一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液.pdf

上传人:Y948****062 文档编号:6101230 上传时间:2019-04-11 格式:PDF 页数:4 大小:121.46KB
返回 下载 相关 举报
摘要
申请专利号:

CN201610894705.1

申请日:

2016.10.13

公开号:

CN106283077A

公开日:

2017.01.04

当前法律状态:

实审

有效性:

审中

法律详情:

实质审查的生效IPC(主分类):C23G 1/02申请日:20161013|||公开

IPC分类号:

C23G1/02; C23C2/08; C23C2/02

主分类号:

C23G1/02

申请人:

湖南航天机电设备与特种材料研究所

发明人:

陈晖

地址:

410205 湖南省长沙市岳麓区枫林三路217号

优先权:

专利代理机构:

北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340

代理人:

陈介雨

PDF下载: PDF下载
内容摘要

本发明公开了一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液,其中含有如下重量份的组分:水1000,柠檬酸130—145,二水合柠檬酸三钠10—20。本发明增加了去金属离子的综合能力,它有效的解决了元器件引线受污染的问题,使元器件搪锡的质量得到保证、浸泡时间缩短,且又不损伤元器件自身。

权利要求书

1.一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液,其特征在于,所述柠檬酸溶液
中含有如下重量份的组分:
水 1000,柠檬酸 130—145,二水合柠檬酸三钠 10—20。
2.如权利要求1所述的柠檬酸溶液,其特征在于,所述柠檬酸溶液中含有如下重量份的
组分:
水 1000,柠檬酸 135—140,二水合柠檬酸三钠 12—18。
3.如权利要求2所述的柠檬酸溶液,其特征在于,所述柠檬酸溶液中含有如下重量份的
组分:
水 1000,柠檬酸 138.5,二水合柠檬酸三钠 15.4。

说明书

一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液

技术领域

本发明属于电气互联应用技术领域,具体涉及一种用于清除元器件引线表面氧化
层的柠檬酸溶液。

背景技术

在电子产品装联之前对元器件的引线进行重新浸锡处理,通常称之为“搪锡”。元
器件高品质搪锡质量,氧化层的处理是关键。在某些高可靠性电子产品中,元器件引线氧化
层处理是禁止使用强酸,而使用柠檬酸及混合液处理氧化层的方法能够很好解决该问题。
目前使用的是柠檬酸溶液(柠檬酸+水)处理元器件引线氧化层,元器件引线在柠檬酸溶液
浸泡时间需要1.5~2h,经清理后搪锡,其元器件引线目测锡附着程度满足要求。但存在浸
泡时间长、去除元器件引线上的氧化层的能力欠缺。

发明内容

本发明旨在克服现有技术的不足,提供一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠
檬酸溶液。

为了达到上述目的,本发明提供的技术方案为:

所述用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液中含有如下重量份的组分:

水1000,柠檬酸130—145,二水合柠檬酸三钠10—20。

优选地,所述用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液中含有如下重量份的
组分:

水1000,柠檬酸135—140,二水合柠檬酸三钠12—18。

更优选地,所述用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液中含有如下重量份
的组分:

水1000,柠檬酸138.5,二水合柠檬酸三钠15.4。

本发明的优点在于,增加了去金属离子的综合能力,它有效的解决了元器件引线
受污染的问题,使元器件搪锡的质量得到保证、浸泡时间缩短,且又不损伤元器件自身。

具体实施方式

1.去氧化层液配方:

水(纯净水):1000ml;

柠檬酸(C6H807.H2O分析纯):138.5g;

二水合柠檬酸三钠(C6H5Na3O7.2H2O分析纯):15.4g。

2.配制:

用量杯量1000ml水,放入容器中,再用电子称顺序称柠檬酸、二水合柠檬酸三钠,
称毕后的柠檬酸、二水合柠檬酸三钠倒入盛水的容器时,用玻璃棒边搅拌边倒入水中,直至
溶解搅拌均匀。

3.使用:

元器件引脚浸泡在去氧化液中浸泡20~30分钟,取出放在容器中用自来水冲洗1
~2分钟直至去氧化液彻底清洗干净,放在盘中用无水乙醇刷洗,放置晾干,时间约10分钟。
在2小时内及时进行搪锡处理。元器件引线在柠檬酸+二水合柠檬酸三钠+纯净水的混合液
中的浸泡时间(20~30分钟)远低于柠檬酸+纯净水混合液(1.5~2h),与原方法相比增加了
用无水乙醇再次清洗元器件引线,可进一步清理引线上的一些有机物。

据本配方在与原配方进行的比对试验,对存放4~5年的独石电容器CT402与CC401
的引线按上述的两种方法进行搪锡处理,分为6组贴号(每组CT402与CC401各50只),专业检
验员用3~5放大镜对引线的锡附着程度检查,并无异样。并在多个型号高精度I/F电路中使
用,精度得到长期保证。本配方优化了清除元器件引线氧化层的问题,使元器件引线除氧化
层时间缩短、操作性强、稳定性高。

一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液.pdf_第1页
第1页 / 共4页
一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液.pdf_第2页
第2页 / 共4页
一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液.pdf_第3页
第3页 / 共4页
点击查看更多>>
资源描述

《一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液.pdf》由会员分享,可在线阅读,更多相关《一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液.pdf(4页珍藏版)》请在专利查询网上搜索。

本发明公开了一种用于清除元器件引线表面氧化层的柠檬酸溶液,其中含有如下重量份的组分:水1000,柠檬酸130145,二水合柠檬酸三钠1020。本发明增加了去金属离子的综合能力,它有效的解决了元器件引线受污染的问题,使元器件搪锡的质量得到保证、浸泡时间缩短,且又不损伤元器件自身。。

展开阅读全文
相关资源
猜你喜欢
相关搜索

当前位置:首页 > 化学;冶金 > 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕


copyright@ 2017-2020 zhuanlichaxun.net网站版权所有
经营许可证编号:粤ICP备2021068784号-1