一种太阳能单晶硅片清洗剂及其制备方法.pdf

本发明公开了一种太阳能单晶硅片清洗剂，其特征在于：按重量百分比计由以下原料组成：仲烷基磺酸钠2～4％，盐酸羟胺0.8～1.2％、酮类1～3％，异构醇聚氧乙烯醚1～2％，环氧基硅烷偶合剂0.3～0.5％，2-乙基4-甲基咪唑0.2～0.5％，酸性蛋白酶0.3～1.2％，薄荷醇2～4％，月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠2.2～3％，水溶性离子液体2～5％，余量为水。本发明制备的清洗剂相对于现有技术而言，具有以下优点：通过本发明特有无强酸强碱的环境下以及其他组分相互作用的养护下，不仅清洗效果好，而且不会造成对金属的腐蚀，清洗剂残留物不会出现微粒化颗粒附着于清洗对象上，避免了进一步慢性腐蚀。

权利要求书
1.  一种太阳能单晶硅片清洗剂，其特征在于：按重量百分比计由以下原料组成：仲烷基磺酸钠2～4％，盐酸羟胺0.8～1.2％、酮类1～3％，异构醇聚氧乙烯醚1～2％，环氧基硅烷偶合剂0.3～0.5％，2-乙基4-甲基咪唑0.2～0.5％，酸性蛋白酶0.3～1.2％，薄荷醇2～4％，月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠2.2～3％，水溶性离子液体2～5％，余量为水。

2.  根据权利要求1所述的一种太阳能单晶硅片清洗剂，其特征在于：按重量百分比计由以下原料组成：仲烷基磺酸钠3～4％，盐酸羟胺0.8～1.2％、酮类2～3％，异构醇聚氧乙烯醚1～2％，环氧基硅烷偶合剂0.4～0.5％，2-乙基4-甲基咪唑0.3～0.5％，酸性蛋白酶0.8～1.2％，薄荷醇3～4％，月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠2.5～3％，水溶性离子液体3～5％，余量为水。

3.  根据权利要求1所述的一种太阳能单晶硅片清洗剂，其特征在于：按重量百分比计由以下原料组成：仲烷基磺酸钠3％，盐酸羟胺1％，酮类2.5％，异构醇聚氧乙烯醚1.5％环氧基硅烷偶合剂0.45％，2-乙基4-甲基咪唑0.4％，酸性蛋白酶1％，薄荷醇3％，月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠2.5％，水溶性离子液体3％，余量为水。

4.  根据权利要求1所述的一种太阳能单晶硅片清洗剂，其特征在于：所述酮类为丙酮、甲乙酮、环己酮或者甲基异丁酮中的一种或者多种。

5.  根据权利要求1所述的一种太阳能单晶硅片清洗剂，其特征在于：水溶性离子液体的化学式为[HBIm][BF4]。

6.  一种根据权利要求1所述的太阳能单晶硅片清洗剂的制备方法，其特征在于：
称取相应原料组分混合后，在超声波的作用下超声10～20min。

说明书一种太阳能单晶硅片清洗剂及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种清洗剂，具体涉及太阳能单晶硅片清洗剂及其制备方法。
背景技术
单晶硅太阳能电池转换效率最高，技术也最为成熟。在实验室里最高的转换效率为23％,规模生产时的效率为15％。在大规模应用和工业生产中仍占据主导地位。其制备过程中需要将单晶硅棒切割成片，然后进行初抛、制绒，在此过程中会产生屑沫和油污，若不清洗干净，会导致其表面发花，以致产品报废。目前的清洗剂多使用HF酸或强碱进行清洗，对硅片腐蚀严重且污染环境，危害操作人员健康，且清洗剂中的微粒化的颗粒会附着于清洗对象会造成长期慢性腐蚀现象，并且会对清洗对象造成一定程度的腐蚀，也提高了生产成本。
发明内容
发明目的：为了克服现有技术中存在的不足，本发明提供一种太阳能单晶硅片清洗剂及其制备方法。
技术方案：为实现上述目的，本发明提供的一种太阳能单晶硅片清洗剂，按重量百分比计由以下原料组成：仲烷基磺酸钠2～4％，盐酸羟胺0.8～1.2％、酮类1～3％，异构醇聚氧乙烯醚1～2％，环氧基硅烷偶合剂0.3～0.5％，2-乙基4-甲基咪唑0.2～0.5％，酸性蛋白酶0.3～1.2％，薄荷醇2～4％，月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠2.2～3％，水溶性离子液体2～5％，余量为水。
优选地，重量百分比计由以下原料组成：仲烷基磺酸钠3～4％，盐酸羟胺0.8～1.2％，酮类2～3％，异构醇聚氧乙烯醚1～2％，环氧基硅烷偶合剂0.4～0.5％，2-乙基4-甲基咪唑0.3～0.5％，酸性蛋白酶0.8～1.2％，薄荷醇3～4％，月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠2.5～3％，水溶性离子液体3～5％，余量为水。
优选地，重量百分比计由以下原料组成：仲烷基磺酸钠3％，盐酸羟胺1％、酮类2.5％，异构醇聚氧乙烯醚1.5％，环氧基硅烷偶合剂0.45％，2-乙基4-甲基咪唑0.4％，酸性蛋白酶1％，薄荷醇3％，月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠2.5％，水溶性离子液体3％，余量为水。
进一步地，所述酮类为丙酮、甲乙酮、环己酮或者甲基异丁酮中的一种或者多种。
进一步地，水溶性离子液体的化学式为[HBIm][BF4]。
上述的太阳能单晶硅片清洗剂的制备方法，称取相应原料组分混合后，在超声波的作用下超声10～20min。
有益效果：本发明制备的清洗剂相对于现有技术而言，具有以下优点：通过本发明特有无强酸强碱的环境下以及其他组分相互作用的养护下，不仅清洗效果好，而且不会造成对金属的腐蚀，清洗剂残留物不会出现微粒化颗粒附着于清洗对象上，避免了进一步慢性腐蚀。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作更进一步的说明。
实施例1：
一种太阳能单晶硅片清洗剂，按重量百分比计由以下原料组成：仲烷基磺酸钠2～4％，盐酸羟胺1.2％、酮类1％，异构醇聚氧乙烯醚1％，环氧基硅烷偶合剂0.3％，2-乙基4-甲基咪唑0.2％，酸性蛋白酶0.3％，薄荷醇2％，月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠2.2％，水溶性离子液体2％，余量为水。
实施例2：
一种太阳能单晶硅片清洗剂，按重量百分比计由以下原料组成：仲烷基磺酸钠2～4％，盐酸羟胺0.8％、酮类3％，异构醇聚氧乙烯醚2％，环氧基硅烷偶合剂0.5％，2-乙基4-甲基咪唑0.5％，酸性蛋白酶1.2％，薄荷醇4％，月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠3％，水溶性离子液体5％，余量为水。
实施例3：
一种太阳能单晶硅片清洗剂，按重量百分比计由以下原料组成：仲烷基磺酸钠3～4％，盐酸羟胺1％，酮类2.5％，异构醇聚氧乙烯醚1.5％，环氧基硅烷偶合剂0.45％，2-乙基4-甲基咪唑0.35％，酸性蛋白酶1％，薄荷醇3.5％，月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠2.5％，水溶性离子液体3.5％，余量为水。
实施例4：
一种太阳能单晶硅片清洗剂，按重量百分比计由以下原料组成：仲烷基磺酸钠3％，盐酸羟胺1％、酮类2.5％，异构醇聚氧乙烯醚1.5％，环氧基硅烷偶合剂0.45％，2-乙基4-甲基咪唑0.4％，酸性蛋白酶1％，薄荷醇3％，月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠2.5％，水溶性离子液体3％，余量为水。
实施例5：
一种太阳能单晶硅片清洗剂，按重量百分比计由以下原料组成：仲烷基磺酸钠3％，盐酸羟胺0.8％，酮类2％，异构醇聚氧乙烯醚1％，环氧基硅烷偶合剂0.4％，2-乙基4-甲基咪唑0.3％，酸性蛋白酶0.8％，薄荷醇3％，月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠2.5％，水溶性离子液体3％，余量为水。
实施例1～5的性能测试如下表：

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出：对于本技术领域的技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。