《带有双供给雾化器液体分布器的干法烟气脱硫系统.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《带有双供给雾化器液体分布器的干法烟气脱硫系统.pdf（13页珍藏版）》请在专利查询网上搜索。
1、(10)申请公布号 CN 102245280 A (43)申请公布日 2011.11.16 CN 102245280 A *CN102245280A* (21)申请号 200980149981.3 (22)申请日 2009.12.04 61/122,227 2008.12.12 US 12/629,916 2009.12.03 US B01D 53/50(2006.01) B05B 3/10(2006.01) B01D 53/79(2006.01) (71)申请人 阿尔斯托姆科技有限公司 地址 瑞士巴登 (72)发明人 TE皮尔森 (74)专利代理机构 上海浦一知识产权代理有限 公司 3121。
2、1 代理人 丁纪铁 (54) 发明名称 带有双供给雾化器液体分布器的干法烟气脱 硫系统 (57) 摘要 一种用于喷雾干燥吸收器 (130) 的雾化器系 统(160)， 该雾化器系统(160)包括支撑件(161)、 可旋转地耦接至支撑件(161)的雾化盘(162)、 用 于将浆化剂(163a)传送至传送区域(165)的第一 供给线(163)及用于将稀释液体(164a)传送至传 送区域 (165) 的第二供给线 (164)。该传送区域 (165)定位在雾化器系统(160)内， 以减少浆化剂 (163a) 与稀释液体 (164a) 反应所产生的结垢。 (30)优先权数据 (85)PCT申请进入国家阶。
3、段日 2011.06.13 (86)PCT申请的申请数据 PCT/US2009/066736 2009.12.04 (87)PCT申请的公布数据 WO2010/068563 EN 2010.06.17 (51)Int.Cl. (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 2 页 说明书 6 页 附图 4 页 CN 102245286 A1/2 页 2 该权利要求书涉及 ： 1. 一种用于喷雾干燥吸收器的雾化器系统， 所述雾化器系统包括 ： 支撑件 ； 可旋转地耦接至所述支撑件的雾化盘 ； 用于将浆化剂传送至传送区域的第一供给线 ； 及 用于将稀释液体传送至所述传送区域。
4、的第二供给线， 所述传送区域定位在所述雾化器 系统内， 以减少由所述浆化剂及所述稀释液体反应所产生的结垢。 2. 根据权利要求 1 所述的雾化器系统， 其中， 所述传送区域是定位在所述雾化盘上方 的静止的板。 3. 根据权利要求 1 所述的雾化器系统， 还包括 ： 在所述雾化盘上方处固定地耦接至所述支撑件的液体分配器， 所述液体分配器具有内 部室及至少一个开口， 所述传送区域设置在所述内部室之内， 其中， 所述开口自所述内部室 延伸至所述液体分配器的外部部分， 所述开口定位在靠近所述雾化盘处。 4. 根据权利要求 3 所述的雾化器系统， 其中， 所述至少一个开口包括所述液体分配器 中的第一开口。
5、及第二开口， 所述第一及所述第二开口均自所述内部室延伸至所述液体分配 器的所述外部部分， 所述第一开口及所述第二开口定位在靠近所述雾化盘处。 5. 根据权利要求 4 所述的雾化器系统， 其中， 所述第一开口与所述第二开口同中心定 位。 6. 根据权利要求 4 所述的雾化器系统， 其中， 所述液体分配器中的所述第一开口被定 位成与所述第一供给线相对， 而所述液体分配器中的所述第二开口被定位成与所述第二供 给线相对。 7. 根据权利要求 6 所述的雾化器系统， 其中， 所述浆化剂在所述液体分配器中的所述 内部室中与所述稀释液体接触， 在所述内部室之内形成水垢障碍物， 所述水垢障碍物在所 述液体分配。
6、器的所述内部室中隔离所述浆化剂与所述稀释液体的后续反应。 8. 根据权利要求 6 所述的雾化器系统， 还包括定位在所述液体分配器的所述内部室中 的人造障碍物， 所述人造障碍物在所述液体分配器的所述内部室中隔离所述浆化剂与所述 稀释液体的反应。 9. 根据权利要求 1 所述的雾化器系统， 还包括控制器及至少一个阀， 所述控制器构造 为控制所述浆化剂及所述稀释液体向所述传送区域的传送率。 10. 根据权利要求 1 所述的雾化器系统， 其中， 所述浆化剂包括氢氧化钙。 11. 一种用于减少雾化器系统中结垢的方法， 所述方法包括步骤 ： 将雾化器系统提供至烟气处理系统， 所述雾化器系统具有支撑件、 传。
7、送区域、 雾化盘、 第一供给线及第二供给线 ； 将浆化剂传送至所述雾化器系统， 所述浆化剂通过所述第一供给线传送至所述传送区 域 ； 将稀释液体传送至所述雾化器系统， 所述稀释液体通过所述第二供给线传送至所述传 送区域 ； 及 将所述传送区域定位在所述雾化器系统中， 以减少由所述浆化剂及所述稀释液体反应 所产生的结垢。 12. 根据权利要求 11 所述的方法， 其中， 所述浆化剂和所述稀释液体以不相等的传送 权 利 要 求 书 CN 102245280 A CN 102245286 A2/2 页 3 率传送至所述雾化器系统。 13. 根据权利要求 11 所述的方法， 其中， 所述浆化剂和所述稀。
8、释液体以相等的传送率 传送至所述雾化器系统。 14. 根据权利要求 11 所述的方法， 还包括 ： 在所述雾化盘上方处将液体分配器固定地耦接至所述雾化器系统， 所述液体分配器具 有内部室， 所述内部室带有至少一个开口， 所述开口自所述内部室延伸至所述液体分配器 的外部部分并且定位在所述雾化盘的邻近处。 15. 根据权利要求 14 所述的方法， 还包括 ： 向所述液体分配器的所述内部室提供所述第一供给线及所述第二供给线 ； 通过所述第一供给线将所述浆化剂传送至所述液体分配器的所述内部室 ； 及 通过所述第二供给线将所述稀释液体传送至所述液体分配器的所述内部室。 16. 根据权利要求 14 所述的。
9、方法， 还包括 ： 在所述液体分配器的所述内部室中将所述浆化剂和所述稀释液体混合， 以形成雾化液 体 ； 及 通过所述液体分配器中的所述至少一个开口将所述雾化液体传送至所述雾化盘。 17. 根据权利要求 14 所述的方法， 其中， 所述至少一个开口包括第一及第二开口， 所述 方法还包括 ： 在所述液体分配器的所述内部室中将所述浆化剂和所述稀释液体混合 ； 及 在所述内部室中形成水垢障碍物， 所述水垢障碍物在所述液体分配器的所述内部室中 隔离所述浆化剂与所述稀释液体的后续反应。 18. 根据权利要求 17 所述的方法， 其中， 所述液体分配器中的所述第一开口被定位成 与所述第一供给线相对， 而所。
10、述液体分配器中的所述第二开口被定位成与所述第二供给线 相对。 19. 根据权利要求 18 所述的方法， 还包括 ： 将所述浆化剂和所述稀释液体传送至所述液体分配器中的所述内部室， 其中， 所述浆 化剂和所述稀释液体被所述水垢障碍物分离地保存 ； 将所述浆化剂通过所述第一开口流至 所述雾化盘 ； 及 将所述稀释液体通过所述第二开口流至所述雾化盘。 20. 根据权利要求 19 所述的方法， 还包括 ： 在所述雾化盘中将所述浆化剂和所述稀释液体混合。 21. 根据权利要求 14 所述的方法， 其中， 所述至少一个开口包括第一及第二开口， 所述 方法还包括 ： 在所述液体分配器的所述内部室中定位人造障。
11、碍物， 所述人造障碍物在所述液体分配 器的所述内部室中隔离所述浆化剂与所述稀释液体的反应。 22. 根据权利要求 14 所述的方法， 其中， 所述至少一个开口包括第一及第二开口， 其 中， 所述第一开口与所述第二开口同中心定位。 权 利 要 求 书 CN 102245280 A CN 102245286 A1/6 页 4 带有双供给雾化器液体分布器的干法烟气脱硫系统 0001 相关申请的交叉引用 0002 本申请根据 2008 年 12 月 12 日提交的序列号为 61/122,227 的共同待决的美国临 时申请的 35 U.S.C.119(e) 而申请其优先权， 其内容以全文引用的方式结合在。
12、本文中。 技术领域 0003 本公开总体涉及双供给雾化器液体分布器， 且更特定地涉及用于处理烟气流的干 法烟气脱硫系统， 该干法烟气脱硫系统设有双供给雾化器液体分布器。 背景技术 0004 燃料， 特别是含碳材料如化石燃料及废料的燃烧导致烟气流产生， 烟气流含有杂 质， 如汞 (Hg)、 氧化硫 (SOx)、 氧化氮 (NOx)， 及微粒， 如飞灰， 在将烟气释放到环境中之前必 须将杂质和微粒去除或降低到更可接受的水平。 在许多管辖区中， 作为对现行规则的响应， 大量的工艺及设备已被开发， 以去除或降低烟气中杂质及微粒的水平。 0005 减少来自燃料燃烧驱动的蒸汽发生锅炉的烟气微粒、 Hg、 。
13、NOx、 及 SOx 杂质的典型 方法是使用烟气处理装置。 此装置包括静电沉淀器(ESP)、 布袋除尘器、 催化系统、 湿法烟气 脱硫系统及 / 或干法烟气脱硫系统 ( 分别称为 WFGD 及 DFGD)。 0006 在一些烟气流处理系统中， 通过使用 DFGD 系统可便于去除酸性成份， 如 SOx， 其中 浆化剂或溶液接触所述烟气流并与存在于其中的 SOx 反应。现有的 DFGD 系统使用具有吸 收浆化剂的雾化器系统的喷雾干燥吸收器， 典型地与稀释液体组合。 0007 将浆化剂或溶液与稀释液体组合传送至雾化器系统导致传送软管结垢。 结垢导致 设备或系统关闭以进行必要的清洁及维护。可以理解， 。
14、设备或系统的关闭以及系统及 / 或 设备相关的清洁及维护是耗时且耗资的。因此， 用于减少雾化器系统中的结垢的系统及工 艺导致较少的用于清洁及维护目的的设备或系统的关闭。 发明内容 0008 根据本文所说明的方面， 提供一种使用在喷雾干燥吸收器中的雾化器系统， 所述 雾化器系统包括 ： 支撑件 ； 可旋转地耦接至支撑件的雾化盘 ； 用于将浆化剂传送至传送区 域的第一供给线 ； 以及用于将稀释液体传送至传送区域的第二供给线 ； 传送区域定位在雾 化器中以减少浆化剂及稀释液体反应所产生的结垢。 0009 根据本文所说明的其他方面， 提供一种用于减少雾化器系统中结垢的方法， 所述 方法包括步骤 ： 将。
15、雾化器系统提供至烟气处理系统， 其中， 雾化器系统具有支撑件、 传送区 域、 雾化盘、 第一供给线、 及第二供给线 ； 将浆化剂传送至雾化器系统， 其中， 浆化剂通过第 一供给线传送至传送区域 ； 将稀释液体传送至雾化器系统， 其中， 稀释液体通过第二供给线 传送至传送区域 ； 及将传送区域定位在雾化器系统中， 以减少由浆化剂及稀释液体反应所 产生的结垢。 0010 下文将通过以下各图及详述举例说明上述及其他特征。 说 明 书 CN 102245280 A CN 102245286 A2/6 页 5 附图说明 0011 现参考各图， 这些图是示例性实施方案， 其中， 相似的元件以相似编号标记。。
16、 0012 图 1 是根据本文所述的实施方案的烟气流处理系统的示意图 ； 0013 图 2 是根据本文所述的实施方案的雾化器系统的截面结构图 ； 0014 图 3 是根据本文所述的实施方案的雾化器系统的截面结构图 ； 0015 图 4 是根据本文所述的实施方案的雾化器系统的截面结构图 ； 0016 图 4A 是图 4 所示出的雾化器系统的简化结构视图 ； 及 0017 图 5 是根据本文所述的实施方案的雾化器系统的截面结构图。 具体实施方式 0018 图 1 所示为烟气流处理系统 100， 包括燃烧燃料 112， 如煤， 以产生烟气流 114 的燃 烧室 110。烟气流 114 可含有污染物，。
17、 包括但不限于微粒、 氧化硫 (SOx)、 氧化氮 (NOx)、 汞、 二氧化碳 (CO2) 等。在通过烟囱 120 或其他通风设施释放至环境之前， 烟气流 114 典型地 经过处理以去除或减少存在于其中的污染物。 0019 在一个实施方案中， 如图 1 所示， 烟气流 114 行进至喷雾干燥吸收器 130。虽然图 1中未示出， 但可设想烟气流114在被引入喷雾干燥吸收器130之前行进通过一个或多个装 置， 如空气预热器。 0020 在喷雾干燥吸收器 130 中， 烟气流 114 与便于去除来自烟气流的诸如 SOx、 氯化氢 (HCl)、 氟化氢 (HF)、 及溴化氢 (HBr) 的酸性成份的。
18、试剂反应， 以产生含有水平降低的酸性 气体的烟气流 140。如图 1 所示， 含有水平降低的酸性气体的烟气流 140 在经烟囱 120 释放 至环境之前被提供至微粒去除器 150。微粒去除器 150 可以是布袋、 静电沉淀器 (ESP)、 机 械除尘器等。烟气流处理系统 100 不受本实施方案所述工艺的限制， 因为可设想含有水平 降低的酸性气体的烟气流140可经过包括但不限于NOx去除装置、 冷却塔、 空气预热器等其 他烟气流处理装置。 0021 从烟气流 114 中去除酸性成份经常进行以保持满足排放法规。在一个实施方案 中， 存在于烟气流 114 中的酸性成份通过将烟气流提供至喷雾干燥吸收器。
19、 130， 而被去除， 在喷雾干燥吸收器 130 中烟气流与雾化器系统 160 产生的所雾化的试剂 132 接触。所雾化 的试剂便于吸收存在于烟气流 114 中的酸性成份。 0022 如图 2-5 所示， 雾化器系统 160 包括可旋转地耦接至支撑件 161 的雾化盘 162。在 一个实施例中， 支撑件 161 包括包含在静止外壳 161b 中的旋转轴 161a， 雾化盘 162 耦接至 旋转轴。雾化器系统 160 是包括第一供给线 163 及第二供给线 164 的双供给系统。 0023 第一供给线 163 将浆化剂或溶液 163a( 下文称为浆化剂 ) 传送至雾化器系统 160 内的传送区域。
20、165。 浆化剂163a可含有液体， 如水， 及任何便于从烟气流114吸收及去除酸 性成份的试剂。在一个实施例中， 浆化剂 163a 可含有石灰 ( 氢氧化钙 ) 作为试剂。在另一 实施例中， 浆化剂 163a 可含有活性炭作为试剂。在又一实施例中， 浆化剂 163a 可含有石灰 和活性炭的组合物作为试剂。 0024 第二供给线 164 将稀释液体 164a 传送至雾化器系统 160 内的传送区域 165。在一 个实施方案中， 稀释液体 164a 是水。在另一实施方案中， 稀释液体 164a 是来自烟气流处理 说 明 书 CN 102245280 A CN 102245286 A3/6 页 6。
21、 系统 100 内的冷却塔 ( 未示出 ) 的未经处理的水。在又一实施方案中， 稀释液体 164a 可以 是经处理的淡水 ( 饮用水 ) 或来自冷却塔、 水井、 河流的未经处理的水， 或来自烟气流处理 系统 100 内或支撑烟气流处理系统 100 的处理工艺的其他废水。 0025 在一个实施方案中， 浆化剂 163a 和稀释液体 164a 以相等的传送率传送至雾化器 系统 160。浆化剂 163a 和稀释液体 164a 的传送率将根据不同系统而变化且可取决于用户 的需求， 使用雾化器系统 160 的应用， 以及雾化器系统的容量， 如尺寸及功率。 0026 在一个实施例中， 浆化剂 163a 和。
22、稀释液体 164a 以相等的传送率传送至雾化器系 统， 组合总传送率不超过 200 加仑每分钟 (gpm)。例如， 浆化剂 163a 以 100gpm 的传送率传 送， 而稀释液体 164a 以 100gpm 的传送率传送， 总传送率为 200gpm。传送率并不限于此， 因 为可以设想以等于或小于约 200gpm 的任意组合传送浆化剂 163a 和稀释液体 164a， 如浆化 剂的传送率为 10gpm， 而稀释液体的传送率为 10gpm ； 浆化剂的传送率为 50gpm， 而稀释液体 的传送率为 50gpm。 0027 在另一实施方案中， 浆化剂 163a 和稀释液体 164a 以不相等的传送。
23、率传送至雾化 器系统 160。浆化剂 163a 和稀释液体 164a 的传送率根据不同系统而变化且可取决于用户 的需求、 使用雾化器系统 160 的应用， 以及雾化器的容量， 如尺寸及功率。 0028 在一个实施例中， 浆化剂 163a 和稀释液体 164a 以不相等的传送率传送至雾化器 系统 160， 具有不超过约 200 加仑每分钟 (gpm) 的组合总传送率。例如， 浆化剂 163a 以约 50gpm 的传送率传送， 而稀释液体 164a 以约 150gpm 的传送率传送， 总传送率约为 200gpm。 传送率并不限于此， 因为可以考虑以等于或小于约 200gpm 的任意组合传送浆化剂 。
24、163a 和 稀释液体 164a， 如浆化剂的传送率约为 10gpm， 而稀释液体的传送率约为 25gpm ； 浆化剂的 传送率约为 50gpm， 而稀释液体的传送率约为 60gpm ； 浆化剂的传送率约为 18gpm， 而稀释液 体的传送率约为28gpm ； 浆化剂的传送率约为22gpm， 而稀释液体的传送率约为19gpm ； 浆化 剂的传送率约为 19gpm， 而稀释液体的传送率约为 25gpm ； 浆化剂的传送率约为 17gpm， 而稀 释液体的传送率约为 24gpm。 0029 浆化剂 163a 和稀释液体 164a 的传送率可由如图 2 所示的控制器 200 进行控制， 控制器 20。
25、0 与一个或多个阀 210 连接。控制器 200 可预先编程以控制浆化剂 163a 和稀释 液体 164a 的传送率。或者， 操作员命令 220 可通过向控制器 200 提供指令进行改变或设定 传送率。例如， 控制器 200 可选择性地关闭或打开一个或两个阀 210， 以允许更多或更少的 浆化剂 163a 和 / 或稀释液体 164a 传送至雾化器系统 160。尽管只在图 2 中示出， 但可以设 想使控制器 200、 阀 210 及操作员命令 220 可用在本文所提出的任意或全部实施方案中。 0030 传送区域165定位在雾化器系统160内， 以减少由浆化剂163a和稀释液体164a反 应所产。
26、生的结垢。将传送区域 165 靠近雾化盘 162 定位， 以减少形成在雾化器系统 160 中 的积垢的形成。 0031 如通常所知， 当浆化剂 163a 和稀释液体 164a 反应时， 积垢会形成。积垢的形成堵 塞雾化器系统160， 并使雾化器系统周期性关闭以进行维护和清洁成为必需。 已经发现当浆 化剂 163a 和稀释液体 164a 在雾化器系统 160 中尽可能长时间地分离保存时， 积垢的形成 会减少。 0032 分离浆化剂163a和稀释液体164a的一个方法是独立地控制浆化剂和稀释液体向 靠近雾化盘 162 定位的传送区域 165 的传送， 雾化盘 162 随后雾化浆化剂和稀释液体以形 。
27、说 明 书 CN 102245280 A CN 102245286 A4/6 页 7 成所雾化的试剂 132。 0033 在一个特定的实施例中， 如图 2 所示， 传送区域 165 是定位在雾化盘 162 表面的上 方及附近位置处的静止装置。传送区域 165 可以是具有槽、 沟道或多个孔的静止板， 传送区 域 165 靠近雾化盘 162 的表面。在此实施方案中， 浆化剂 163a 和稀释液体 164a 分别通过 第一供给线 163 及第二供给线 164 分离地传送至传送区域 165。被传送至传送区域 165 后， 浆化剂 163a 和稀释液体 164a 发生反应并作为雾化液体 170 分配到雾。
28、化盘 162， 雾化液体 170 在雾化盘 162 雾化以形成所雾化的试剂 132。 0034 在另外一实施例中， 如图 3 所示， 传送区域 165 是雾化器系统 160 的液体分配器 167 的内部室 166。液体分配器 167 在雾化盘 162 上方并靠近雾化盘 162 的位置处耦接至 支撑件 161。在一个实施方案中， 液体分配器 167 固定地耦接至静止外壳 161b。雾化器系 统 160 并不限于所述的特定装置， 因为可设想液体分配器 167 可旋转地耦接至支撑件 161。 0035 如图3所示， 第一供给线163将浆化剂163a传送至液体分配器167的内部室166。 稀释液体 1。
29、64a 通过第二供给线 164 分离地且独立地传送至液体分配器 167 的内部室 166。 浆化剂 163a 和稀释液体 164a 在分配至雾化盘 162 用于雾化之前在液体分配器 167 的内部 室 166 内发生反应。 0036 在一个实施方案中， 液体分配器 167 具有开口 168。开口 168 自液体分配器 167 的 内部室 166 延伸至液体分配器的外部部分 169。开口 168 定位在靠近雾化盘 162 的位置处。 尽管图 3 所示开口 168 定位在支撑件 161 的右侧， 但雾化器系统 160 并不限于此， 因为可以 设想开口 168 可定位在靠近雾化盘 162 的液体分配。
30、器的外部部分 169 上的任意点处。 0037 在图 3 中， 浆化剂 163a 和稀释液体 164a 被提供至液体分配器 167 的内部室 166， 它们在此接触并反应以形成雾化液体 170。雾化液体 170 通过流动通过开口 168 而离开液 体分配器 167 的内部室 166 到达雾化盘 162。雾化液体 170 被雾化盘 162 雾化以形成所雾 化的试剂 132。 0038 在另一实施方案中， 如图 4 所示， 液体分配器 167 具有第一开口 168 及第二开口 168 。第一及第二开口 168、 168 均从内部室 166 延伸至液体分配器 167 的外部部分 169。 如图 4 。
31、所示， 第一开口被定位成与第一供给线 163 相对， 而第二开口 168 被定位成与第二 供给线 164 相对。第一及第二开口 168、 168 均定位为靠近雾化盘 162。 0039 图 4A 描绘了图 4 的简化结构视图。如图 4A 中所详示， 液体分配器 167 的内部室 166 可包括障碍物 172， 障碍物 172 定位在第一开口 168 和第二开口 168 之间。障碍物 172 隔离被传送至液体分配器的内部室 166 的浆化剂 163a 和稀释液体 164a 之间的反应。 0040 在一个实施例中， 障碍物 172 可以是液体分配器 167 的内部室 166 中浆化剂 163a 和。
32、稀释液体 164a 反应所形成的水垢障碍物。水垢障碍物 172 将浆化剂 163a 与稀释液体 164a 隔离， 以使大部分雾化液体形成在液体分配器 167 的外部部分 169 之外。尽管图 4 及 4A 中只示出了两个开口 168、 168 ， 但液体分配器不限于此， 因为可以设想存在多于两个的 开口。 0041 浆化剂 163a 和稀释液体 164a 的供给率的控制导致水垢障碍物 172 的形成。供给 率的控制允许水垢障碍物 172 形成在液体分配器 167 的内部室 166 中， 而不会形成大量的 积垢， 积垢的形成使雾化器系统 160 或烟气流处理系统 100 必须关闭。 0042 当。
33、水垢障碍物 172 在液体分配器 167 的内部室 166 中形成后， 被传送至液体分配 说 明 书 CN 102245280 A CN 102245286 A5/6 页 8 器 167 的内部室 166 中的浆化剂 163a 通过第一开口 168 离开并流至雾化盘 162， 且不与稀 释液体 164a 发生反应。类似地， 被传送至液体分配器 167 的内部室 166 中的稀释液体 164a 通过第二开口 168 离开并流至雾化盘 162， 且不与浆化剂 163a 发生反应。浆化剂 163a 与 稀释液体 164a 在雾化盘 162 发生反应形成雾化液体 170， 雾化液体 170 被雾化以形。
34、成所雾 化的试剂 132。 0043 在另一实施方案中， 障碍物 172 是在雾化器系统 160 建立或翻新时置于液体分配 器 167 的内部室 166 中的人造障碍物。人造障碍物与水垢障碍物以相同的方式起作用， 将 浆化剂 163a 与稀释液体 164a 隔离， 并且允许浆化剂进入液体分配器 167 的内部室 166 并 通过第一开口 168 离开， 以及允许稀释液体进入内部室并通过第二开口 168 离开。 0044 如图 5 所示， 在另一实施方案中， 第一开口 168 和第二开口 168 彼此同中心地定 位。将第一开口 168 和第二开口 168 以同中心的方式定位， 允许浆化剂 163。
35、a 与稀释液体 164a 分离地传送至雾化盘 162， 浆化剂 163a 与稀释液体 164a 在雾化盘 162 处被雾化以形 成所雾化的试剂 132。 0045 第一开口 168 和第二开口 168 的定位允许雾化器系统 160 无干扰运行， 即使浆化 剂 163a 与稀释液体 164a 的传送率不相等。例如， 第一开口 168 和第二开口 168 的定位允 许雾化盘 162 旋转时只有很小或没有不平衡， 即振动。 0046 将稀释液体 164a 和浆化剂 163a 分离地传送至雾化器系统 160 减小了关闭雾化器 系统以进行维护和清洁的需求， 因此便于雾化器系统和烟气流处理系统 100 的。
36、持续运行。 此外， 对稀释液体 164a 和浆化剂 163a 传送率的控制允许雾化器系统 160 运行时只有很小 或没有干扰， 如雾化盘 162 的振动。 0047 下述实施例说明了根据本文公开的雾化器系统的一个实施方案， 该雾化器系统用 在烟气流处理系统中。 0048 实施例 1 0049 为分析根据本文所公开的实施方案的雾化器系统， 雾化器系统被装配至喷雾干燥 吸收器， 所述雾化器系统具有液体分配器， 所述液体分配器具有与其耦接的两条供给线。 第 一供给线传送含有氢氧化钙及水的浆化剂， 而第二供给线传送含有来自烟气处理系统中的 冷却塔的废水的稀释液体。液体分配器具有至少两个开口， 一个开口。
37、定位成与第一供给线 相对， 并且第二开口定位成与第二供给线相对。 0050 浆化剂和稀释液体被传送至液体分配器并发生反应， 以在液体分配器中形成水垢 障碍物， 以使任何后续进入液体分配器的浆化剂和稀释液体被彼此分离地保存。浆化剂通 过与第一供给线相对的开口离开液体分配器， 而稀释液体通过与第二供给线相对的开口离 开液体分配器。离开液体分配器后， 浆化剂和稀释液体发生反应并被雾化盘雾化以形成所 雾化的试剂。 0051 安排了六个独立的试验以确定运行干扰是否发生及确定雾化器系统的清洁与维 护之间的时间周期是否可延长。 0052 在六个试验的每一个试验中， 浆化剂和稀释液体的传送率都是不相等的。在第。
38、一 试验中， 浆化剂的传送率是 18.93 加仑每分钟 (gpm)， 而稀释液体的传送率是 28.17gpm。在 第二试验中， 浆化剂的传送率是 22.4gpm， 而稀释液体的传送率是 19gpm。在第三试验中， 浆 化剂的传送率是 19gpm， 而稀释液体的传送率是 25gpm。在第四试验中， 浆化剂的传送率是 说 明 书 CN 102245280 A CN 102245286 A6/6 页 9 17.85gpm， 而稀释液体的传送率是 24.67gpm。在第五试验中， 浆化剂的传送率是 13.17gpm， 而稀释液体的传送率是 22.39gpm。在第六试验中， 浆化剂的传送率是 12.21。
39、gpm， 而稀释液 体的传送率是 28.43gpm。这些试验在约六周的周期内进行。 0053 表 1 所示为雾化盘的不同供给率及其所导致的振动。雾化器系统在试验之间或第 六及最后的试验之后的清洁或维护不是必需的。图表 1 所示为阀的开度 ( 阀打开的百分 比 ) 与稀释液体及浆化剂的传送率之间的关系。 0054 表 1 0055 0056 0057 图 1 0058 0059 尽管参考不同的示例性实施方案描述了本发明， 但本领域的熟练者应意识到在不 背离本发明范围的前提下， 可做出各种改变并可用等同物代替本发明的元件。此外， 在不 背离本发明基本范围的前提下， 也可做出多种调整以使特定的环境和。
40、材料适应本发明的教 意。因此， 意在使本发明不限于预期用于实现本发明而作为最佳模式所公开的特定实施方 案， 而是本发明将包括落入所附权利要求范围内的所有实施方案。 说 明 书 CN 102245280 A CN 102245286 A1/4 页 10 图 1 图 2 说 明 书 附 图 CN 102245280 A CN 102245286 A2/4 页 11 图 3 图 4 说 明 书 附 图 CN 102245280 A CN 102245286 A3/4 页 12 图 4A 说 明 书 附 图 CN 102245280 A CN 102245286 A4/4 页 13 图 5 说 明 书 附 图 CN 102245280 A 。