系玻璃(其中，M是从Mg、Ca、Sr、Ba中选出的一种或两种或以上的物质)中添加可得到3价或4价离子形态的金属氧化物MO2，根据与上述同样的理由，可以获得与本实施方式同样的效果。在此情况下，金属氧化物MO2向玻璃中的加入量优选在0.5～5重量％的范围。该含有量如果小于0.5重量％，则没有抑制变黄的效果，而如果超过5重量％，玻璃会由于MO2而引起着色。
(PDP的制造方法)
<前面屏10的制备>
前面屏10可按下述方法制成，即，在前面玻璃基板11上形成扫描电极12a和维持电极12b，然后在其上面覆盖使用具有上述组成的电介质玻璃粉末形成的电介质层13，进而在其上面覆盖保护层14。
(1)扫描电极12a和维持电极12b的形成
下面用图4来说明扫描电极12a和维持电极12b的形成方法。
图4(a)～图4(h)是在前面玻璃基板11上形成扫描电极12a和维持电极12b的各工序中的前面玻璃基板11的侧视图。
首先，如图4(a)所示，准备前面玻璃基板11。
然后，如图4(b)所示，使用溅射法在前面玻璃基板11的一侧表面上形成厚度为0.12μm的ITO(由氧化铟和氧化锡形成的透明导体)覆膜。
然后，如图4(c)所示，在ITO膜上形成光致抗蚀层。进而，如图4(d)所示，使用已开有电极形状的孔122a的掩模122来覆盖光致抗蚀层121，然后进行曝光。如此便使得与掩模122上的孔122a相对应的光致抗蚀层121固化，而除此以外的其他部分则未固化。然后，通过使用显影液来使该光致抗蚀层121显影而把未固化的光致抗蚀层121洗涤和溶解掉。然后，通过喷砂或蚀刻，如图4(e)所示，把光致抗蚀层121已被洗涤除去的那部分的ITO膜除去，进而在扫描电极12a和维持电极12b上形成各透明电极12a2、12b2。应予说明，透明电极12a和透明电极12b的距离为0.08mm，以便适合于40英寸大小的PDP。另外，透明电极除了使用光刻法来形成以外，也可以使用激光加工法来形成。
进而，在透明电极的前表面上涂布感光性的银糊，然后与上述同样地使用光刻法来形成宽40μm的Ag汇流母线电极。接着通过加热至550℃左右的温度来进行烧结，以形成如图4(f)所示的扫描电极12a和维持电极12b。
(2)电介质层13和保护层14的形成
然后如图4(g)所示，在已形成了各电极12a、12b的前面玻璃基板11上涂布电介质玻璃糊。
该电介质玻璃糊可按下述步骤制成。
首先，使用喷射磨机把具有上述组成的电介质玻璃粉碎成平均粒径0.5～2.5μm，从而制成电介质玻璃粉末。然后制成含有该电介质玻璃粉末35～70重量％；乙基纤维素、环氧乙烷树脂或丙烯酸树脂1～20重量％；作为粘合剂成分的萜品醇、乙酸丁基卡必醇酯或戊二醇30～65重量％的溶液，使用三辊混炼机或均浆器进行混炼。然后向该混合物中加入相对于粘合剂成分为0.1～10重量％的作为增塑剂的例如邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二丁酯和甘油；作为分散剂的甘油单油酸酯、脱水山梨醇倍半油酸酯或homogenol(由Kao公司生产)等，这样可以防止电介质玻璃粉末在糊状物内沉降。
在把涂布的电介质玻璃糊干燥后，通过在500～600℃的温度下进行烧结来使粘合剂成分等的有机成分分解，同时使电介质玻璃粉末软化和熔融。然后将其徐徐冷却，从而形成电介质层13。
然后在电介质层13的表面上形成由氧化镁(MgO)构成的保护层14。在本实施方式中，使用CVD法(热CVD法或等离子CVD法)来形成耐溅射性优良的由具有(100)面或(110)面取向的MgO构成的保护层14(厚度1.0μm)。另外，除了CVD法之外，还可以使用离子电镀法或真空蒸镀法。
<背面屏20的制造>
首先，使用举离法(リフトオフ法)在背面玻璃基板21上形成编址电极22。具体地，在背面玻璃基板21的表面上覆盖光致抗蚀层，然后使用可把要成为编址电极22的部分覆盖的掩模来将光致抗蚀层固化，进而通过显影而在光致抗蚀层上要成为编址电极22的部分形成凹部。从前面向该光致抗蚀层上涂布银糊，使该银糊固化之后，将光致抗蚀层剥离。如此便在背面玻璃基板21上与光致抗蚀层的凹部相对应的部分形成了编址电极22。
然后在该已形成了编址电极22的背面玻璃基板21上，使用与在前面屏10上形成电介质层13的方法同样的方法(烧结温度540～600℃)来形成电介质层23。在形成该电介质层23时使用的电介质玻璃糊是通过向与在形成前面屏10的电介质层13时使用的电介质玻璃糊具有同样组成(但是，电介质玻璃粉末的平均粒径为0.2～2.5μm)的物质中添加入10重量％平均粒径为0.1～0.5μm的氧化钛TiO2而形成的白色的糊状物。
然后，使用丝网印刷法或等离子热熔喷射法在上述电介质层23上形成具有规定间距(例如作为适合于40英寸大小的PDP的间距为0.2mm)的隔壁24。进而使用例如喷墨法在隔壁24与隔壁24之间依次地涂布红(R)、绿(G)、蓝(B)的各种颜色的荧光体油墨。
作为适合在荧光体油墨中使用的荧光体，可以使用一般在PDP中使用的荧光体，例如，作为红色荧光体，可以使用Y2O3:Eu3+；作为绿色荧光体，可以使用Zn2SiO4:Mn；作为蓝色荧光体，可以使用BaMgAl10O17:Eu2+等。
图5是喷墨装置70的概略图。
如图5所示，该喷墨装置70具有贮存器71、加压泵72和喷嘴部73，其中，贮存器用于贮存荧光体油墨糊；加压泵72用于把由贮存器71供给的荧光体油墨糊加压并将其送给喷嘴73；喷嘴部73用于把由加压泵72送来的荧光体油墨糊喷出。
在要把荧光体油墨糊例如红色荧光体油墨糊涂布在处于背面屏20上的隔壁24与隔壁24之间时，首先把作为红色荧光体的Y2O3:Eu3+的粉末(平均粒径2.0μm)50重量％、乙基纤维素1.0重量％、由α-萜品醇和丁基卡必醇的混合液组成的溶剂49重量％投入到贮存器71中，用砂磨机进行混合搅拌。从而形成了具有55厘泊(CP)粘度的荧光体油墨糊。将该荧光体油墨糊用泵72由贮存器71加压送到喷嘴部73中。送入到喷嘴部73中的荧光体油墨糊从喷嘴孔73a(喷嘴直径60μm)喷出。该喷出的红色荧光体油墨糊74被涂布在背面屏20的隔壁24与隔壁24之间。这时，通过使背面屏20沿隔壁24的纵向移动，使得红色荧光体油墨糊74按直线状涂布在相互邻接的两条隔壁24之间。对于绿色和蓝色的荧光体，也可以使用与红色荧光体同样的方法，通过改变荧光体的种类来涂布荧光体油墨糊。在涂布所有颜色的荧光体油墨糊之后，把背面屏20在500℃的温度下烧结10分钟，从而形成了背面屏20。
<前面屏10与背面屏20的接合>
把按照上述方法形成的前面屏10和背面屏20对向地配置，然后在两张屏的周围用封按玻璃进行封接。这时，对于在隔壁24和隔壁24之间的放电空间抽真空(1×10-4Pa)，然后按照规定的压力封入放电气体，从而形成了PDP。此处，作为放电气体，可以是以往使用的Ne-Xe系气体，通过使Xe的含有率在5体积％或以上，并使放电气体的封入压力为66.5～100KPa，可以提高PDP的亮度。
(实施例)
下面，制备在上述实施方式中所说的PDP的实施例试样1～36和比较例试样37～40，并对前面屏的色彩、亮度、色温等进行对比研究。
作为各实施例样品和比较例样品的PDP，制备了42英寸的VGA型(扫描电极和维持电极480对，编址电极2556支)的PDP。作为PDP的元件尺寸，隔壁的高度为0.15mm，隔壁相互间的间隔(元件间距)为0.36mm，显示电极与维持电极之间的电极间距离为0.08mm。此处，作为显示电极和维持电极，使用在透明电极上配置有作为汇流电极(バス電極)的银电极而形成的电极；作为编址电极，使用银电极。
在上述实施方式中已经说明，前面屏和背面屏的电介质层由含有得到4价离子形态的金属氧化物的电介质玻璃形成。作为在形成电介质层时使用的电介质玻璃粉末，使用平均粒径为0.5～2.5μm的玻璃粉末，将其与溶剂、增塑剂和分散剂混合以形成电介质玻璃糊(20000～50000厘泊)，使用模压涂布法涂布这种玻璃糊，然后将其烧结，从而形成电介质层。所形成的电介质层的厚度为25～30μm。应予说明，作为在形成背面屏的电介质层时使用的电介质玻璃糊，是通过向与形成前面屏的电介质层时使用的玻璃糊具有相同组成的物质中加入氧化钛而形成的。
作为放电气体，使用Ne-Xe系的混合气体(Xe的含有量为5体积％)，按照79.8KPa(600托)的压力将其封入。
在前面屏中的保护层是以乙酰丙酮镁[Mg(C5H7O2)2]或者二叔戊酰甲烷镁[Mg(C11H19O2)2]作为蒸镀源并使用等离子CVD法来形成的。在等离子CVD法中，作为保护层的形成方法，使用下述的方法，即，以125℃作为气化器的温度，以250℃作为前面屏的加热温度，一边将Ar气和氧气分别按照1升/分、2升/分的供给量供给到上述的前面屏上，一边减压至1.33KPa(10托)，一边在20秒钟、300瓦的条件下施加来自高频电源的13.56MHz的高频电场。如此按1.0μm/分的膜形成速度形成了厚度为1.0μm的由MgO构成的保护层。已经确认，如此形成的保护层，即便在使用任一种源的场合，按照X射线衍射的解析结果，均已确认都是按照(100面)来取向的。
(1)实施例试样1～8
作为用于形成电介质层的玻璃粉末，使用在上述实施方式中已说明的含有可以得到4价离子形态的金属氧化物的P2O5-ZnO-B2O3-SiO2-MO2-R2O系玻璃粉末。在各试样中玻璃的组成以及在电介质玻璃糊中使用的粘合剂等的种类、电介质层的烧结温度等示于表1中。
表1试样编号电介质破璃的组成玻璃糊中的玻璃粉末量(wt％)玻璃糊中的粘合剂量(wt％)粘合剂中的分散剂量(wt％)粘合剂中的增塑剂量(wt％)电介质的烧结温度(℃)电介质的膜厚(μm)电介质的介电常数P2O5ZnOB2O3SiO2Al2O3R2OMO2110205012-Na2O5MnO2355乙基纤维素45homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2.5550306.3210254010-K2O5MnO21065丙烯酸35甘油单油酸酯0.22.5550256.232535307.5-Li2O2SnO20.570环氧乙烷30脱水山梨醇倍半油酸酯0.1邻苯二甲酸二辛酯3545306.34203039.410-K2O0.1MnO20.535乙基纤维素65homogenol0.1邻苯二甲酸二辛酯3565256.3520303010-Cs2O5CeO2540乙基纤维素60homogenol0.1homogeno l2553306.5620343010-K2O5CeO2150丙烯酸50甘油单油酸酯0.2邻苯二甲酸二辛酯1.5560306.5720303010-Rb2O5SbO2565丙烯酸35homogenol0.1-554306.3820303014.5-Ag2O5SbO20.565丙烯酸35homogenol0.1-559256.5
(2)实施例试样9～16
作为用于形成电介质层的玻璃粉末，使用含有在上述实施方式中说明的可以得到4价离子形态的金属氧化物的ZnO-B2O3-SiO2-MO2-R2O系玻璃粉末。在各试样中玻璃的组成和在电介质玻璃糊中使用的粘合剂等的种类、电介质层的烧结温度等示于表2中。
表2试样编号电介质玻璃的组成玻璃糊中的玻璃粉末量(wt％)玻璃糊中的粘合剂量(wt％)粘合剂中的分散剂量(wt％)粘合剂中的增塑剂量(wt％)电介质的烧结温度(℃)电介质的膜厚(μm)电介质的介电常数P2O5 ZnOB2O3SiO2Al2O3R2OMO29- 25555-Li2O5MnO21055丙烯酸45homogenol0.2邻苯二甲酸二辛酯2540306.510- 304015-K2O5CeO21065丙烯酸35甘油单油酸酯0.2邻苯二甲酸二丁酯3545256.511- 3742.515-Na2O5MnO20.570乙基纤维素30脱水山梨醇倍半油酸酯0.1邻苯二甲酸二丁酯4545256.512- 443510-Cu2O5SnO2640乙基纤维素60homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯4545256.513- 404510-Ag2O2SbO2345乙基纤维素55homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯4550256.614- 40508.5-K2O1CeO20.545乙基纤维素55homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯4560306.815- 404010-Cs2O5SnO2550乙基纤维素50homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯4550306.516- 354712.5-Rb2O5SbO20.550乙基纤维素50homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯4550306.4
(3)实施例试样17～24
作为用于形成电介质层的玻璃粉末，使用含有在上述实施方式中说明的可以得到4价离子形态的金属氧化物的ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3-MO2-R2O系玻璃粉末。在各试样中玻璃的组成和在电介质玻璃糊中使用的粘合剂等的种类、电介质层的烧结温度等示于表3中。
表3试样编号电介质玻璃的组成玻璃糊中的玻璃粉末量(wt％)玻璃糊中的粘合剂量(wt％)粘合剂中的分散剂量(wt％)粘合剂中的增塑剂量(wt％)电介质的烧结温度(℃)电介质的膜厚(μm)电介质的介电常数P2O5ZnOB2O3SiO2Al2O3R2OMO217-3238155Ag2O5MnO2555丙烯酸45homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2560306.418-4040171Cu2O1CeO2165丙烯酸35homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2550306.419-2055123Na2O5SnO2570乙基纤维素30homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2555306.320-4340510K2O1SbO2165乙基纤维素35homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2560306.521-404555Cs2O5MnO20.565乙基纤维素35homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2565306.522-40409.55Bb2O5CeO20.565乙基纤维素35homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2560306.523-424355K2O5SbO2565乙基纤维素35homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2560306.524-3247610Ag2O4MnO2165乙基纤维素35homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2560306.4
(4)实施例试样25～32
作为用于形成电介质层的玻璃粉末，使用含有在上述实施方式中说明的得到4价离子形态的金属氧化物的ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3-MO2-K2O系玻璃粉末。在各试样中玻璃的组成和在电介质玻璃糊中使用的粘合剂等的种类、电介质层的烧结温度等示于表4中。
表4试样编号电介质玻璃的组成玻璃糊中的玻璃粉末量(wt％)玻璃糊中的粘合剂量(wt％)粘合剂中的分散剂量(wt％)粘合剂中的增塑剂量(wt％)电介质的烧结温度(℃)电介质的膜厚(μm)电介质的介电常数P2O5ZnOB2O3SiO2Al2O3R2OMO225-15203020K2O10MnO25 55 丙烯酸 45homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2595306.726-19401025K2O3CeO23 60 乙基纤维素 40甘油三油酸酯0.2邻苯二甲酸二丁酯2575306.427-10352520K2O8SnO22 60 乙基纤维素 40homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2580306.528-2030305K2O10SbO25 60 乙基纤维素 40homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2570306.729-10.5402519K2O5MnO20.5 70 乙基纤维素 30homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2585306.730-25.5302020K2O5SnO20.5 70 乙基纤维素 30homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2575306.731-21.5301525K2O8SbO20.5 70 乙基纤维素 30homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2575306.832-24.5301520K2O10CeO20.5 70 乙基纤维素 30homogenol0.2邻苯二甲酸二丁酯2575306.7
(5)实施例试样33～36
作为用于形成电介质层的玻璃粉末，使用含有在上述实施方式中说明的得到4价离子形态的金属氧化物的ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3-MO2-Li2O系玻璃粉末。在各试样中玻璃的组成和在电介质玻璃糊中使用的粘合剂等的种类、电介质层的烧结温度等示于表5中。
表5试样编号电介质玻璃的组成玻璃糊中的玻璃粉末量(wt％)玻璃糊中的粘合剂量(wt％) 粘合剂中的分散剂 量(wt％)粘合剂中的增塑剂量(wt％)电介质的烧结温度(℃)电介质的膜厚(μm)电介质的介电常数P2O5ZnOB2O3SiO2Al2O3R2OMO233-15203020Li2O10SnO2555丙烯酸45 homogenol 0.2邻苯二甲酸二辛酯2545306.534-19401025Li2O3SbO2335乙基纤维素65 homogenol 0.1邻苯二甲酸二丁酯3565306.335-10352520Li2O8CeO2265乙基纤维素35 homogenol 0.2邻苯二甲酸二丁酯2565306.336-1935305Li2O10MnO2165乙基纤维素35 homogenol 0.2邻苯二甲酸二丁酯2565306.3
(6)比较例试样37～40
作为用于形成电介质层的玻璃粉末，使用不含有在上述实施方式中说明的得到4价离子形态的金属氧化物MO2(M＝Mn、Ce、Sn、Sb)的ZnO系和P2O5系玻璃粉末。在各试样中玻璃的组成和在电介质玻璃糊中使用的粘合剂等的种类、电介质层的烧结温度等示于表6中。
表6试样编号电介质玻璃的组成玻璃糊中的玻璃粉末量(wt％) 玻璃糊中的粘合 剂量(wt％) 粘合剂中的分散剂 量(wt％)粘合剂中的增塑剂量(wt％)电介质的烧结温度(℃)电介质的膜厚(μm)电介质的介电常数P2O5ZnOB2O3SiO2Al2O3R2OMO237*-324315 5Ag2O5-55 丙烯酸 45 homogenol 0.2邻苯二甲酸二丁酯2590306.538*-182040 12Na2O10-60 乙基纤维素 40 homogenol 0.2邻苯二甲酸二丁酯2575306.339*-255515 5--35 乙基纤维素 65 脱水山梨醇倍 半油酸酯 0.2邻苯二甲酸二丁酯2575306.640*-353017 10K2O8-40 乙基纤维素 60 脱水山梨醇倍 半油酸酯 0.2-575306.5
试样编号37*～40*为比较例
(7)实验
实验方法
对于上述实施例试样1～36和比较例试样37～40，使用色差计(日本电色工业(株)NF777)来测定在前面屏上的一对扫描电极和维持电极之间的着色情况。作为测定项目，根据JISZ 8730规定的色差表示方法测定表示玻璃着色情况的a*值和b*值。
另外，使各PDP试样显法全部白色，利用多道分光计(大塚电子(株)MCPD-7000)测定这时的亮度和色温。在PDP显示全部白色时，向PDP施加难以引起绝缘破坏的、电压为180V、频率数为50kHz的放电维持脉冲。
另外，对于各试样1～40，在将屏封接之前，测定在前面屏处的电介质层的介电常数。作为该介电常数的测定方法，首先将银糊涂布在前面屏的电介质层上，将其干燥，以其作为一方的电极，而作为另一方的电极则使用编址电极，使用LCR计来测定上述各电极间的介电常数。这些介电常数的测定结果示于表1～表6中。
(8)结果和考察
实施例试样1～8的各测定结果示于表7中，实施例试样9～16的各测定结果示于表8中，实施例试样17～24的各测定结果示于表9中，实施例试样25～32的各测定结果示于表10中，实施例试样33～36的各测定结果示于表11中，比较例试样37～40的各测定结果示于表12中。应注意，各表中的a*值沿正方向变大时表示红色增强，沿负方向变大时表示绿色增强。当b*值沿正方向变大时表示黄色增强，沿负方向变大时表示蓝色增强。通常，只要a*值处于-5～+5的范围，而且b*值也处于-5～+5的范围，则观察不到前面屏的着色。特别是变黄的程度受b*值大小的影响，因此，只要b*值处于-5～+5的范围，就观察不到变黄现象，而b*值一旦超过10，则变黄程度开始变得明显。
(表7)试样编号用色差计测得的值 屏的亮度 (cd/m2) 屏的色温 (K)a*值 b*值1-0.3 1.0 550 911021.2 0.8 552 92503-1.5 1.8 541 90034-0.8 1.2 540 91025-1.3 1.0 542 91256-1.5 1.3 547 90857-1.2 1.4 537 90508-1.8 2.0 540 8900
(表8)试样编号用色差计测得的值屏的亮度(cd/m2) 屏的色温 (K)a*值 b*值9-0.2 0.5560 932610-1.8 1.3554 901511-1 1.2545 910212-1.9 1.0538 911813-1.5 1.2540 910814-1.8 1.6552 906215-1.3 1.2548 912516-1.7 2.0545 8950
(表9)试样编号用色差计测得的值屏的亮度(cd/m2) 屏的色温 (K)a*值 b*值17-0.8 0.9520 920018-1.3 1.2505 915019-1.5 1.0510 917020-1.6 1.3522 910021-1.1 1.4538 904522-1.8 1.9542 896023-1.5 1.3526 911024-1.2 1.2525 9125
(表10)试样编号用色差计测得的值屏的亮度(cd/m2) 屏的色温 (K)a*值 b*值25-0.5 0.6550 928026-1.3 1.5554 902027-1.6 1.7545 900128-1.4 1.3553 913629-1.2 1.4532 908730-1.8 2.0527 890531-1.9 2.0534 890032-1.7 2.0550 8903
(表11)试样编号用色差计测得的值屏的亮度(cd/m2) 屏的色温 (K)a*值 b*值33-1.8 1.6560 900134-1.7 1.5558 905335-1.3 1.6550 904736-1.3 1.2546 9125
(表12)试样编号用色差计测得的值屏的亮度(cd/m2) 屏的色温 (K)a*值 b*值37*-1.5 5.1500 760038*-1.5 6.2495 758039*-1.9 6.5498 754040*-2.0 7.0496 7430
试样编号37*-40*为比较例
如表7所示，对于具有由含有得到3价或4价离子形态的金属氧化物MO2的P2O5-ZnO-B2O3-SiO2-MO2-R2O系玻璃构成的电介质层的PDP，表示变黄程度的b*值为0.8～2.0。可以看出，这一数值要比表12中示出的比较例试样37～40的b*值(5.1～7.0)低。特别是在把除了在电介质层中有无MnO2之外，其余组成相同的实施例试样1和比较例试样38进行比较时可以确认，实施例试样1明显地改善了变黄现象。
另外，在PDP的亮度方面，比较例试样37～40的亮度在500cd/m2或以下，与此相对照，实施例1～8显示537cd/m2或以上的高值。可以认为，这是由于在实施例试样1～8中，银在电介质层中扩散，从而抑制了反射光线的胶体的产生的缘故。除此之外，在实施例试样1～8中，由于不发生变黄现象，因此显示屏的色温也良好。
如表8所示，具有由ZnO-B2O3-SiO2-MO2-R2O系玻璃形成的电介质层的PDP与比较例试样37～40相比，与上述同样可以看出，其表示变黄的b*值较低，为0.5～2.0。特别是在把除了在电介质层中有无MnO2之外，其余组成相同的实施例试样9(b*值：0.5)与比较例试样39(b*值：6.5)进行比较时可以确认，实施例试样9明显地改善了变黄现象。
另外，在PDP的亮度方面，与比较例试样37～40的亮度为500cd/m2或以下的情况相对照，实施例试样9～16显示538cd/m2或以上的高数值。除此之外，在本实施例试样9～16中的显示屏的色温也优于比较例试样37～40。
如表9所示，具有由ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3-MO2-R2O系玻璃形成的电介质层的PDP与比较例试样37～40相比，与上述同样地可以看出，其表示变黄的b*值较低，为0.9～1.9。特别是在把除了在电介质层中有无MnO2之外，其余组成相同的实施例试样17(b*值：0.9)和实施例试样24(b*值：1.2)与比较例试样37(b*值：7.0)进行比较时可以确认，实施例试样明显地改善了变黄现象。
另外，在PDP的亮度方面，与比较例试样37～40的亮度为500cd/m2或以下的情况相对照，实施例试样17～24显示510cd/m2或以上的高数值。除此之外，在本实施例试样17～24中的显示屏的色温也优于比较例试样37～40。
如表10所示，具有由ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3-MO2-K2O系玻璃形成的电介质层的PDP与比较例试样37～40相比，与上述同样地可以看出，其表示变黄的b*值较低，为0.6～2.0。特别是在将其与除了在电介质层中有无MnO2之外，其余组成相同的比较例试样40(b*值：7.0)进行比较进可以确认，实施例试样明显地改善了变黄现象。
另外，在PDP的亮度方面，与比较例试样37～40的亮度为500cd/m2或以下的情况相对照，实施例试样25～32显示出527cd/m2以上的高数值。除此之外，在本实施例试样25～32中的显示屏的色温也优于比较例37～40。
如表11所示，具有由ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3-MO2-Li2O系玻璃形成的电介质层的PDP与比较例试样37～40相比，与上述同样地可以看出，其表示变黄的b*值较低，为1.2～1.6，因此可以降低变黄的程度。
另外，在PDP的亮度方面，与比较例试样37～40的亮度为500cd/m2或以下的情况相对照，实施例试样33～36显示出546cd/m2或以上的高数值。除此之外，在本实施例试样25～32中的显示屏的色温也优于比较例37～40。
工业实用性
本发明的等离子显示屏及其制造方法对于具有由低熔点玻璃形成的电介质层的等离子显示屏是特别有效的。
权利要求书
(按照条约第19条的修改)
1.(修改后)一种等离子显示屏，具有金属电极和用于覆盖该金属电极的电介质层，其特征在于，
上述电介质层由包含氧化锌、氧化硼、氧化硅、R2O和MO2的玻璃而构成；
其中，R2O是从氧化锂、氧化钠、氧化钾、氧化铷、氧化铯、氧化铜、氧化银中选出的一种物质；MO2是氧化锰(IV)。
2.如权利要求1所述的等离子显示屏，其特征在于，构成上述电介质层的玻璃的组成比为氧化锌：25～44重量％、氧化硼：35～55重量％、氧化硅：5～15重量％、R2O：1～5重量％、MO2：0.5～10重量％。
3.如权利要求1所述的等离子显示屏，其特征在于，在构成上述电介质层的玻璃组成中还加进了氧化铝。
4.如权利要求3所述的等离子显示屏，其特征在于，构成上述电介质层的玻璃的组成比为氧化锌：20～43重量％、氧化硼：38～55重量％、氧化硅：5～17重量％、氧化铝：1～10重量％、R2O：1～5重量％、MO2：0.5～5重量％。
5.如权利要求1所述的等离子显示屏，其特征在于，在构成上述电介质层的玻璃组成中还加进了氧化磷(V)。
6.如权利要求3所述的等离子显示屏，其特征在于，构成上述电介质层的玻璃的组成比为氧化锌：20～35重量％、氧化硼：30～55重量％、氧化硅：5～12重量％、氧化磷(V)：15～25重量％、R2O：0.1～5重量％、MO2：0.5～10重量％。
7.如权利要求3所述的等离子显示屏，其特征在于，上述的R2O是氧化钾，并且，构成上述电介质层的玻璃的组成比为氧化锌：10～25.5重量％、氧化硼：20～40重量％、氧化硅：10～30重量％、氧化铝：5～25重量、氧化钾：3～10重量％、MO2：0.5～5重量％。
8.如权利要求3所述的等离子显示屏，其特征在于，上述的R2O为氧化锂，并且，构成上述电介质层的玻璃的组成比为氧化锌：10～19重量％、氧化硼：20～40重量％、氧化硅：10～30重量％、氧化铝5～25重量％、氧化锂：3～10重量％、MO2：1～5重量％。
9.(修改后)一种等离子显示屏，具有金属电极和用于覆盖该金属电极的电介质层，其特征在于，
上述电介质层由ZnO-B2O3-SiO2-Al2O3-R2O系玻璃、P2O5-ZnO-B2O3-SiO2-R2O系玻璃或者ZnO-B2O3-SiO2-MO-R2O系玻璃构成，这些玻璃不含Bi2O3，而且R2O的含量在10重量％或以上，并且在玻璃中添加有可得到3价或4价离子形态的金属氧化物MO2；
其中，R2O是从氧化锂、氧化钠、氧化钾、氧化铷、氧化铯、氧化铜、氧化银中选出的一种物质；MO2是氧化锰(IV)。
10.如权利要求1～9的任一项中所述的等离子显示屏，其特征在于，上述金属电极为银电极或铬/铜/铬电极。
11.(修改后)等离子显示屏的制造方法，该方法具有通过向金属电极上施加电介质玻璃粉末并将其烧结来在金属电极上被覆由电介质玻璃构成的电介质层的工序，其特征在于，
上述电介质粉末包含氧化锌、氧化硼、氧化硅、R2O、MO2；
其中，R2O是从氧化锂、氧化钠、氧化钾、氧化铷、氧化铯、氧化铜、氧化银中选出的一种物质；MO2是氧化锰(IV)。
12.如权利要求11所述的等离子显示屏的制造方法，其特征在于，
上述电介质玻璃粉末的组成为氧化锌：25～44重量％、氧化硼：35～55重量％、氧化硅：5～15重量％、R2O：1～5重量％、MO2：0.5～10重量％。
13.如权利要求11所述的等离子显示屏的制造方法，其特征在于，在上述电介质玻璃粉末的组成中还加入了氧化铝，其组成比为氧化锌：20～43重量％、氧化硼：38～55重量％、氧化硅：5～17重量％、氧化铝：1～10重量％、R2O：1～5重量％、MO2：0.2～5重量％。
14.如权利要求11所述的等离子显示屏的制造方法，其特征在于，在上述电介质玻璃粉末的组成中还加入了氧化磷(V)，其组成比为氧化锌：20～35重量％、氧化硼：30～55重量％、氧化硅：5～12重量％、氧化磷(V)：15～25重量％、R2O：0.1～5重量％、MO2：0.5～10重量％。