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1、(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201410485184.5 (22)申请日 2014.09.22 B24C 5/00(2006.01) (71)申请人 裕克施乐塑料制品 （太仓） 有限公司 地址 215400 江苏省苏州市太仓经济开发区 广州东路 9 号 (72)发明人 张为刘 黄建昌 (74)专利代理机构 江苏圣典律师事务所 32237 代理人 贺翔 (54) 发明名称 一种用于表面处理的投射装置 (57) 摘要 本发明公开了一种用于表面处理的投射装 置， 包括 ： 驱动装置、 转子、 约束皮带及数个惰轮， 所述转子在驱动装置的驱动下作旋转运动， 所述 约束皮带套设。
2、于转子及数个惰轮上， 所述转子包 括转子盖板、 转子主体及转子支撑盘， 所述转子主 体内设有环形槽， 所述转子主体的周壁设有数个 抛射通道， 所述约束皮带和转子分离处的切线方 向为抛射方向， 所述抛射通道具有中心点及中心 线， 所述抛射通道的中心线与过中心点的半径线 之间的夹角为 10 30。本发明通过转子旋转 产生离心力， 从而将环形槽内的弹性颗粒通过抛 射通道沿抛射方向抛射于产品表面上， 从而实现 对产品的表面处理， 这不仅大大提高了处理效率， 同时可实现产品局部表面处理， 尤其适用于具有 复杂曲面的产品。 (51)Int.Cl. (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请。
3、 权利要求书1页 说明书3页 附图2页 (10)申请公布号 CN 104440588 A (43)申请公布日 2015.03.25 CN 104440588 A 1/1 页 2 1.一种用于表面处理的投射装置， 其特征在于， 包括 ： 驱动装置、 转子、 约束皮带及数 个惰轮， 所述转子在驱动装置的驱动下作旋转运动， 所述约束皮带套设于转子及数个惰轮 上， 所述转子包括转子盖板、 转子主体及转子支撑盘， 所述转子主体内设有环形槽， 所述转 子主体的周壁设有数个抛射通道， 所述约束皮带和转子分离处的切线方向为抛射方向， 所 述抛射通道具有中心点及中心线， 所述抛射通道的中心线与过中心点的半径线之。
4、间的夹角 为 10 30。 2.如权利要求 1 所述的一种用于表面处理的投射装置， 其特征在于 ： 所述转子主体及 转子盖板均由高性能工程塑料制成， 所述转子支撑盘由金属材质制成。 3.如权利要求 1 所述的一种用于表面处理的投射装置， 其特征在于 ： 所述惰轮包括第 一惰轮、 第二惰轮、 第三惰轮及第四惰轮， 所述第一惰轮、 第二惰轮及第三惰轮均用于张紧 约束皮带， 所述第四惰轮用于调制抛射方向。 4.如权利要求 1 所述的一种用于表面处理的投射装置， 其特征在于 ： 所述约束皮带呈 “凹” 型设置， 所述约束皮带为高速平带或复合平带。 5.如权利要求 1 所述的一种用于表面处理的投射装置，。
5、 其特征在于 ： 所述投射装置用 于投射弹性颗粒， 所述弹性颗粒包括由弹性耐磨材料制成的颗粒及均匀地镶嵌在颗粒表面 的研磨粉末。 6.如权利要求 5 所述的一种用于表面处理的投射装置， 其特征在于 ： 所述弹性耐磨材 料为橡胶。 7.如权利要求 5 所述的一种用于表面处理的投射装置， 其特征在于 ： 所述研磨粉末为 金刚石、 碳化硅或氮化硼。 8.如权利要求 1 所述的一种用于表面处理的投射装置， 其特征在于 ： 所述驱动装置为 马达。 权 利 要 求 书 CN 104440588 A 2 1/3 页 3 一种用于表面处理的投射装置 技术领域 0001 本发明涉及加工领域， 尤其涉及一种用于表。
6、面处理的投射装置。 背景技术 0002 抛光具有复杂曲面的工业陶瓷、 硬质合金等耐磨产品， 目前通常是将产品和磨料 一起放入震动研磨机里进行震动从而实现对产品的抛光。 这种抛光方式无法区分抛光面和 非抛光面， 对这些表面都进行了抛光， 而且无法准确控制抛光量。 该种抛光从原理上就是无 序的进行， 所以抛光效率极低， 周期超长。 0003 因此， 有必要提供一种解决上述技术问题的投射装置。 发明内容 0004 本发明所要解决的技术问题是 ： 提供一种可高效地将固体颗粒投射到产品上从而 对产品进行表面处理的投射装置。 0005 为实现上述目的， 本发明采用的技术方案是 ： 一种用于表面处理的投射装。
7、置， 包 括 ： 驱动装置、 转子、 约束皮带及数个惰轮， 所述转子在驱动装置的驱动下作旋转运动， 所述 约束皮带套设于转子及数个惰轮上， 所述转子包括转子盖板、 转子主体及转子支撑盘， 所述 转子主体内设有环形槽， 所述转子主体的周壁设有数个抛射通道， 所述约束皮带和转子分 离处的切线方向为抛射方向， 所述抛射通道具有中心点及中心线， 所述抛射通道的中心线 与过中心点的半径线之间的夹角为 10 30。 0006 优选地， 在上述用于表面处理的投射装置中， 所述转子主体及转子盖板均由高性 能工程塑料制成， 所述转子支撑盘由金属材质制成。 0007 优选地， 在上述用于表面处理的投射装置中， 所。
8、述惰轮包括第一惰轮、 第二惰轮、 第三惰轮及第四惰轮， 所述第一惰轮、 第二惰轮及第三惰轮均用于张紧约束皮带， 所述第四 惰轮用于调制抛射方向。 0008 优选地， 在上述用于表面处理的投射装置中， 所述约束皮带呈 “凹” 型设置， 所述约 束皮带为高速平带或复合平带。 0009 优选地， 在上述用于表面处理的投射装置中， 所述投射装置用于投射弹性颗粒， 所 述弹性颗粒包括由弹性耐磨材料制成的颗粒及均匀地镶嵌在颗粒表面的研磨粉末。 0010 优选地， 在上述用于表面处理的投射装置中， 所述弹性耐磨材料为橡胶。 0011 优选地， 在上述用于表面处理的投射装置中， 所述研磨粉末为金刚石、 碳化硅。
9、或氮 化硼。 0012 优选地， 在上述用于表面处理的投射装置中， 所述驱动装置为马达。 0013 本发明有益效果为 ： 本发明通过转子旋转产生离心力， 从而将环形槽内的弹性 颗粒通过抛射通道沿抛射方向抛射于产品表面上， 从而实现对产品表面的抛光， 这不仅大 大提高了抛光效率， 同时可实现产品局部抛光， 尤其适用于具有复杂曲面的产品。 说 明 书 CN 104440588 A 3 2/3 页 4 附图说明 0014 为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案， 下面将对实施例或现 有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍， 显而易见地， 下面描述中的附图仅仅是本 申请中记载的一些实施例。
10、， 对于本领域普通技术人员来讲， 在不付出创造性劳动的前提下， 还可以根据这些附图获得其他的附图。 0015 图 1 为本发明中投射装置的结构示意图， 其中揭示了具有四个惰轮时的情形。 0016 图 2 为转子的结构示意图。 0017 图 3 为本发明中投射装置的结构示意图， 其中揭示了具有三个惰轮时的情形。 0018 图 1 至图 3 中 ： 1、 转子， 2、 约束皮带， 3、 13、 第一惰轮， 4、 转子盖板， 5、 转子主体， 6、 转子支撑盘， 7、 环形槽， 8、 抛射通道， 9、 14、 第二惰轮， 10、 15、 第三惰轮， 11、 第四惰轮， 12、 驱动装置 ； a、 中。
11、心点， b、 中心线 ,c、 抛射方向 ； 、 抛射通道的中心线与过中心点的半径线之间的夹角。 具体实施方式 0019 为使本发明的目的、 技术方案和优点更加清楚， 下面结合附图对本发明的具体实 施方式进行详细说明。这些优选实施方式的示例在附图中进行了例示。附图中所示和根据 附图描述的本发明的实施方式仅仅是示例性的， 并且本发明并不限于这些实施方式。 0020 在此， 还需要说明的是， 为了避免因不必要的细节而模糊了本发明， 在附图中仅仅 示出了与根据本发明的方案密切相关的结构和 / 或处理步骤， 而省略了与本发明关系不大 的其他细节。 0021 参图 1 所示， 一种用于抛光等表面处理的投射。
12、装置， 包括 ： 驱动装置 12、 转子 1、 约 束皮带 2 及数个惰轮， 所述投射装置用于投射弹性颗粒， 所述弹性颗粒包括由弹性耐磨材 料制成的颗粒及均匀地镶嵌在颗粒表面的研磨粉末。 所述弹性耐磨材料可以为橡胶等弹性 体材料。所述研磨粉末可以为金刚石、 碳化硅或氮化硼等研磨材料。所述转子 1 在驱动装 置的驱动下作旋转运动， 所述约束皮带 2 套设于转子 1 及数个惰轮上， 在本实施方式中， 所 述惰轮的数量优选为四个。所述惰轮包括第一惰轮 3、 第二惰轮 9、 第三惰轮 10 及第四惰 轮 11， 所述第一惰轮 3、 第二惰轮 9、 第三惰轮 10 用于张紧约束皮带， 所述第四惰轮 11。
13、 用于 调制抛射方向。参图 3 所示， 图 3 是本发明的另一种实施例， 在该实施例中， 惰轮的数量为 三个， 包括 ； 第一惰轮 13、 第二惰轮 14、 第三惰轮 15， 其中， 第一惰轮 13 与第二惰轮 14 用于 张紧约束皮带， 第三惰轮 15 用于调制抛射方向， 当然在其他实施方式中， 用于张紧约束皮 带的惰轮也可以只设一个， 在本实施方式中， 所述驱动装置优选为马达， 所述约束皮带 2 呈 “凹” 型设置， 所述约束皮带 2 为高速平带或者复合平带。所述转子 1 作顺时针转动， 参图 2 所示， 所述转子 1 包括转子盖板 4、 转子主体 5 及转子支撑盘 6， 所述转子主体 5。
14、 及转子盖板 4 由塑料材质制成， 所述转子支撑盘 6 由金属材质制成。所述转子主体 5 内设有环形槽 7， 所述转子主体 5 的周壁设有数个抛射通道 8， 所述转子盖板 4 的作用是封住正面抛射通道， 防止弹性颗粒从正面掉出 ； 所述转子支撑盘6的作用是用于安装和配平， 所述约束皮带2的 作用是约束弹性颗粒在未抛射前一直储存在转子抛射通道 8 内， 所述约束皮带 2 和转子 1 分离处的切线方向为抛射方向 c， 所述抛射通道 8 具有中心点 a 及中心线 b， 所述抛射通道 说 明 书 CN 104440588 A 4 3/3 页 5 的中心线 b 与过中心点 a 的半径线 c 之间的夹角 。
15、为 10 30。本发明中投射装置的 工作原理为 ： 在马达的驱动下， 转子1转速达到30-80m/s时， 弹性颗粒通过输料机构不断的 输送到转子 1 的环形槽 7 内， 当然， 不同的产品， 弹性颗粒所需速度也会不一样， 转子 1 的转 动赋予从环形槽7进入抛射通道8的弹性颗粒离心力， 在离心力的作用下， 弹性颗粒会沿着 转子的抛射通道8向外运动， 直到接触约束皮带2停止径向运动， 弹性颗粒被皮带约束在抛 射通道 8 内随着转子 1 一起转动， 当约束皮带 2 与转子 1 分离时， 弹性颗粒就会沿着约束皮 带2和转子1分离处的切线方向以特定速度抛射出去， 形成弹性颗粒粒子流， 作用于产品表 面。
16、， 用于产品表面处理。 0022 综上所述， 本发明通过转子旋转产生离心力， 从而将环形槽内的弹性颗粒通过抛 射通道沿抛射方向抛射于产品表面上， 从而实现对产品表面的抛光， 这不仅大大提高了抛 光效率， 同时可实现产品局部抛光， 尤其适用于具有复杂曲面的产品。 0023 最后， 还需要说明的是， 术语 “包括” 、“包含” 或者其任何其他变体意在涵盖非排他 性的包含， 从而使得包括一系列要素的过程、 方法、 物品或者设备不仅包括那些要素， 而且 还包括没有明确列出的其他要素， 或者是还包括为这种过程、 方法、 物品或者设备所固有的 要素。 说 明 书 CN 104440588 A 5 1/2 页 6 图 1 说 明 书 附 图 CN 104440588 A 6 2/2 页 7 图 2 图 3 说 明 书 附 图 CN 104440588 A 7 。