蚀刻规版直接蚀刻工艺.pdf

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摘要
申请专利号:

CN95109260.X

申请日:

1995.08.02

公开号:

CN1142063A

公开日:

1997.02.05

当前法律状态:

撤回

有效性:

无权

法律详情:

发明专利申请公布后的视为撤回||||||公开

IPC分类号:

G03F1/00

主分类号:

G03F1/00

申请人:

唐克强;

发明人:

唐克强

地址:

437600湖北省通山县城关新城路14号

优先权:

专利代理机构:

湖北省咸宁地区专利事务所

代理人:

黄国昌

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内容摘要

本发明提供了蚀刻规版直接蚀刻工艺。蚀刻规版直接蚀刻工艺,是将蚀刻规版置于处理好的蚀刻物面上贴紧,注入蚀刻液蚀刻,然后不撤掉蚀刻规版进行清洗、脂化、清洗干燥、填镶、整理即得到蚀刻制品,此工艺简单易行,且能制作彩色蚀刻作品。

权利要求书

1: 一种蚀刻规版直接蚀刻工艺,其特征是利用蚀刻工具蚀 刻规版直接在蚀刻物上进行蚀刻加工,单色蚀刻工艺流 程是:
2: 如权利要求1所述的蚀刻规版直接蚀刻工艺,其特征是根 据不同底版((1)线条、文字底版,(2)单色网目调底版,(3) 彩色网目调底版)和蚀刻物面形状之不同,选用适当形状 的规版置于或粘贴在蚀刻物面上直接进行蚀刻的。
3: 如权利要求1所述的蚀刻规版直接蚀刻工艺,其特征是单 色网目调蚀刻至少需要一次以上单色蚀刻与填镶,第一 次填镶物固化后才能进行第二次蚀刻与填镶,第二次蚀 刻前必须套对好蚀刻规版上的十字线规矩,再进行蚀刻 和填镶。
4: 如权利要求1、2所述的蚀刻规版直接蚀刻工艺,其特征 是彩色网目调蚀刻需要分四次单色蚀刻与填镶,是什么色地 蚀刻规版就填充相应颜色的填镶物,第一次填镶物固化后才 能进行第二次蚀刻和填镶,而且第二色蚀刻前必须套对好蚀 刻规版上的十字线规矩,再进行蚀刻和填镶,其余色蚀刻和 填镶均应套对十字线规矩,以保证套色填镶准确。

说明书


蚀刻规版直接蚀刻工艺

    本发明涉及蚀刻技术领域一种直接蚀刻工艺。

    在现有的蚀刻技术中,一般都要在蚀刻物面上进行印刷和涂画感光树脂及建立防腐层和清除防腐层等工艺,蚀刻工艺复杂,周期长,蚀刻精度不高,易发生侧腐蚀,凸凹不平面及异型面难以蚀刻,不能对单色连续调和彩色连续调原稿进行蚀刻凹镶,蚀刻制品单调。

    本发明的目的在于:利用本发明的设计人所研制的蚀刻规版(已申请发明和实用新型专利),直接对多种材质和不同几何形状的物品进行蚀刻凹镶,制作成丰富多彩的蚀刻凹镶作品。

    本发明的目的是利用蚀刻规版,采用本发明提供的直接蚀刻工艺而实现的。

    下面结合说明书附图对蚀刻规版直接蚀刻工艺详加说明之。

    说明书附图是蚀刻规版直接蚀刻示意图,图中:1——规版架框,2——丝网膜版,3——蚀刻液,4——压敏胶层,5——承刻物。    

    如说明书附图所示,蚀刻规版由规版架框(1),丝网膜版(2)、压敏胶层(4)组成,蚀刻规版的结构及制作已申请专利,在其申请文件中已作详细说明和记载。

    蚀刻规版直接蚀刻工艺如下:

    一、单色蚀刻工艺流程:

    蚀刻物面表面处理—→放置或粘贴蚀刻规版—→注入蚀刻液蚀刻—→带蚀刻规版(不撤下蚀刻规版)清洗—→蚀刻凹下处表面亲树脂处理—→清洗干燥—→带蚀刻规版(不撤下蚀刻规版)直接刮填—→揭起蚀刻规版使蚀刻制品干燥—→同时清洗蚀刻规版凉干备用。

    蚀刻前,蚀刻物表面处理,就是将蚀刻物表面的灰尘、油污、粘附树脂等,采用清洗剂、洗衣粉、苛性碱、酒精清洗和铲刮方法使其表面洁净,蚀刻物面要求光滑无破损、裂缝、疙瘩等;蚀刻物物面处理干燥后,将蚀刻规版轻置于蚀刻物面上,不干胶面接触蚀刻面,压紧粘紧,然后注入适量蚀刻液进行蚀刻;蚀刻完毕用水清洗(此时不撤下蚀刻规版)冲洗干净后用15%的硬脂酸水溶液处理5分钟,继而用清水冲洗,待干燥后,用水溶性涂料或各色瓷釉进行填镶整理,然后撤下蚀刻规版(马上清洗凉干备用),蚀刻物品干燥及检验入库。

    二、彩色蚀刻工艺:

    单色字画只须一次蚀刻和填镶,彩色画像则需要分四次单色蚀刻与填镶,蚀刻方法同单色蚀刻一样,是什么色的蚀刻规版就填镶相应颜色的填镶物,第一次填镶物固化后才能进行第二色的蚀刻和填镶,第二色蚀刻前必须套对好蚀刻规版上的十字线规矩,然后再进行蚀刻和填镶,如果是瓷釉填镶物还必须待第一色烧结固化后才能进行第二色的蚀刻和填镶,填镶方法与丝网印刷一样,把填镶物注入蚀刻规版及蚀刻物上,用刮刀刮压下去,铲出多余的填镶物,这样所制出的画像,分辨力高,色调连续,成为一件色彩丰富逼真与原稿一样的精美蚀刻作品。

    本发明使用的蚀刻液配方是:

    一、大理石基石蚀刻液配方(重量百分比):

    盐酸:5-10%,氢氟酸:1-5%(视SO2含量而定),

    脂肪酸:CnH2nO(n=5-9):0.7%,

    消泡剂:0.006%,余为水。

    二、花岗石、玻璃、瓷器基石蚀刻液配方(重量百分比)

    盐酸:1-5%,氢氟酸:1030%(视SO2含量而定),

    硝酸:5-10%,脂肪酸[CnH2nO(n=5-9)]:0.7%,

    消泡剂:0.006%,余为水。

    采用上述蚀刻工艺,而填镶其它种类的荧光、光致发光、金银色、变色、香味、珠光画面等填镶物,还可制得种类繁多的蚀刻制品。

    说明书附图1是蚀刻规版结构示意图,图中:1——规版架框,2——丝网膜版。

    说明书附图2是蚀刻规板直接蚀刻剖视图,图中:1——规板架框,2——丝网膜版,3——蚀刻液,4——压敏胶层,5——承刻物。

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本发明提供了蚀刻规版直接蚀刻工艺。蚀刻规版直接蚀刻工艺,是将蚀刻规版置于处理好的蚀刻物面上贴紧,注入蚀刻液蚀刻,然后不撤掉蚀刻规版进行清洗、脂化、清洗干燥、填镶、整理即得到蚀刻制品,此工艺简单易行,且能制作彩色蚀刻作品。 。

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