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1、(10)申请公布号 CN 103334092 A (43)申请公布日 2013.10.02 CN 103334092 A *CN103334092A* (21)申请号 201310233117.X (22)申请日 2013.06.13 C23C 16/455(2006.01) (71)申请人 中国电子科技集团公司第四十八研 究所 地址 410111 湖南省长沙市天心区新开铺路 1025 号 (72)发明人 罗才旺 魏唯 陈特超 罗宏洋 (74)专利代理机构 长沙正奇专利事务所有限责 任公司 43113 代理人 马强 李发军 (54) 发明名称 一种用于金属有机化学气相沉积反应器的管 道冷却式气。
2、体分布装置 (57) 摘要 本发明公开了一种用于金属有机化学气相沉 积反应器的管道冷却式气体分布装置， 所述管道 冷却式气体分布装置包括气体喷射板， 该气体喷 射板上方设有气体连接板， 在气体连接板与气体 喷射板之间设有气体分布板 ； 在上述各结构板之 间安装有冷却液管道， 该冷却液管道是由单根管 道折弯或多根管道拼焊制成。所述气体喷淋头上 还设置有若干相互隔离的气体通道， 如第一、 第二 前体气体通道和载气通道， 所述气体通道与相应 的气体接口连接， 能够将相应的气体独立的送入 反应室。本发明采用管式冷却降低了喷淋头的制 造难度， 且提高了喷淋头中冷却液管道的密封性 能及密封可靠性。 (51。
3、)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 6 页 附图 5 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书6页 附图5页 (10)申请公布号 CN 103334092 A CN 103334092 A *CN103334092A* 1/1 页 2 1. 一种用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置， 包括位于反 应腔室 （103） 上方的气体喷射板 （210） ， 该气体喷射板 （210） 上方设有气体连接板 （216） ， 在所述气体喷射板 （210） 与气体连接板 （216） 之间设有至少三个层叠的气体分布板 （212、 214、 。
4、215） ； 其特征在于， 在所述气体喷射板 （210）与最下层的气体分布板 （212）之间、 相 邻两层气体分布板之间均设置有冷却液管道 （211、 213、 217、 218） ； 所述气体连接板 （216） 上设置有若干气体接口 （202、 203、 206） 、 测量仪安装窗口 （205）以及与所述冷却液管道 （211、 213、 217、 218） 连通的冷却液进出口 （201、 207） ， 且所述气体喷射板 （210） 、 气体分布 板 （212、 214、 215） 、 气体连接板 （216） 叠加在一起后形成若干相互独立的气体通道 （303c、 307c、 305c） ， 该。
5、气体通道包括第一前体气体通道 （307） 、 第二前体气体通道 （303） 和载气通 道 （305） ； 所述气体喷射板 （210） 的上侧面、 气体连接板 （216） 的下侧面以及各气体分布板 （212、 214、 215） 的上、 下侧面均设有用于容纳冷却液管道 （211、 213、 217、 218） 的两个凹槽 （308a， 301b、 302b） ， 两个凹槽 （308a） 之间通过狭缝 （305e） 隔开， 在所述凹槽 （308a， 301b、 302b） 内冷却液管道折弯水平布置 ； 所述测量仪安装窗口 （205） 内设有与气体接口连通的 狭缝 （305e） ； 所述气体连接板 。
6、（216） 和各气体分布板 （212、 214、 215） 上均设有冷却液管道 安装通孔。 2. 根据权利要求 1 所述的用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布 装置， 其特征在于， 所述气体分布板 （212、 214、 215） 有三块。 3.根据权利要求1或2所述的用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分 布装置， 其特征在于， 所述凹槽 （308a， 301b、 302b） 的横截面为半圆形， 半圆形的弦与所述狭 缝 （305e） 共线。 4.根据权利要求1或2所述的用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分 布装置， 其特征在于， 所述冷却液管道 （211、 。
7、213、 217、 218） 的数量为 1-16 根。 5. 根据权利要求 4 所述的用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布 装置， 其特征在于， 当冷却液管道为多根时， 多根冷却液管道 （211、 213、 217、 218） 为相互独 立的冷却通道。 6. 根据权利要求 1 或 5 所述的用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体 分布装置， 其特征在于， 所述冷却液管道与气体喷射板 （210） 、 气体连接板 （216） 、 气体分布 板 （212、 214、 215） 之间的连接采用真空扩散焊接连接或真空熔焊连接或与所述凹槽定位连 接。 7.根据权利要求1或2所述的用于。
8、金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分 布装置， 其特征在于， 所述凹槽 （308a， 301b、 302b） 的横截面为半椭圆形或多边形。 8.根据权利要求1或2所述的用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分 布装置， 其特征在于， 所述测量仪安装窗口 （205） 安装有晶片翘曲度测量探头。 权 利 要 求 书 CN 103334092 A 2 1/6 页 3 一种用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体 分布装置 技术领域 0001 本发明涉及一种用于化学气相沉积的气体分布装置 （喷淋头） ， 特别涉及一种管式 冷却的气体喷淋头。 背景技术 0002 MOCVD （Me。
9、tal Organic Chemical Vapor Deposition） 设备， 即金属有机物化学气 相沉积， 其在半导体产业尤其是在 LED 产业中具有不可替代性的作用， 是特别关键的设备。 该设备是突破产业发展瓶颈， 提高产业水平的战略性高技术半导体装备。 0003 MOCVD 设备是一种集计算流体力学、 热力传导、 系统集成控制、 化合物生长等各学 科于一体， 是一种高科技、 新技术高度集中的设备 ； MOCVD 的工作原理是使含有族或族 元素的金属有机物源 （MO 源） 与含有族或族元素的气体源在严格控制的条件下在晶片 上反应， 生长得到所需要的薄膜材料。 一般金属有机物源通过载气。
10、输运进入反应室， 载气可 以为氢气、 氮气、 惰性气体等不与反应物起化学反应的气体， 含有 MO 源的载气称为第一前 体气体 ； 含有族或族元素的气体源一般也混有一定比例的载气， 称为第二前体气体。 0004 MOCVD在进行工艺时基片表面的温度可达1200， 基片托盘 （载片盘） 的温度更高， 气体喷淋头 （喷淋头） 位于载片盘上方， 并且与载片盘的距离很小 （不超过 80mm， 部分型号的 反应室距离只有 10mm 左右） ， 因此其受辐射加热的功率很大。而气体喷淋头只有在本身温 度较低、 表面温度场均匀的情况下才能具有满足工艺的需要的性能。因为气体喷淋头温度 高于 150会导致反应物源材。
11、料在气体喷淋头内部分解， 降低源材料的利用率， 并影响沉积 薄膜质量。而气体喷淋头表面温度场不均匀会导致载片盘表面温度不均匀， 从而导致基片 表面沉积薄膜成分及膜厚不均匀， 因此喷淋头的冷却系统设计是喷淋头设计的一个重要组 成部分。 0005 目前， 喷淋头中普遍使用的冷却液通道设计加工方式主要有以下两种 ： 1） 在喷淋 头上打通孔， 然后将通孔按要求连接进行分组焊接联通形成冷却管道。2） 预先在组成喷淋 头的相应结构板上挖出构成冷却液通道凹槽， 然后使用真空扩散焊接、 真空熔焊等方式将 各结构板采用面对面的方式焊接起来， 使预先加工的凹槽封闭， 形成冷却液通道， 如中国专 利申请 CN20。
12、1210118049.8 公开了一种用于金属有机化学气相沉积反应器的斜入式气体喷 淋头， 其包括位于反应腔室上方的气体喷射板， 气体连接板和气体分布板 ； 所述气体连接板 上设置有若干气体接口及冷却液接口， 但该申请也存在焊缝在高温条件下的可靠性问题及 加工难度问题。 0006 随着 MOCVD 单批次生产规模的扩大， 喷淋头的尺寸也越来越大， 因此打孔、 分组焊 接联通形成冷却液通道方式中深孔孔深与孔径之比也越来越大， 因此深孔加工的难度也越 来越大， 目前大尺寸喷淋头中的冷却液通道深孔的加工已经非常困难。并且 MOCVD 喷淋头 是一种对结构精度要求很高的零件， 在当前尺寸下已经存在加工时。
13、废品率很高的问题， 目 前从加工厂家获得的数据来看， 成品率只有 1/3 左右， 因此 MOCVD 喷淋头的加工费用一直 说 明 书 CN 103334092 A 3 2/6 页 4 居高不下。另外在 MOCVD 喷淋头装入设备， 组成整机后， 喷淋头焊缝漏水会造成工件及加 热器损毁， 从而导致 MOCVD 反应室毁坏， 带来巨大的经济损失。预设冷却液通道凹槽， 然后 使用面 - 面焊接形成冷却液通道的方法也存在工艺复杂、 加工废品率高的问题， 并且在工 艺过程中由于喷淋头上下两面存在较大的温差， 因此喷淋头内部也存在较大的应力， 这对 面 - 面焊接形成的面 - 面焊缝的密封可靠性是一个很大。
14、的挑战， 不利于 MOCVD 设备可靠性 的提高。 发明内容 0007 为了避免在加工喷淋头冷却液通道时出现难加工深孔， 同时能降低喷淋头结构板 面 - 面焊接的要求， 本发明旨在提供一种用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式 气体分布装置， 该管式冷却装置密封性能好、 密封的可靠性高， 其密封可靠性不受 MOCVD 工 艺过程中由于喷淋头上下表面温度差引起的应力的影响， 从而降低了产品的废品率， 提高 了生产效率。 0008 为了实现上述目的， 本发明所采用的技术方案是 ： 一种用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置， 包括位于反应腔 室上方的气体喷射板， 该气体喷射板上。
15、方设有气体连接板， 在所述气体喷射板与气体连接 板之间设有至少三个层叠的气体分布板 ； 其结构特点是， 在所述气体喷射板与最下层的气 体分布板之间、 相邻两层气体分布板之间均设置有冷却液管道 ； 所述气体连接板上设置有 若干气体接口、 测量仪安装窗口以及与所述冷却液管道连通的冷却液进出口， 且所述气体 喷射板、 气体分布板、 气体连接板叠加在一起后形成若干相互独立的气体通道， 该气体通道 包括第一前体气体通道、 第二前体气体通道和载气通道 ； 所述气体喷射板的上侧面、 气体连 接板的下侧面以及各气体分布板的上、 下侧面均设有用于容纳冷却液管道的两个凹槽， 两 个凹槽之间通过狭缝隔开， 在所述凹。
16、槽内冷却液管道折弯水平布置 ； 所述测量仪安装窗口 内设有与气体接口连通的狭缝 ； 所述气体连接板和各气体分布板上均设有冷却液管道安装 通孔。 0009 以下为本发明的进一步改进的技术方案 ： 根据本发明的实施例， 所述气体分布板优选有三块。 0010 所述凹槽的横截面为半圆形， 半圆形的弦与所述狭缝共线。 0011 所述冷却液管道的数量为 1-16 根。进一步地， 当冷却液管道为多根时， 多根冷却 液管道为相互独立的冷却通道。 0012 为了稳固所述冷却液管道， 所述冷却液管道与气体喷射板、 气体连接板、 气体分布 板之间的连接采用真空扩散焊接连接或真空熔焊连接或与所述凹槽定位连接。 001。
17、3 所述凹槽的横截面为半椭圆形或多边形。 0014 为了检测晶片翘曲度， 所述测量仪安装窗口安装有晶片翘曲度测量探头。 0015 藉由上述结构， 本发明包括气体连接板及气体喷射板， 在所属气体连接板及气体 喷射板之间存在若干气体分布板。在气体喷射板与气体分布板之间及气体分布板之间安 装有冷却管道， 该冷却管道是由单根不锈钢管折弯制成 （或多根管道平焊制成） 。所述气体 连接板上设置有若干气体接口及冷却管道通孔， 且在该气体分布板及气体喷射板上设置有 若干相互隔离的气体通道， 所述气体通道与相应的气体接口连通， 如第一前体气体通道、 第 说 明 书 CN 103334092 A 4 3/6 页 。
18、5 二前体气体通道、 载气通道等。 本发明中气体喷射板及相应的气体分布板上均设计有凹槽， 凹槽横截面为半圆形、 矩形、 U 型或半椭圆形状， 凹槽回路形状按照冷却管道冷却回路设计。 本发明中冷却管道使用单根管道折弯制成， 也可以使用多根管道拼焊的方式制作冷却液管 道。 0016 本发明中为了对喷淋头进行更好的冷却， 在喷射板与气体分布板之间、 气体分布 板与气体分布板之间可以按照冷却需求安装多层冷却管道。 0017 冷却液管道层数为 1-4 层， 相邻层冷却液管道交错分布。 0018 本发明中冷却管道可以直接安装在喷淋头两结构板之间， 作为一种优选方案， 还 可以将冷却管道与结构板使用真空熔焊。
19、或真空扩散焊接等方法焊接在一起， 以提升冷却液 管道的冷却效果。 0019 本发明中各结构板可采用螺栓连接在一起， 也可以采用真空扩散焊接、 真空熔焊 等方式焊接在一起。 0020 根据本发明的一种实施例， 所述气体喷淋头由 5 层结构板组成， 分别为气体连接 板、 气体喷射板及第一、 第二、 第三气体分布板， 各结构板按顺序堆叠在一起， 并使用扩散焊 接、 真空熔焊等焊接方式连接在一起。在气体喷射板与第三气体分布板之间及第一与第二 气体分布板之间安装有冷却液管道。 0021 所述喷淋头中各结构板连接在一起后形成了各自独立的第一前体气体通道、 第二 前体气体通道及载气通道， 各通道分别与反应室。
20、腔室联通。 0022 所述气体喷射板的下表面与反应腔室中的晶片相对， 其上表面分布有安装冷却液 通道的凹槽， 凹槽的横截面为半圆形， 凹槽与气体喷口以平行的方式分布， 相连通的直线凹 槽之间以相切的半圆形凹槽连接。 0023 所述第一气体分布板上分布有构成第一前体气体、 第二前体气体通道的狭缝， 第 一气体分布板中间分布有载气气体通道， 另外第一气体分布板上还分布有冷却液管道出口 圆孔， 在其下表面还分布有与气体喷射板相对应的、 安装冷却液管道的凹槽。 并且在第一气 体分布板上表面也分布有安装冷却液管道的凹槽， 第一气体分布板上、 下表面上分布的冷 却液管道凹槽间隔、 交错分布。 0024 所。
21、述第二气体分布板与第三气体分布板结构类似， 但第二气体分布板只有下表面 分布有安装冷却液管道的凹槽， 凹槽的分布形式与第三气体分布板上表面安装冷却液管道 凹槽的分布形式相对应。 0025 第三气体分布板上分布有形成第一前体气体通道的狭缝及冷却液管道出口圆孔， 在第三气体分布板下表面还分布有第二前体气体扩散通道及第二前体气体进口。 0026 气体连接板下表面分布有第一前体气体扩散空腔， 在其上表面分布有第一前体气 体、 第二前体气体、 载气接口及温度、 晶片翘曲度测量探头安装窗口。 0027 第一前体气体由气体连接板进入喷淋头， 在气体连接板下表面与第三气体分布板 上表面形成的第一前体气体扩散腔。
22、内扩散， 均匀分布到各第一前体气体狭缝式喷嘴中， 再 由喷嘴喷射进入反应室。 0028 第二前体气体由气体连接板进入喷淋头， 然后再第三气体分布板下表面与第二气 体分布板上表面形成的扩散通道中均匀分布道各第二前体气体狭缝式喷嘴中， 再由喷嘴喷 射进入反应室。 说 明 书 CN 103334092 A 5 4/6 页 6 0029 载气由连接板上表面上探头安装窗口引入， 再经过各结构板中部的载气气体通道 进入反应室， 该载气的主要作用有两点 ： 1. 促进反应室内部形成稳定流场 ； 2. 保持温度、 翘 曲度测量探头测量通道的清洁。 0030 冷却液由伸出连接板上方的冷却液管道接入到安装在喷淋头。
23、中的冷却液管道中， 在经过冷却循环后再由冷却液管道接口流出， 配合冷却液温度控制设备可以形成稳定的冷 却循环。 0031 与现有技术相比， 本发明的有益效果是 ： 本发明采用折弯形成的冷却液管道替代 原有的、 通过各结构板凹槽形成冷却液通道的方式降低了整个喷淋头的制造难度， 并且提 高了冷却液通道的密封可靠性。通过采用安装多层冷却液管道的方式， 本发明还可以进一 步提高喷淋头的冷却效果。 0032 本发明中喷淋头各结构板可以再铣床上方便的加工出来， 加工工艺性良好。各结 构板与冷却管道组装后， 可以使用螺栓连接或者扩散焊接的方法对结构板进行连接， 由于 对各结构板之间的密封要求很低， 因此对扩。
24、散焊接或螺栓连接的要求也可以降低， 从而提 升了整个喷淋头的工艺性。 采用本发明的喷淋头由于加工难度降低必将减少喷淋头加工过 程中的废品率， 显著降低喷淋头的加工制造成本， 并且提升喷淋头的使用可靠性。 0033 由于本发明采用了整体管道作为冷却液通道， 因此喷淋头内部基本上不存在冷却 液泄露的可能性， 从而降低了设备的故障概率， 提升了设备使用率， 带来良好的经济效益。 0034 以下结合附图和实施例对本发明作进一步阐述。 附图说明 0035 图 1 是使用本发明一种实施例的反应器结构示意图 ； 图 2 为本发明一种实施例的爆炸视图示意图 ； 图 3 为本发明一种实施例连接板的结构示意图 ；。
25、 图 4 为本发明一种实施例的结构示意图 ； 图 5 为本发明一种实施例气体连接板部分结构示意图 ； 图 6 为本发明一种实施例第三气体分布板的结构示意图 ； 图 7 为本发明一种实施例第二气体分布板的结构示意图 ； 图 8 为本发明另一种实施例冷却液管道分区示意图。 具体实施方式 0036 图 1 所示为使用本发明一种实施例的 MOCVD 反应器 100 示意图。该反应器顶端为 气体接入端 202、 203、 206， 冷却液进出口 201、 207， 温度、 晶片翘曲度测量仪 204 及温度、 晶 片翘曲度测量仪安装窗口205。 气体接口202为第二前体气体供应管道， 第二前体气体为含 有。
26、族元素的气体如氨气 ； 气体接口 206 为第一前体气体接口， 第一前体气体为含有族 元素有机物如三甲基镓的气体 ； 气体接口 203 连接载气供应管道， 载气为不与前体气体反 应的气体， 如氮气、 氢气等 ； 冷却液进出口 201、 207 连接冷却系统， 为整个喷淋头提供冷却、 控温。 反应器100的下方为反应尾气出口107， 用于排出反应腔室103内部的废气及控制反 应腔室内部压强。反应腔室由反应室内壁 106、 晶片承载装置 104、 喷淋头 200 围成。其中 说 明 书 CN 103334092 A 6 5/6 页 7 喷淋头 200 为本发明的一个实施例， 喷淋头 200 下方、。
27、 晶片承载装置 104 上装载有进行沉积 的晶片 102。晶片承载装置下方安装有加热装置 105 为晶片 102 加热， 以使晶片 102 处于反 应所需要的温度下， 并在晶片 102 表面形成均匀热场。 0037 图 2 所示为本发明喷淋头 200 一种实施例的爆炸示意图。如图 2 所示， 气体喷淋 头由5层结构板加四路冷却液通道组成， 分别为气体喷射板210， 第一前体气体分布板212， 第二气体分布板 214， 第三气体分布板 215， 气体连接板 216， 其中冷却液管道 211、 218 分布 在气体喷射板 210 与第一气体分布板 212 之间， 冷却液管道 213、 217 分布。
28、在第一气体分布 板与第二气体分布板之间。各结构板及冷却液管道可以使用真空扩散焊接、 真空熔焊等焊 接方式在加热、 加压条件下焊接在一起， 形成喷淋头整体， 另外各结构件也可以使用可拆卸 的方式连接在一起， 如螺栓连接。 0038 如前所述， 气体连接板 216 上表面上分布有气体入口 202、 203、 206， 冷却液进口 211a、 213a、 217a、 218a， 冷却液出口 211b、 213b、 217b、 218b， 温度、 晶片翘曲度测量仪 204 及 温度、 晶片翘曲度测量仪安装窗口 205。为使前体气体尽可能的均匀分布到各喷嘴中， 每种 前体气体入口都使用两个或两个以上的接。
29、口接入到反应室中。结合图 2 与图 3 可见气体连 接板下表面还分布有形成第二前体气体预分布腔室 308 的半圆形凹槽 308a。气体连接板 216 上的探头安装窗口 205 内部的狭缝 305e 的一个侧壁上还分布有喷气口 203b， 该喷气口 203b 通过分布在狭缝 305e 的长度上的圆孔 305a 与 203 联通。载气通过 203a 均匀分布到 喷气口 203b 中， 从而使进入到狭缝 305e 内的载气在狭缝 305e 内部沿长度方向均匀分布。 另外根据需要还可以调整喷气口 203b 的喷气方向， 比如将该喷嘴方向调成斜向上， 使载气 喷向探头方向， 具体如图 4 所示。 003。
30、9 所述气体连接板 216 上分布有冷却液进口与冷却液出口， 优选的冷却液进口、 冷 却液出口各自成对分布， 且进口、 出口成轴对称分布。 0040 所述气体连接板 216 上分布有气体接口 202、 203、 206， 优选地同类气体的接口以 对称的方式分布。 0041 第三气体分布板 215 位于气体连接板 216 下方， 其上表面与气体连接板下表面贴 合。结合图 2、 图 4 与图 6 可见第三气体分布板上分布有第二前体气体通道 303d、 第一前体 气体进口通道 304、 冷却液管道安装通孔 306b。第三气体分布板下方还分布有第一前体气 体扩散通道， 该扩散通道包括进口 206a、 。
31、环形通道 206b 及扩散通道 307d， 扩散通道的具体 分布形状如图 6 所示。另外第三气体分布板上还分布有观察窗通道 305d， 此通道同时也是 载气通道。 0042 所述第三气体分布板215上分布有气体扩散通道307d， 优选的气体扩散通道307d 的宽度 w 与每条扩散通道所对应的喷嘴面积成比例。 0043 所述第三气体分布板上分布有第二前体气体通道 303d、 第一前体气体扩散通道 307d， 优选的第二前体气体通道 303d 与第一前体气体扩散通道 307d 间隔、 交替分布。 0044 第二气体分布板 214 位于第三气体分布板 215 下方， 其上表面与第三气体分布板 相贴合。
32、。结合图 2、 图 7 可见第二气体分布板上分布有第一前体气体通道 303c、 第二前体气 体通道 307c、 观察窗通道 （即载气气体通道） 305c、 冷却液管道安装通孔 306c。第二气体分 布板下表面还分布有安装冷却液管道的凹槽， 凹槽横截面为半圆形， 凹槽 302b 的分布形状 如图 8 所示。 说 明 书 CN 103334092 A 7 6/6 页 8 0045 第二气体分布板上分布有凹槽 302b， 优选的凹槽 302b 的横截面形状为半圆形或 半椭圆形。 0046 第一气体分布板 212 位于第二气体分布板 214 下方， 其上表面与第二气体分布板 相贴合。结合图 2、 图 。
33、4 可见第一气体分布板与第二气体分布板结构相似， 不同之处在于第 一气体分布板上、 下表面都分布有安装冷却液管道的凹槽， 其上表面安装冷却液管道的凹 槽 302a 与第二气体分布板下表面分布的凹槽 302b 相对应， 下表面分布的凹槽 301b 与气体 喷射板上表面分布的凹槽 301a 相对应。 0047 气体喷射板 210 位于第一气体分布板 212 下方， 其上表面与第一气体分布板的上 表面相贴合， 下表面与反应室中晶片 102 相对。结合图 2、 图 4 可见气体喷射板上分布有第 二前体气体通道 303a、 第一前体气体通道 307a、 观察窗通道 305a。气体喷射板 210 上表面 。
34、还分布有冷却液管道安装凹槽 301a， 其形状与 301b 相对应。 0048 气体喷射板 210 上分布有气体通道 303a、 307a， 优选的气体通道形状可以为长条 形狭缝、 小圆孔或其他几何形状。 0049 气体喷射板 210 上分布有气体通道 303a、 307a， 优选的气体通道与晶片表面可以 成不同角度， 如 60。 0050 冷却液管道 211、 213、 217、 218 按叠放顺序安装在相应的结构板之间， 优选的冷却 液管道横截面为圆形或椭圆形。 0051 优选的冷却液管道采用单根管道折弯或多跟管道拼焊制成。 0052 第一前体气体通过接口 206 进入喷淋头， 然后经过 。
35、206a、 206b 到达第一前体气 体扩散通道 307a， 经过气体扩散通道的分配后第一前体气体进入由气体通道 307b、 307c、 307d 组成的喷嘴喷射进入反应室中。第二前体气体通过接口 202 进入喷淋头， 在第二前体 气体预分布腔308中均匀分布后进入由气体通道303a、 303b、 303c、 303d组成的喷嘴喷射进 入反应室中。冷却液由冷却液接口 211a、 213a、 217a、 218a 接入冷却液管道中， 在喷淋头中 循环后再由相应的冷却液出口离开喷淋头。 0053 图 8 所示为本发明另一种实施例管道分区示意图， 冷却液管道采用圆环形分区的 分布形式 ； 将喷淋头冷。
36、却区域分为了内 A、 中 B、 外 C 三个区域， 这种分区方式使喷淋头与 同为圆环形分区的加热装置能够更好的配合， 为在反应室内部形成均匀温度场提供有利条 件。 0054 按照专利法律规定的要求， 本发明用实施例详细的描述了所发明的具体结构及其 处理方法的特征。然而， 应当理解， 所述实例只是为了更好的表述本发明的结构及特征， 本 发明并不限于本文中所显示及描述的特性。 因此， 本发明此处声明， 对本发明的实施的各种 形式的均等改变或变形均被包括于所附的权利要求书的保护范围内。 说 明 书 CN 103334092 A 8 1/5 页 9 图 1 说 明 书 附 图 CN 103334092 A 9 2/5 页 10 图 2 说 明 书 附 图 CN 103334092 A 10 3/5 页 11 图 3 图 4 说 明 书 附 图 CN 103334092 A 11 4/5 页 12 图 5 图 6 说 明 书 附 图 CN 103334092 A 12 5/5 页 13 图 7 图 8 说 明 书 附 图 CN 103334092 A 13 。