权利要求书
一种经涂覆的带套筒油气井生产装置,包括:
一个或更多个柱形本体;
一个或更多个套筒,所述一个或更多个套筒在所述一个或更多个柱形本体的外径或内径附近,
加硬层,所述加硬层在所述一个或更多个套筒的暴露的外表面、暴露的内表面或暴露的外表面或暴露的内表面这两者的组合的至少一部分上,
涂层,所述涂层在所述一个或更多个套筒的内套筒表面、外套筒表面或内套筒表面和外套筒表面的组合的至少一部分上,
其中,所述涂层包括一个或更多个超低摩擦层,以及
一个或更多个隔离层,所述一个或更多个隔离层置于所述加硬层和所述超低摩擦涂层之间。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述加硬层具有图案化表面。
根据权利要求2所述的经涂覆的带套筒装置,其中图案化的所述加硬层的表面包括深度在从1mm到5mm的范围内的凹进特征和凸出特征。
根据权利要求2所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述凹进特征包括加硬层区域的面积的10%至90%。
根据权利要求2所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述加硬层具有选自以下的图案:横向凹槽或狭槽、纵向凹槽或狭槽、斜向凹槽或狭槽、螺旋凹槽或狭槽、人字形凹槽或狭槽、凹进韧窝、微凸韧窝,及上述的组合。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述超低摩擦涂层还包括一个或更多个缓冲层。
根据权利要求1或6所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述层中的至少一个层是渐变的,或者相邻的层之间的交界面中的至少一个交界面是渐变的,或是上述的组合。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个超低摩擦层选自:非晶态合金、无电镀镍‑磷复合材料、石墨、MoS
2、WS
2、基于富勒烯的复合材料、基于硼化物的金属陶瓷、准晶态材料、基于金刚石的材料、类金刚石碳(DLC)、氮化硼、碳纳米管、石墨烯片、高纵横比(即,较长且薄)的金属粒子、包括碳纳米环的环形材料、长方或椭圆形粒子及上述的组合。
根据权利要求8所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述基于金刚石的材料为化学气相沉积(CVD)金刚石或多晶金刚石块(PDC)。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中至少一个超低摩擦层为类金刚石碳(DLC)。
根据权利要求10所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述类金刚石碳(DLC)选自:ta‑C、ta‑C:H、DLCH、PLCH、GLCH、Si‑DLC、Ti‑DLC、Cr‑DLC、N‑DLC、O‑DLC、B‑DLC、Me‑DLC、F‑DLC、S‑DLC及上述的组合。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述超低摩擦涂层提供小于1J/m
2的表面能量。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述本体组件的暴露的外表面的至少一部分上的所述超低摩擦涂层提供大于400VHN的硬度。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述涂层的摩擦系数小于或等于0.15。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述涂层提供比未经涂覆的装置至少3倍大的耐磨性。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述超低摩擦涂层的水接触角大于60度。
根据权利要求1或6所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述超低摩擦涂层的厚度在0.5微米至5000微米的范围内。
根据权利要求1或6所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个超低摩擦层、所述隔离层和所述缓冲层中的每一个的厚度在0.001微米和5000微米之间。
根据权利要求7所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个交界面的厚度在0.01微米至10微米之间或在最薄的相邻层的厚度的5%至95%之间。
根据权利要求6所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个缓冲层选自以下,硅、铝、铜、钼、钛、铬、钨、钽、铌、钒、锆、铪的元素、合金、碳化物、氮化物、碳‑氮化物、硼化物、硫化物、硅化物和氧化物及上述的组合。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述加硬层包括基于金属陶瓷的材料;金属基质的复合材料;纳米晶体金属合金;非晶态合金;硬质金属的合金;分散在金属合金基质内的元素钨、钛、铌、钼、铁、铬和硅的碳化物、氮化物、硼化物或氧化物;或上述的组合。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个隔离层包括:不锈钢、基于铬的合金、基于铁的合金、基于钴的合金、基于钛的合金或基于镍的合金、以下元素的合金或碳化物或氮化物或碳‑氮化物或硼化物或硅化物或硫化物或氧化物:硅、钛、铬、铝、铜、铁、镍、钴、钼、钨、钽、铌、钒、锆、铪或上述的组合。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个隔离层通过选自以下的一种或更多种工艺形成:PVD、PACVD、CVD、离子注入、碳化、氮化、硼化、硫化、硅化、氧化、电化学工艺、无电镀工艺、热喷涂工艺、动力喷涂工艺、基于激光的工艺、摩擦搅拌工艺、喷丸强化工艺、激光喷丸强化工艺、焊接工艺、铜焊工艺、超细超级抛光工艺、摩擦润滑化学抛光工艺、电化学抛光工艺及上述的组合。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个隔离层提供平均表面粗糙度低于0.25微米的超光滑表面光洁度。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述隔离层中的至少一个具有400VHN的最小硬度。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个柱形本体包括相对于彼此运动的两个或更多个柱形本体。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个柱形本体包括相对于彼此静止的两个或更多个柱形本体。
根据权利要求26或27所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述两个或更多个柱形本体包括两个或更多个半径。
根据权利要求28所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述两个或更多个柱形本体包括大体上在一个或更多个其它的柱形本体内的一个或更多个柱形本体。
根据权利要求28所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述两个或更多个柱形本体相互接壤。
根据权利要求28所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述两个或更多个柱形本体相互不接壤。
根据权利要求30或31所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述两个或更多个柱形本体为同轴的或不同轴的。
根据权利要求32所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述两个或更多个柱形本体具有大体平行的轴线。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个柱形本体的内表面为螺旋形、外表面为螺旋形或是上述的组合。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个柱形本体为实心的、中空的或上述的组合。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个柱形本体包括外部横截面、内部横截面或内部横截面和外部横截面为大体上圆形的、大体上椭圆形的或大体上多边形的至少一个柱形本体。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个柱形本体还包括螺纹。
根据权利要求37所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述螺纹的至少一部分被涂覆。
根据权利要求37或38所述的经涂覆的带套筒装置,还包括密封表面,其中所述密封表面的至少一部分被涂覆。
根据权利要求1、26或27中任一项所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个柱形本体为井建造装置。
根据权利要求40所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述井建造装置选自:钻杆、套管、油管管柱、钢丝绳/编织绳/多芯导管/单芯导管/试井钢丝;挠性油管、Moyno
TM和渐进腔式泵的叶片式转子和定子、可膨胀的管件、膨胀心轴、扶正器、接触环、冲洗管道、用于固体控制的摇动筛网、打捞器和抓钩、海底立管、表面流动管线及上述的组合。
根据权利要求1、26或27中任一项所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个柱形本体为完井和生产装置。
根据权利要求42所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述完井和生产装置选自:柱塞举升装置;完井滑动套筒组件;挠性油管;抽吸杆;Corods
TM;油管管柱;泵油机;填料盒;密封器和润滑器;活塞和活塞衬套;Moyno
TM和渐进腔式泵的叶片式转子和定子;可膨胀的管件;膨胀心轴;控制管线和导管;在井眼中操作的工具;钢丝绳/编织绳/多芯导管/单芯导管/试井钢丝;扶正器;接触环;穿孔基管;开槽基管;用于砂石控制的筛网基管;冲洗管道;分流管;用于砂砾封隔操作的维修工具;耐磨接头;设置在完井层段中的砂石筛网;Mazeflo
TM完井筛网;烧结筛网;金属丝缠绕筛网;用于固体控制的摇动筛网;打捞器和抓钩;海底立管;表面流动管线;采油处理管线及上述的组合。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个柱形本体为管道工具接头的销或套连接件。
根据权利要求44所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个柱形本体构造有横截面为圆形的近侧柱形横截面。
根据权利要求44所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个柱形本体构成有横截面为非圆形的近侧柱形横截面。
根据权利要求44所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述销或套连接件被定向成使得相对于重力方向,所述销面向上且所述套面向下。
根据权利要求44所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述销或套连接件被定向成使得相对于重力方向,所述销面向下且所述套面向上。
根据权利要求1所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个套筒包括:基于铁的材料、碳钢、钢合金、不锈钢、Al基合金、Ni基合金、Ti基合金、陶瓷、金属陶瓷、聚合物、碳化钨钴或上述的组合。
一种经涂覆的带套筒油气井生产装置,包括:
油气井生产装置,所述油气井生产装置包括一个或更多个本体,其中所述一个或更多个本体不包括钻头,
一个或更多个套筒,所述一个或更多个套筒接近所述一个或更多个本体的外表面或内表面,
涂层,所述涂层在所述一个或更多个套筒的内套筒表面、外套筒表面或内套筒表面和外套筒表面的组合的至少一部分上,
其中所述涂层包括一个或更多个超低摩擦层,以及
一个或更多个隔离层,所述的一个或更多个隔离层置于所述一个或更多个套筒和所述超低摩擦涂层之间,
其中所述隔离层中的至少一个具有400VHN的最小硬度。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述超低摩擦涂层还包括一个或更多个缓冲层。
根据权利要求50或51所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述层中的至少一个层是渐变的,或者相邻的层之间的交界面中的至少一个是渐变的或是上述的组合。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个超低摩擦层选自:非晶态合金、无电镀镍‑磷复合材料、石墨、MoS
2、WS
2、基于富勒烯的复合材料、基于硼化物的金属陶瓷、准晶态材料、基于金刚石的材料、类金刚石碳(DLC)、氮化硼、碳纳米管、石墨烯片、高纵横比(即,较长且薄)的金属粒子、包括碳纳米环的环形材料、长方或椭圆形粒子及上述的组合。
根据权利要求53所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述基于金刚石的材料为化学气相沉积(CVD)金刚石或多晶金刚石块(PDC)。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中至少一个超低摩擦层为类金刚石碳(DLC)。
根据权利要求55所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述类金刚石碳(DLC)选自:ta‑C、ta‑C:H、DLCH、PLCH、GLCH、Si‑DLC、Ti‑DLC、Cr‑DLC、N‑DLC、O‑DLC、B‑DLC、Me‑DLC、F‑DLC、S‑DLC及上述的组合。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述超低摩擦涂层提供小于1J/m
2的表面能量。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述本体组件的暴露的外表面的至少一部分上的所述超低摩擦涂层提供大于400VHN的硬度。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述涂层的摩擦系数小于或等于0.15。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述涂层提供比未经涂覆的装置至少3倍大的耐磨性。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述超低摩擦涂层的水接触角大于60度。
根据权利要求50或51所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述超低摩擦涂层的厚度在0.5微米至5000微米的范围内。
根据权利要求50或51所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个层的厚度在0.001微米和5000微米之间。
根据权利要求52所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个交界面的厚度在0.01微米至10微米之间或为最薄的相邻层的厚度的5%至95%。
根据权利要求51所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个缓冲层选自硅、铝、铜、钼、钛、铬、钨、钽、铌、钒、锆、铪的元素、合金、碳化物、氮化物、碳‑氮化物、硼化物、硫化物、硅化物和氧化物或上述的组合。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个套筒还包括在其至少一部分上的加硬层。
根据权利要求66所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述加硬层包括基于金属陶瓷的材料;金属基质的复合材料;纳米晶体金属合金;非晶态合金;硬质金属的合金;分散在金属合金基质内的元素钨、钛、铌、钼、铁、铬和硅的碳化物、氮化物、硼化物或氧化物;或上述的组合。
根据权利要求66所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述加硬层具有图案化表面。
根据权利要求68所述的经涂覆的带套筒装置,其中图案化的所述加硬层的表面包括深度在从1mm到5mm的范围内的凹进特征和凸出特征。
根据权利要求69所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述凹进特征包括加硬层区域中的面积的10%至90%。
根据权利要求68所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述加硬层具有选自以下的图案:横向凹槽或狭槽、纵向凹槽或狭槽、斜向凹槽或狭槽、螺旋凹槽或狭槽、人字形凹槽或狭槽、凹进韧窝、微凸韧窝,及上述的组合。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个隔离层包括不锈钢、基于铬的合金、基于铁的合金、基于钴的合金、基于钛的合金或基于镍的合金、以下元素的合金或碳化物或氮化物或碳‑氮化物或硼化物或硅化物或硫化物或氧化物:硅、钛、铬、铝、铜、铁、镍、钴、钼、钨、钽、铌、钒、锆、铪,或上述的组合。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个隔离层通过选自以下的一种或更多种工艺形成:PVD、PACVD、CVD、碳化、氮化、硼化、硫化、硅化、氧化、电化学工艺、无电镀工艺、热喷涂工艺、动力喷涂工艺、基于激光的工艺、摩擦搅拌工艺、喷丸强化工艺、激光喷丸强化工艺、焊接工艺、铜焊工艺、超细超级抛光工艺、摩擦润滑化学抛光工艺、电化学抛光工艺及上述的组合。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个隔离层提供平均表面粗糙度低于0.25微米的超光滑表面光洁度。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个本体包括相对于彼此运动的两个或更多个本体。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个本体包括相对于彼此静止的两个或更多个本体。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个本体包括球形和复杂几何形状。
根据权利要求77所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述复杂几何形状具有为非柱形形状的至少一部分。
根据权利要求75或76所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述两个或更多个本体包括大体上在一个或更多个其它的本体内的一个或更多个本体。
根据权利要求75或76所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述两个或更多个本体相互接壤。
根据权利要求75或76所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述两个或更多个本体相互不接壤。
根据权利要求75或76所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述两个或更多个本体为同轴的或不同轴的。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个本体为实心的、中空的或上述的组合。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个本体包括外部横截面、内部横截面或内部横截面和外部横截面为大体上圆形的、大体上椭圆形的或大体上多边形的至少一个本体。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个本体还包括螺纹。
根据权利要求85所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述螺纹的至少一部分被涂覆。
根据权利要求85或86所述的经涂覆的带套筒装置,还包括密封表面,其中所述密封表面的至少一部分被涂覆。
根据权利要求50、75或76中任一项所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个柱形本体为井建造装置。
根据权利要求88所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述井建造装置选自:扼流器、阀、阀座、油嘴、球阀、环形隔离阀、地下安全阀、离心机、弯头、T形管、联接器、防喷器、耐磨轴衬、往复和/或旋转密封组件中的动态金属‑金属密封件、安全阀中的弹簧、减震接头、和震击器、测井工具臂、钻机滑移设备、棘爪及上述的组合。
根据权利要求50、75或76中任一项所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个本体为完井和生产装置。
根据权利要求90所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述完井和生产装置选自:扼流器、阀、阀座、油嘴、球阀、流入控制装置、智能井阀、环形隔离阀、地下安全阀、离心机、气体举升和化学品注入阀、弯头、T形管、联接器、防喷器、耐磨轴衬、往复和/或旋转密封组件中的动态金属‑金属密封件、安全阀中的弹簧、减震接头、和震击器、测井工具臂、侧袋、心轴、封隔器卡瓦、封隔器锁片、砂石探头、井流流量计、砂石筛网的非柱形部件及上述的组合。
根据权利要求50所述的经涂覆的带套筒装置,其中所述一个或更多个套筒包括基于铁的材料、碳钢、钢合金、不锈钢、Al基合金、Ni基合金、Ti基合金、陶瓷、金属陶瓷、聚合物、碳化钨钴或上述的组合。
一种使用经涂覆的带套筒油气井生产装置的方法,包括:
提供经涂覆的油气井生产装置,所述经涂覆的油气井生产装置包括:一个或更多个柱形本体;以及在所述一个或更多个柱形本体的外径或内径附近的一个或更多个套筒;在所述一个或更多个套筒的暴露的外表面、暴露的内表面或者暴露的外表面或内表面这两者的组合的至少一部分上的加硬层;以及在所述一个或更多个套筒的内套筒表面、外套筒表面或其组合的至少一部分上的涂层,其中所述涂层包括一个或更多个超低摩擦层以及置于所述加硬层和所述超低摩擦涂层之间的一个或更多个隔离层;以及
在井建造、完井或生产操作中利用所述经涂覆的带套筒油气井生产装置。
根据权利要求93所述的方法,其中所述加硬层具有图案化表面。
根据权利要求94所述的方法,其中图案化的所述加硬层表面包括深度在从1mm到5mm的范围内的凹进特征和凸出特征。
根据权利要求94所述的方法,其中所述凹进特征包括加硬层区域中的面积的10%至90%。
根据权利要求94所述的方法,其中所述加硬层具有选自以下的图案:横向凹槽或狭槽、纵向凹槽或狭槽、斜向凹槽或狭槽、螺旋凹槽或狭槽、人字形凹槽或狭槽、凹进韧窝、微凸韧窝,及上述的组合。
根据权利要求93所述的方法,其中所述超低摩擦涂层还包括一个或更多个缓冲层。
根据权利要求93或98所述的方法,其中所述层中的至少一个层是渐变的,或者相邻的层之间的交界面中的至少一个是渐变的,或是上述的组合。
根据权利要求93所述的方法,其中所述一个或更多个超低摩擦层选自:非晶态合金、无电镀镍‑磷复合材料、石墨、MoS
2、WS
2、基于富勒烯的复合材料、基于硼化物的金属陶瓷、准晶态材料、基于金刚石的材料、类金刚石碳(DLC)、氮化硼、碳纳米管、石墨烯片、高纵横比(即,较长且薄)的金属粒子、包括碳纳米环的环形材料、长方或椭圆形粒子及上述的组合。
根据权利要求100所述的方法,其中所述基于金刚石的材料为化学气相沉积(CVD)金刚石或多晶金刚石块(PDC)。
根据权利要求93所述的方法,其中至少一个超低摩擦层为类金刚石碳(DLC)。
根据权利要求102所述的方法,其中所述类金刚石碳(DLC)选自:ta‑C、ta‑C:H、DLCH、PLCH、GLCH、Si‑DLC、Ti‑DLC、Cr‑DLC、N‑DLC、O‑DLC、B‑DLC、Me‑DLC、F‑DLC、S‑DLC及上述的组合。
根据权利要求93所述的方法,其中所述超低摩擦涂层提供小于1J/m
2的表面能量。
根据权利要求93所述的方法,其中所述本体组件的暴露的外表面的至少一部分上的超低摩擦涂层提供大于400VHN的硬度。
根据权利要求93所述的方法,其中所述涂层的摩擦系数小于或等于0.15。
根据权利要求93所述的方法,其中所述涂层提供比未经涂覆的装置至少3倍大的耐磨性。
根据权利要求93所述的方法,其中所述超低摩擦涂层的水接触角大于60度。
根据权利要求93或98所述的方法,其中所述超低摩擦涂层的厚度在0.5微米至5000微米的范围内。
根据权利要求93或98所述的方法,其中所述一个或更多个超低摩擦层、隔离层和缓冲层中的每一个的厚度在0.001微米和5000微米之间。
根据权利要求99所述的方法,其中所述一个或更多个交界面的厚度为0.01微米至10微米或为最薄的相邻层的厚度的5%至95%。
根据权利要求98所述的方法,其中所述一个或更多个缓冲层选自硅、铝、铜、钼、钛、铬、钨、钽、铌、钒、锆、铪的元素、合金、碳化物、氮化物、碳‑氮化物、硼化物、硫化物、硅化物和氧化物及上述的组合。
根据权利要求93所述的方法,其中所述加硬层包括基于金属陶瓷的材料;金属基质的复合材料;纳米晶体金属合金;非晶态合金;硬质金属的合金;分散在金属合金基质内的元素钨、钛、铌、钼、铁、铬和硅的碳化物、氮化物、硼化物或氧化物;或上述的组合。
根据权利要求93所述的方法,其中所述一个或更多个隔离层包括不锈钢、基于铬的合金、基于铁的合金、基于钴的合金、基于钛的合金或基于镍的合金、以下元素的合金或碳化物或氮化物或碳‑氮化物或硼化物或硅化物或硫化物或氧化物:硅、钛、铬、铝、铜、铁、镍、钴、钼、钨、钽、铌、钒、锆、铪,或上述的组合。
根据权利要求93所述的方法,其中所述一个或更多个隔离层通过选自以下的一种或更多种工艺形成:PVD、PACVD、CVD、离子注入、碳化、氮化、硼化、硫化、硅化、氧化、电化学工艺、无电镀工艺、热喷涂工艺、动力喷涂工艺、基于激光的工艺、摩擦搅拌工艺、喷丸强化工艺、激光喷丸强化工艺、焊接工艺、铜焊工艺、超细超级抛光工艺、摩擦润滑化学抛光工艺、电化学抛光工艺,及上述的组合。
根据权利要求93所述的方法,其中所述一个或更多个隔离层提供平均表面粗糙度低于0.25微米的超光滑表面光洁度。
根据权利要求93所述的方法,其中所述隔开层中的至少一个具有400VHN的最小硬度。
根据权利要求93所述的方法,其中所述一个或更多个柱形本体包括相对于彼此运动的两个或更多个柱形本体。
根据权利要求93所述的方法,其中所述一个或更多个柱形本体包括相对于彼此静止的两个或更多个柱形本体。
根据权利要求119所述的方法,其中所述两个或更多个柱形本体包括两个或更多个半径。
根据权利要求120所述的方法,其中所述两个或更多个柱形本体包括大体上在一个或更多个其它的柱形本体内的一个或更多个柱形本体。
根据权利要求120所述的方法,其中所述两个或更多个柱形本体相互接壤。
根据权利要求120所述的方法,其中所述两个或更多个柱形本体相互不接壤。
根据权利要求122或123所述的方法,其中所述两个或更多个柱形本体为同轴的或不同轴的。
根据权利要求124所述的方法,其中所述两个或更多个柱形本体具有大体平行的轴线。
根据权利要求93所述的方法,其中所述一个或更多个柱形本体在内表面中为螺旋形、在外表面中为螺旋形或为上述的组合。
根据权利要求93所述的方法,其中所述一个或更多个柱形本体为实心的、中空的或上述的组合。
根据权利要求93所述的方法,其中所述一个或更多个柱形本体包括外部横截面、内部横截面或内部横截面和外部横截面为大体上圆形的、大体上椭圆形的或大体上多边形的至少一个柱形本体。
根据权利要求93所述的方法,其中所述一个或更多个柱形本体还包括螺纹。
根据权利要求129所述的方法,其中所述螺纹的至少一部分被涂覆。
根据权利要求129或130所述的方法,还包括密封表面,其中所述密封表面的至少一部分被涂覆。
根据权利要求93、118或119中任一项所述的方法,其中所述一个或更多个柱形本体为井建造装置。
根据权利要求132所述的方法,其中所述井建造装置选自:钻杆、套管、油管管柱、钢丝绳/编织绳/多芯导管/单芯导管/试井钢丝;挠性油管、Moyno
TM和渐进腔式泵的叶片式转子和定子、可膨胀的管件、膨胀心轴、扶正器、接触环、冲洗管道、用于固体控制的摇动筛网、打捞器和抓钩、海底立管、表面流动管线、及上述的组合。
根据权利要求93、118或119中任一项所述的方法,其中所述一个或更多个柱形本体为完井和生产装置。
根据权利要求134所述的方法,其中所述完井和生产装置选自:柱塞举升装置;完井滑动套筒组件;挠性油管;抽吸杆;Corods
TM;油管管柱;泵油机;填料盒;密封器和润滑器;活塞和活塞衬套;Moyno
TM和渐进腔式泵的叶片式转子和定子;可膨胀的管件;膨胀心轴;控制管线和导管;在井眼中操作的工具;钢丝绳/编织绳/多芯导管/单芯导管/试井钢丝;扶正器;接触环;穿孔基管;开槽基管;用于砂石控制的筛网基管;冲洗管道;分流管;用于砂砾封隔操作的维修工具;耐磨接头;设置在完井层段中的砂石筛网;Mazeflo
TM完井筛网;烧结筛网;金属丝缠绕筛网;用于固体控制的摇动筛网;打捞器和抓钩;海底立管;表面流动管线,采油处理管线,及上述的组合。
根据权利要求93所述的方法,其中所述一个或更多个柱形本体为管道工具接头的销或套连接件。
根据权利要求136所述的方法,其中所述一个或更多个柱形本体构造有横截面为圆形的近侧柱形横截面。
根据权利要求136所述的方法,其中所述一个或更多个柱形本体构造有横截面为非圆形的近侧柱形横截面。
根据权利要求136所述的方法,其中所述销或套连接件被定向成使得相对于重力方向,销面向上且套面向下。
根据权利要求136所述的方法,其中所述销或套连接件被定向成使得相对于重力方向,销面向下且套面向上。
根据权利要求93所述的方法,其中所述一个或更多个套筒包括基于铁的材料、碳钢、钢合金、不锈钢、Al基合金、Ni基合金、Ti基合金、陶瓷、金属陶瓷、聚合物、碳化钨钴、或上述的组合。
根据权利要求100所述的方法,其中所述类金刚石碳(DLC)通过物理气相沉积、化学气相沉积或等离子辅助的化学气相沉积涂覆技术来施加。
根据权利要求142所述的方法,其中所述物理气相沉积涂覆方法选自:RF‑DC等离子反应磁控溅射、离子束辅助沉积、阴极电弧沉积和脉冲激光沉积。
一种使用经涂覆的带套筒油气井生产装置的方法,包括:
提供经涂覆的油气井生产装置,所述经涂覆的油气井生产装置包括:一个或更多个本体,其中所述一个或更多个本体不包括钻头;以及在所述一个或更多个本体的外表面或内表面附近具有一个或更多个套筒;以及在所述一个或更多个套筒的内套筒表面、外套筒表面或其组合的至少一部分上的涂层,其中所述涂层包括一个或更多个超低摩擦层以及置于所述一个或更多个套筒和所述超低摩擦涂层之间的一个或更多个隔离层,其中所述隔离层中的至少一个具有400VHN的最小硬度;以及
在井建造、完井或生产操作中利用所述经涂覆的带套筒油气井生产装置。
根据权利要求144所述的方法,其中所述超低摩擦涂层还包括一个或更多个缓冲层。
根据权利要求144或145所述的方法,其中所述层中的至少一个层是渐变的,或者相邻的层之间的交界面中的至少一个是渐变的或为上述的组合。
根据权利要求144所述的方法,其中所述一个或更多个超低摩擦层选自:非晶态合金、无电镀镍‑磷复合材料、石墨、MoS
2、WS
2、基于富勒烯的复合材料、基于硼化物的金属陶瓷、准晶态材料、基于金刚石的材料、类金刚石碳(DLC)、氮化硼、碳纳米管、石墨烯片、高纵横比(即,较长且薄)的金属粒子、包括碳纳米环的环形材料、长方或椭圆形粒子及上述的组合。
根据权利要求147所述的方法,其中所述基于金刚石的材料为化学气相沉积(CVD)金刚石或多晶金刚石块(PDC)。
根据权利要求144所述的方法,其中至少一个超低摩擦层为类金刚石碳(DLC)。
根据权利要求149所述的方法,其中所述类金刚石碳(DLC)选自:ta‑C、ta‑C:H、DLCH、PLCH、GLCH、Si‑DLC、Ti‑DLC、Cr‑DLC、N‑DLC、O‑DLC、B‑DLC、Me‑DLC、F‑DLC、S‑DLC及上述的组合。
根据权利要求144所述的方法,其中所述超低摩擦涂层提供小于1J/m
2的表面能量。
根据权利要求144所述的方法,其中所述本体组件的暴露的外表面的至少一部分上的所述超低摩擦涂层提供大于400VHN的硬度。
根据权利要求144所述的方法,其中所述涂层的摩擦系数小于或等于0.15。
根据权利要求144所述的方法,其中所述涂层提供比未经涂覆的装置至少3倍大的耐磨性。
根据权利要求144所述的方法,其中所述超低摩擦涂层的水接触角大于60度。
根据权利要求144或145所述的方法,其中所述超低摩擦涂层的厚度在0.5微米至5000微米的范围内。
根据权利要求144或145所述的方法,其中所述一个或更多个层的厚度在0.001微米和5000微米之间。
根据权利要求146所述的方法,其中一个或更多个交界面的厚度为0.01微米至10微米或在最薄的相邻层的厚度的5%至95%之间。
根据权利要求145所述的方法,其中所述一个或更多个缓冲层选自硅、铝、铜、钼、钛、铬、钨、钽、铌、钒、锆、铪的元素、合金、碳化物、氮化物、碳‑氮化物、硼化物、硫化物、硅化物和氧化物,或上述的组合。
根据权利要求144所述的方法,其中所述一个或更多个本体还包括在其至少一部分上的加硬层。
根据权利要求160所述的方法,其中所述加硬层包括基于金属陶瓷的材料;金属基质的复合材料;纳米晶体金属合金;非晶态合金;硬质金属的合金;分散在金属合金基质内的元素钨、钛、铌、钼、铁、铬和硅的碳化物、氮化物、硼化物或氧化物;或上述的组合。
根据权利要求160所述的方法,其中所述加硬层具有图案化表面。
根据权利要求162所述的方法,其中图案化的所述加硬层的表面包括深度在从1mm到5mm的范围内的凹进特征和凸出特征。
根据权利要求163所述的方法,其中所述凹进特征包括加硬层区域中的面积的10%至90%。
根据权利要求162所述的方法,其中所述加硬层具有选自以下的图案:横向凹槽或狭槽、纵向凹槽或狭槽、斜向凹槽或狭槽、螺旋凹槽或狭槽、人字形凹槽或狭槽、凹进韧窝、微凸韧窝,及上述的组合。
根据权利要求144所述的方法,其中所述一个或更多个隔离层包括不锈钢、基于铬的合金、基于铁的合金、基于钴的合金、基于钛的合金或基于镍的合金、以下元素的合金或碳化物或氮化物或碳‑氮化物或硼化物或硅化物或硫化物或氧化物:硅、钛、铬、铝、铜、铁、镍、钴、钼、钨、钽、铌、钒、锆、铪,或上述的组合。
根据权利要求144所述的方法,其中所述一个或更多个隔离层通过选自以下的一种或更多种工艺形成:PVD、PACVD、CVD、碳化、氮化、硼化、硫化、硅化、氧化、电化学工艺、无电镀工艺、热喷涂工艺、动力喷涂工艺、基于激光的工艺、摩擦搅拌工艺、喷丸强化工艺、激光喷丸强化工艺、焊接工艺、铜焊工艺、超细超级抛光工艺、摩擦润滑化学抛光工艺、电化学抛光工艺,及上述的组合。
根据权利要求144所述的方法,其中所述一个或更多个隔离层提供平均表面粗糙度低于0.25微米的超光滑表面光洁度。
根据权利要求144所述的方法,其中所述一个或更多个本体包括相对于彼此运动的两个或更多个本体。
根据权利要求144所述的方法,其中一个或更多个本体包括相对于彼此静止的两个或更多个本体。
根据权利要求144所述的方法,其中所述一个或更多个本体包括球形和复杂几何形状。
根据权利要求171所述的方法,其中所述复杂几何形状具有为非柱形形状的至少一部分。
根据权利要求169或170所述的方法,其中所述两个或更多个本体包括大体上在一个或更多个其它的本体内的一个或更多个本体。
根据权利要求169或170所述的方法,其中所述两个或更多个本体相互接壤。
根据权利要求169或170所述的方法,其中所述两个或更多个本体相互不接壤。
根据权利要求169或170所述的方法,其中所述两个或更多个本体为同轴的或不同轴的。
根据权利要求144所述的方法,其中所述一个或更多个本体为实心的、中空的或为上述的组合。
根据权利要求144所述的方法,其中所述一个或更多个本体包括外部横截面、内部横截面或内部横截面和外部横截面为大体上圆形的、大体上椭圆形的或大体上多边形的至少一个本体。
根据权利要求144所述的方法,其中所述一个或更多个本体还包括螺纹。
根据权利要求179所述的方法,其中所述螺纹的至少一部分被涂覆。
根据权利要求179或180所述的方法,还包括密封表面,其中所述密封表面的至少一部分被涂覆。
根据权利要求144、169或170中任一项所述的方法,其中所述一个或更多个柱形本体为井建造装置。
根据权利要求182所述的方法,其中所述井建造装置选自:扼流器、阀、阀座、油嘴、球阀、环形隔离阀、地下安全阀、离心机、弯头、T形管、联接器、防喷器、耐磨轴衬、往复和/或旋转密封组件中的动态金属‑金属密封件、安全阀中的弹簧、减震接头和震击器、测井工具臂、钻机滑移设备、棘爪,及上述的组合。
根据权利要求144、169或170中任一项所述的方法,其中所述一个或更多个本体为完井和生产装置。
根据权利要求184所述的方法,其中所述完井和生产装置选自:扼流器、阀、阀座、油嘴、球阀、流入控制装置、智能井阀、环形隔离阀、地下安全阀、离心机、气体举升和化学品注入阀、弯头、T形管、联接器、防喷器、耐磨轴衬、往复和/或旋转密封组件中的动态金属‑金属密封件、安全阀中的弹簧、减震接头和震击器、测井工具臂、侧袋、心轴、封隔器卡瓦、封隔器锁片、砂石探头、井流流量计、砂石筛网的非柱形部件,及上述的组合。
根据权利要求144所述的方法,其中所述一个或更多个套筒包括基于铁的材料、碳钢、钢合金、不锈钢、Al基合金、Ni基合金、Ti基合金、陶瓷、金属陶瓷、聚合物、碳化钨钴,或上述的组合。
根据权利要求147所述的方法,其中所述类金刚石碳(DLC)通过物理气相沉积、化学气相沉积或等离子辅助的化学气相沉积涂覆技术来施加。
根据权利要求187所述的方法,其中所述物理气相沉积涂覆方法选自:RF‑DC等离子反应磁控溅射、离子束辅助沉积、阴极电弧沉积和脉冲激光沉积。