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本发明涉及一种用于对至少一个导电基底或对非导电基底上的结构化或完全表面化的导电表面进行电解涂覆的装置。所述装置包括至少一个电解槽、一个阳极和一个阴极。所述电解槽容纳有含有至少一种金属盐的电解质溶液,在所述阴极与待涂覆的基底表面接触且所述基底被输运经过所述电解槽时,金属离子从所述电解质溶液沉积在所述基底的导电表面上以形成金属层。所述阴极包括至少两个盘(2,4,10),所述至少两个盘可转动地安装在相应。