基板清洗方法和基板清洗装置.pdf

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1、(10)申请公布号 CN 102388335 A (43)申请公布日 2012.03.21 CN 102388335 A *CN102388335A* (21)申请号 201080016330.X (22)申请日 2010.04.28 2009-115142 2009.05.12 JP G02F 1/13(2006.01) B08B 1/04(2006.01) B24B 7/12(2006.01) B24B 7/26(2006.01) G02F 1/1333(2006.01) (71)申请人 夏普株式会社 地址 日本大阪府 (72)发明人 冈岛俊祐 (74)专利代理机构 北京市隆安律师事务所 。

2、11323 代理人 权鲜枝 (54) 发明名称 基板清洗方法和基板清洗装置 (57) 摘要 提供能缩短基板表面的异物的除去作业的处 理时间并能抑制研磨不均的产生的基板清洗方 法。 基板清洗方法是通过研磨而清洗基板(10)的 基板清洗方法， 包含 ： 搬运第1基板(10)和第2基 板的工序 ； 利用辊型磨石(20)研磨第1基板(10) 的工序 ； 以及利用辊型磨石 (20) 研磨第 2 基板的 工序， 在研磨第1基板(10)的工序中， 使辊型磨石 (20) 在与第 1 基板 (10) 的搬运方向 (50) 垂直的 方向 (40) 沿着辊型磨石 (20) 的长度方向滑动。 (30)优先权数据 (8。

3、5)PCT申请进入国家阶段日 2011.10.11 (86)PCT申请的申请数据 PCT/JP2010/057582 2010.04.28 (87)PCT申请的公布数据 WO2010/131581 JA 2010.11.18 (51)Int.Cl. (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 1 页 说明书 8 页 附图 4 页 CN 102388348 A1/1 页 2 1. 一种基板清洗方法， 通过研磨而清洗基板， 其特征在于， 包含 ： 搬运具有第 1 宽度的第 1 基板和具有比上述第 1 宽度大的第 2 宽度的第 2 基板的工 序 ； 利用具有比上述第 1 。

4、宽度大的长度方向长度的辊型磨石研磨上述第 1 基板的工序 ； 以 及 利用上述辊型磨石研磨上述第 2 基板的工序， 在研磨上述第 1 基板的工序中， 使上述辊型磨石在与上述第 1 基板的搬运方向垂直的 方向沿着上述辊型磨石的上述长度方向滑动。 2. 根据权利要求 1 所述的基板清洗方法， 其特征在于， 在研磨上述第 2 基板的工序中， 使上述辊型磨石在与上述第 2 基板的搬运方向垂直的方向沿着上述辊型磨石的上述长度 方向滑动。 3.根据权利要求1或2所述的基板清洗方法， 其特征在于， 在研磨上述第1基板的工序 中， 上述辊型磨石以夹着上述第 1 基板的方式配置， 研磨上述第 1 基板的表面和背。

5、面。 4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板清洗方法， 其特征在于， 以上述第1宽度 和上述第 2 宽度沿着铅垂方向的方式搬运上述第 1 基板和上述第 2 基板。 5. 根据权利要求 1 至 4 中的任一项所述的基板清洗方法， 上述基板是液晶面板用的玻 璃基板。 6. 一种基板清洗装置， 通过研磨而清洗基板， 具备 ： 搬运基板的搬运装置 ； 研磨上述基板的辊型磨石 ； 使上述辊型磨石在相对于上述基板的搬运方向垂直的方向滑动的滑动装置。 7. 根据权利要求 6 所述的基板清洗装置， 上述辊型磨石以夹着上述基板的表面和背面 的方式配置。 8. 根据权利要求 7 或 8 所述的基板清洗装置， 。

6、上述基板是液晶面板用的玻璃基板， 还具备保持部， 上述保持部以上述玻璃基板的表面和背面朝向铅垂方向的方式进行保 持。 权 利 要 求 书 CN 102388335 A CN 102388348 A1/8 页 3 基板清洗方法和基板清洗装置 技术领域 0001 本发明涉及通过研磨而清洗基板的基板清洗方法和基板清洗装置， 特别是涉及清 洗液晶面板用的玻璃基板的基板清洗方法。 背景技术 0002 作为液晶显示装置的构成部件的液晶面板具有使一对玻璃基板以确保规定空隙 的状态相对的结构。用于制造液晶面板的玻璃基板被要求严格的质量。具体地， 除了玻璃 组成的特性 ( 光学的、 热的、 机械的、 化学的特性。

7、等 ) 和玻璃基板的形状 ( 外形尺寸、 板厚、 直角度、 直进性、 翘曲等 ) 之外， 还被要求表面的质量 ( 污染、 损伤等 ) 也优良。 0003 当玻璃基板的表面具有超过允许范围的损伤或者污染时， 成为引起薄膜晶体管 (TFT) 或者信号电极等的断线、 短路的原因。因此， 玻璃基板表面的质量必须良好。 0004 此外， 在制造液晶面板的情况下， 使一对玻璃基板贴合， 将该贴合的玻璃基板切断 成规定尺寸后， 在一对玻璃基板之间注入液晶并密封， 然后， 在玻璃基板的两面贴附偏光 板， 由此进行制造。在液晶面板的制造工序中， 当将贴合的玻璃基板切断成规定尺寸时， 产 生如下状态 ： 由于切断。

8、而产生的碎玻璃 ( 玻璃粉末、 小的残片 ) 以粘着的方式附着 ( 固定 ) 于玻璃基板表面。 另外， 当密封一对玻璃基板的封入液晶后的注入口时， 产生密封剂附着于 注入口附近的玻璃表面的状态 ( 例如， 专利文献 1、 2)。 0005 这样， 在液晶面板的制造工序中， 当碎玻璃或者密封树脂等异物附着于玻璃基板 表面时， 在后续工序的偏光板的贴附中产生不良， 因此需要除去这些异物。 0006 作为除去附着于液晶面板表面的异物的装置， 公知有刀刃旋转型的碎玻璃除去装 置 ( 参照专利文献 3)。在刀刃旋转型的除去装置中， 因为能对 2 个刃具赋予自转和公转而 除去碎玻璃， 所以能提高除去作业的。

9、效率。 0007 现有技术文献 0008 专利文献 0009 专利文献 1 ： 特开 2002-66899 号公报 0010 专利文献 2 ： 特开 2004-212862 号公报 0011 专利文献 3 ： 特开平 10-39282 号公报 0012 专利文献 4 ： 特开平 2-106995 号公报 发明内容 0013 发明要解决的问题 0014 近年来， 构成液晶面板的玻璃基板的尺寸大型化的倾向增强。 其中， 当要使用刀刃 旋转型的除去装置除去附着于大型液晶面板表面的异物 ( 碎玻璃 ) 时， 与小型液晶面板的 情况的除去作业比较， 除去作业的处理时间变长。 0015 另外， 在专利文献。

10、 4 中公开了一种通过使辊刷旋转而清洗印刷板的单面的装置。 但是， 考虑到即使在使用该印刷板的单面清洗装置的情况下也不能在辊刷的旋转中可靠地 说 明 书 CN 102388335 A CN 102388348 A2/8 页 4 除去附着于液晶面板表面的异物， 在该情况下有可能产生后续工序中的不良。 0016 在那样的状况下， 本发明人研究了如下方法 ： 使用由辊型的磨石清洗液晶面板表 面的装置清洗基板表面。如果利用比液晶面板的宽度长的辊型磨石清洗液晶面板， 与刀刃 旋转型的除去装置比较， 能大幅缩短除去作业的处理时间。 另外， 在利用辊型磨石清洗的情 况下， 与使用旋转辊刷时比较， 能更可靠地。

11、除去附着于液晶面板表面的异物。 0017 图1(a)是示意性示出本发明人研究的辊型磨石的基板清洗装置1000的构成的俯 视图。基板 1100( 例如， 液晶面板 ) 配置于工作台 1300 上， 在箭头 1500 的方向行进。在工 作台 1300 的上方配置有多个辊型磨石 1200， 当基板 1100 在辊型磨石 1200 与工作台 1300 之间通过时， 利用旋转的辊型磨石 1200 研磨而清洗基板 1100 的表面。辊型磨石 1200 的长 度比基板 1100 的宽度长， 所以仅使基板 1100 在箭头 1500 的方向行进， 就可清洗基板 1100 的表面整体。因此， 如果使用该基板清洗。

12、装置 1000， 与刀刃旋转型的除去装置比较， 能大幅 缩短除去作业的处理时间。 0018 但是， 本发明人发现该基板清洗装置 1000 潜在地存在如下的问题。即， 所清洗的 基板1100不是始终恒定的尺寸而是存在各种尺寸。 因此， 在研磨而清洗小尺寸的基板1100 之后， 接着研磨而清洗大尺寸的基板1100时， 辊型磨石1200产生偏磨损， 其结果是， 大尺寸 的基板 1100 的研磨会产生不均。关于该现象， 一边参照图 1(b) 和 (c) 一边作进一步说明。 0019 图 1(b) 和 (c) 分别是用于说明利用如箭头 1550 那样旋转的辊型磨石 1200 研磨 小尺寸的基板 1100。

13、A 和大尺寸的基板 1100B 的情况的截面图。 0020 首先， 如图 1(b) 所示， 在连续地研磨小基板 1100A 的情况下， 辊型磨石 1200 中与 基板 1100A 的表面对应的部位 1250 磨损。接着， 如图 1(c) 所示， 在研磨大基板 1100B 的情 况下， 因为辊型磨石 1200 存在磨损的部位 ( 偏磨损部位 )1250 和除此以外的部位 ( 未磨损 的部位 )， 所以基板 1100B 的研磨产生不均。 0021 这样， 在使用辊型磨石1200的基板清洗装置1000的情况下具有如下优点 ： 能大幅 缩短基板 1100 的异物除去作业的处理时间。但是， 在不同尺寸的。

14、基板 (1100A、 1100B) 的异 物除去作业中， 产生起因于辊型磨石 1200 的偏磨损的研磨不均的问题。 0022 本发明是鉴于这样的方面而完成的， 其主要目的在于 ： 提供能缩短基板表面的异 物的除去作业的处理时间并且能抑制研磨不均的产生的基板清洗方法。 0023 用于解决问题的方案 0024 本发明的基板清洗方法是通过研磨而清洗基板的基板清洗方法， 包含 ： 搬运具有 第 1 宽度的第 1 基板和具备比上述第 1 宽度大的第 2 宽度的第 2 基板的工序 ； 利用具有比 上述第 1 宽度大的长度方向长度的辊型磨石研磨上述第 1 基板的工序 ； 以及利用上述辊型 磨石研磨上述第2基。

15、板的工序， 在研磨上述第1基板的工序中， 使上述辊型磨石在与上述第 1 基板的搬运方向垂直的方向沿着上述辊型磨石的上述长度方向滑动。 0025 在某优选的实施方式中， 上述辊型磨石的上述长度方向长度比上述第 2 基板的上 述第 2 宽度长， 在研磨上述第 2 基板的工序中， 使上述辊型磨石在与上述第 2 基板的搬运方 向垂直的方向遍及上述辊型磨石的上述长度方向长度的范围进行滑动。 0026 在某优选的实施方式中， 在研磨上述第 1 基板的工序中， 上述辊型磨石以夹着上 述第 1 基板的方式配置， 研磨上述第 1 基板的表面和背面。 0027 在某优选的实施方式中， 以上述第 1 宽度和上述第 。

16、2 宽度沿着铅垂方向的方式搬 说 明 书 CN 102388335 A CN 102388348 A3/8 页 5 运上述第 1 基板和上述第 2 基板。 0028 在某优选的实施方式中， 上述基板是液晶面板用的玻璃基板。 0029 本发明的基板清洗装置是通过研磨而清洗基板的基板清洗装置， 具备 ： 搬运基板 的搬运装置 ； 研磨上述基板的辊型磨石 ； 以及滑动装置， 其使上述辊型磨石在相对于上述 基板的搬运方向垂直的方向滑动。 0030 在某优选的实施方式中， 上述辊型磨石以夹着上述基板的表面和背面的方式配 置。 0031 在某优选的实施方式中， 上述基板是液晶面板用的玻璃基板， 还具备保持。

17、部， 上述 保持部以上述玻璃基板的表面和背面朝向铅垂方向的方式进行保持。 0032 发明效果 0033 根据本发明的基板清洗方法， 执行利用具有比第 1 基板的第 1 宽度大的长度方向 长度的辊型磨石研磨第 1 基板和第 2 基板的工序， 并且， 在研磨第 1 基板的工序中， 使辊型 磨石在与第 1 基板的搬运方向垂直的方向沿着辊型磨石的长度方向滑动。因此， 能缩短基 板表面的异物的除去作业的处理时间， 并且能抑制研磨不均的产生。 附图说明 0034 图 1(a) 是示意性示出基板清洗装置 1000 的构成的俯视图， (b) 和 (c) 分别是用 于说明用磨石 1200 研磨基板 1100A 。

18、和基板 1100B 的情况的截面图。 0035 图 2(a) 是示意性示出本发明的实施方式的基板清洗装置 100 的构成的俯视图， (b) 是用于说明基板清洗装置 100 的动作的截面图。 0036 图 3 是示意性示出本发明的实施方式的基板清洗装置 100 的构成的立体图。 0037 图 4 是示意性示出本发明的实施方式的基板清洗装置 100 的变更例的立体图。 0038 图 5 是示意性示出本发明的实施方式的基板清洗装置 100 的变更例的立体图。 具体实施方式 0039 下面， 一边参照附图一边说明本发明的实施方式。 在下面的附图中， 为了说明的简 洁化， 用相同的附图标记表示实质上具有。

19、相同功能的构成要素。 此外， 本发明不限于下面的 实施方式 0040 本发明的实施方式的基板清洗装置 100 能通过研磨而清洗基板 10。图 2(a) 是示 意性示出本实施方式的基板清洗装置 100 的构成的俯视图。另外， 图 2(b) 是用于说明本实 施方式的基板清洗装置 100 的动作的截面图。 0041 本实施方式的基板清洗装置100包括搬运基板10的搬运装置(未图示)和研磨基 板 10 的辊型磨石 20。在图 2(a) 所示的例子中， 基板 10 配置于工作台 30 上 ( 或者上方 )， 借助于搬运装置向前方 ( 箭头 50) 行进。使基板 10 向前方 (50) 移动的搬运装置是例。

20、如辊 式输送机。 0042 在本实施方式的构成中， 在辊型磨石20上连结着滑动装置(未图示)。 并且， 滑动 装置能在相对于基板 10 的搬运方向 (50) 垂直的方向沿着辊型磨石 20 的长度方向 (40) 使 用辊型磨石 20 滑动。在此， 辊型磨石 20 在研磨而清洗基板 10 时遍及辊型磨石 20 的长度 方向 (40) 的长度的大致整个范围 ( 例如， 大于等于 90 ) 进行滑动。即， 辊型磨石 20 不是 说 明 书 CN 102388335 A CN 102388348 A4/8 页 6 仅在其长度方向的中央部分对基板10进行研磨， 而是如图2(a)所示的例子那样， 一边使辊 。

21、型磨石 20 在长度方向 (40) 滑动一边对基板 10 进行研磨。因此， 通过该滑动动作， 辊型磨 石 20 一边按图中的 “20” 和 “20” 表示的那样进行往复运动一边对基板 10 进行研磨。 0043 在本实施方式的基板清洗装置 100 中， 辊型磨石 20 沿着基板 10 的搬运方向 50 排 列多个。另外， 如图 2(b) 所示， 为了能对基板 10 的表面 10A 和背面 10B 这两面进行研磨而 清洗， 辊型磨石 20 可设成与基板 10 的两面 (10A、 10B) 对应的一对的构成 (20A、 20B)。即， 基板 10 以被一对辊型磨石 20(20A、 20B) 夹着的。

22、形式向前方行进 ( 箭头 50)。 0044 在图 2 所示的例子中， 一对辊型磨石 20(20A、 20B) 沿着行进方向 50 配置多个。辊 型磨石 20 如箭头 ( 旋转方向 )55 那样旋转， 并研磨基板 10。此外， 辊型磨石 20 的旋转速度 只要设定成与基板 10 的搬运速度有相对差异即可， 考虑基板 10 的研磨量等使用合适的辊 型磨石。另外， 如果能与基板 10 的搬运速度有相对差异地进行研磨， 辊型磨石 20 的旋转方 向可以是图 2(b) 的反方向， 即是与行进方向 50 相同的方向。 0045 辊型磨石 20 具有在圆筒或者圆柱形状部件的表面设有磨石的结构。辊型磨石 2。

23、0 的磨石的种类等只要结合基板 10 的研磨条件适当选择合适的即可。此外， 辊型磨石 20 也 能使用不仅表面而且整体包括磨石材料的辊型磨石。本实施方式的辊型磨石 20 的磨石材 质是例如氧化铝、 氧化铈等。 0046 本实施方式的基板 10 是包括上基板 11 和下基板 12 的液晶面板。在此， 上基板 11 是例如彩色滤光片基板 (CF 基板 )， 下基板 12 是例如阵列基板 ( 或者 TFT 基板 )。上基板 11 和下基板 12 均是玻璃基板， 液晶层位于上基板 11 与下基板 12 之间。 0047 此外， 基板 10 不限于包含上基板 11 和下基板 12 的液晶面板， 可以是 。

24、1 片玻璃基 板 ( 例如， 母玻璃 )。另外， 基板 10 可以是在玻璃基板的至少一面形成有导电层 ( 配线层 等 ) 或者绝缘层 ( 树脂层等 ) 的基板结构体。而且， 不限于玻璃基板， 可以是包括玻璃以外 的材料的片状的基板。 0048 接着， 继续一边参照图 2(a) 和 (b) 一边对本实施方式的基板清洗方法进行说明。 0049 本实施方式的基板清洗方法是通过研磨而清洗不同尺寸的基板 10 的方法。具体 地， 能通过一系列的研磨工序清洗具有第 1 宽度的第 1 基板 ( 例如， 相当于 32 英寸的液晶 面板 ) 和具有比第 1 宽度大的第 2 宽度的第 2 基板 ( 例如， 相当于。

25、 60 英寸的液晶面板 ) 这 两者。 0050 在本实施方式的基板清洗方法中， 能在基板清洗装置 100 上搬运、 研磨第 1 基板 10， 并且能搬运、 研磨具有比第 1 基板 10 的宽度大的宽度的第 2 基板 ( 未图示 )。辊型磨石 20 的长度方向 (40) 的长度比第 1 基板 10 大， 并且， 与第 2 基板的宽度相同或比其大。 0051 首先， 在搬运方向 50 搬运第 1 基板 10， 利用辊型磨石 20 研磨第 1 基板 10。当进 行该研磨时， 使辊型磨石 20 在与第 1 基板 10 的搬运方向 50 垂直的方向沿着辊型磨石 20 的长度方向 40 滑动。此处的滑动。

26、以由于与第 1 基板 10 的研磨而产生的辊型磨石 20 的研 磨面的长度与第 2 基板 20 的宽度相同或者比其大的方式被执行。 0052 接着， 在搬运方向 50 搬运第 2 基板 ( 未图示 )， 利用辊型磨石 20 研磨第 2 基板。 因为在研磨第 1 基板 10 后的辊型磨石 20 上未产生偏磨损， 所以能抑制当研磨第 2 基板时 在第 2 基板上产生研磨不均。 0053 即， 在本实施方式的基板清洗方法中， 在研磨第 1 基板 ( 小基板 )10 后， 即使进行 说 明 书 CN 102388335 A CN 102388348 A5/8 页 7 第2基板(大基板)的研磨， 因为研。

27、磨第1基板10时使辊型磨石20沿着长度方向40滑动， 所以能抑制辊型磨石 20 的研磨不均的产生。换言之， 因为一边使辊型磨石 20 滑动一边研 磨第 1 基板 10， 所以能抑制起因于辊型磨石 20 的偏磨损的研磨不均的产生。 0054 根据本实施方式的方法， 在执行利用辊型磨石 20 研磨第 1 基板 10 和第 2 基板的 工序的情况下， 当研磨第 1 基板 10 时， 使辊型磨石 20 在与第 1 基板 10 的搬运方向 50 垂直 的方向沿着辊型磨石 20 的长度方向 40 滑动。因此， 能抑制图 1(b) 和 (c) 所示的偏磨损部 位 1250 的产生， 所以能没有研磨不均地研磨。

28、而清洗不同尺寸的基板 10( 第 1 基板、 第 2 基 板)。 此外， 因为使用辊型磨石20进行基于研磨的清洗， 所以与刀刃旋转型的异物除去装置 比较， 能缩短基板表面的异物的除去作业的处理时间。 0055 当进一步说明时， 根据本实施方式的方法， 在连续地搬运、 研磨多片 ( 例如 100 片 以上 ) 第 1 基板 10 后， 即使不更换辊型磨石 20， 也能接着搬运、 研磨比第 1 基板大的第 2 基 板。由于不进行辊型磨石 20 的更换作业， 所以相应地能提高基板除去作业的吞吐量。 0056 另外， 当研磨第 2 基板时也能使辊型磨石 20 滑动。当为第 2 基板时， 如果使辊型 磨。

29、石 20 滑动， 能抑制与第 2 基板对应的偏磨损部位的产生。在该情况下， 当搬运、 研磨比第 2 基板大的第 3 基板时特别有效。 0057 接着， 对本实施方式的更具体的构成进行说明。图 3 是示意性示出本实施方式的 基板清洗装置 100 的构成的立体图。 0058 基板清洗装置 100 载置于台座 95 上， 台座 95 是例如面板制造工厂内的地面 ( 水 平面 )。基板清洗装置 100 包括搬运基板 10 的基板搬运装置 70、 研磨基板 10 的辊型磨石 20(20A、 20B)、 以及使辊型磨石 20 滑动的滑动装置 60。 0059 基板搬运装置70包括使基板10在搬运方向50移。

30、动的辊式输送机72、 保持辊式输 送机的框架 74、 以及从框架 74 向铅垂方向 45 延伸的支撑部件 76。该例子中的支撑部件 76 具有在台座 95 上支撑基板清洗装置 100 的作用。辊式输送机 72 包括例如树脂 (UPE 等 )， 框架 74 包括金属 ( 例如铁、 不锈钢、 铝 )。 0060 此外， 本实施方式的基板搬运装置70如果是能在规定方向(箭头50)搬运基板10 的构成， 则没有特别限定， 除了具备辊式输送机 72 的搬运装置外， 可以是利用皮带搬运基 板 10 的搬运装置， 或者， 可以是利用空气使基板 10 上浮而搬运基板 10 的搬运装置。 0061 滑动装置 6。

31、0 包括驱动马达 62、 与驱动马达 62 的旋转轴 64 连结的滑动部 66、 以及 与滑动部 66 连接的磨石保持部 68。磨石保持部 68 以辊型磨石 20 能旋转的方式保持辊型 磨石 20 的中心。在驱动马达 62 的旋转轴 64 和滑动部 66 中的、 旋转轴 64 接触的面上分别 形成有嵌合的槽。当驱动马达 62 的旋转轴 64 旋转时， 与该旋转对应地， 滑动部 66 在辊型 磨石 20 的长度方向 40 滑动。并且， 与滑动部 66 的动作相应地， 辊型磨石 20 滑动。 0062 在图 3 所示的基板清洗装置 100 中， 利用基板搬运装置 70 使供给基板清洗装置 100 。

32、的基板 10 朝向搬运方向 50 前进。接着， 基板 10 一边在与铅垂方向 45 和搬运方向 50 垂直的方向 40 滑动一边被以与搬运方向 50 相对的方式旋转的辊型磨石 20(20A、 20B) 研 磨， 基板 10 的表面的清洗从被研磨的区域起依次地结束。 0063 能利用与滑动装置 60 连接的控制装置 ( 未图示 ) 控制辊型磨石 20 的滑动。该控 制装置能控制驱动马达 62 的转数、 旋转方向 ( 顺时针或者逆时针 ) 以及旋转时间， 因此能 控制滑动部 66 的移动 ( 换言之， 辊型磨石 20 的滑动范围 )。另外， 那样的控制装置是例如 说 明 书 CN 10238833。

33、5 A CN 102388348 A6/8 页 8 构成为能控制驱动马达62的MPU(微处理器单元)， 该MPU可以设成滑动装置60的一部分， 而且可以设成控制基板清洗装置 100 的整体的控制装置的一部分。此外， 控制滑动装置 60 的滑动动作的控制装置可以不利用专用的 MPU 构建， 也可以是将用于控制该滑动动作的软 件程序导入通用计算机的构成。 0064 另外， 能利用为了使辊型磨石 20 旋转而与辊型磨石 20 连结的旋转装置 ( 例如， 电 动马达 ) 控制辊型磨石 20 的旋转。另外， 使辊型磨石 20 旋转的旋转装置可以以内置于辊 型磨石 20 的形态存在。利用控制使辊型磨石 2。

34、0 旋转的旋转装置的控制装置执行辊型磨石 20 的控制。能利用该控制装置控制例如辊型磨石 20 的转数、 旋转方向 ( 顺时针或者逆时 针 ) 以及旋转时间。此外， 控制滑动装置 60 的控制装置和控制辊型磨石 20 的旋转的控制 装置能设成可执行两者的控制的兼用的控制装置， 但也可以不是兼用的控制装置而是各自 的控制装置。 0065 清洗结束的基板 10 在搬运装置 70 的辊式输送机 72 上沿着搬运方向 50 移动， 接 着， 为了进行后续工序的处理而从基板清洗装置100移动到其它装置。 在基板清洗装置100 上配置基板10的工序和从基板清洗装置100取走基板10的工序能利用例如可移动基。

35、板10 的机器臂执行。 0066 在图 3 所示的基板清洗装置 100 中， 在水平方向搬运、 研磨基板 10， 但本实施方式 的基板清洗装置 100 不限于此， 也能设成其它方式。图 4 示出能在铅垂方向 ( 或者重力方 向 )45 搬运、 研磨基板 10 的基板清洗装置 100。 0067 在图 4 所示的基板清洗装置 100 中， 以基板 10 的表面和背面沿着铅垂方向 45 延 伸的方式搬运、 研磨基板10。 在基板清洗装置100上以从左右夹着基板10的方式设有辊型 磨石 20A 和 20B， 辊型磨石 20A 和 20B 分别能在铅垂方向 45( 即， 与基板 10 的搬运方向 50。

36、 垂直的方向 ) 滑动。 0068 利用包括驱动辊 85 和辊皮带 86 的基板搬运装置 80 使基板 10 在搬运方向 ( 前 方 )50 移动。以配置于铅垂方向 45 的基板 10 不倒的方式配置有辊部件 82。辊部件 82 以 基板 10 能向前方行进的方式保持基板 10 的左右。并且， 辊部件 82 由框架 84 固定。辊部 件 82 是例如橡胶辊。框架 84 包括金属 ( 例如铁、 不锈钢、 铝 )。 0069 使辊型磨石 20 滑动的滑动装置 60 包括保持辊型磨石 20(20A、 20B) 的磨石保持部 68、 与磨石保持部 68 连接的滑动部 66、 以及使滑动部 66 在铅垂。

37、方向 45 往复移动的驱动部 ( 未图示 )。此外， 为了当辊型磨石 20 一边滑动一边研磨时使基板 10 与辊型磨石 20 的旋 转力相对地向前方 ( 搬运方向 )50 前进， 如图 5 所示， 也能设置搬运用辊 90(90A、 90B)。 0070 在基板 10 是大型的情况下， 有时由于基板 10 自身重量而挠曲， 但在图 4 和图 5 所 示的基板清洗装置 100 的情况下， 因为能将基板 10 配置成纵型， 所以具有能避免那样的挠 曲的问题的优点。另外， 能防止由于基板 10 的挠曲导致的基板 10 的断裂、 缺损， 并且能防 止由于基板 10 的挠曲而产生的辊的磨损。而且， 在将基。

38、板 10 配置成纵型的情况下， 因为能 减小尺寸， 所以能缩小工序的专用面积。 0071 根据本实施方式的方法， 在基板 10 是液晶面板的情况下， 因为能除去附着于液晶 面板的玻璃基板(11、 12)的表面(10A、 10B)的异物(碎玻璃或者密封树脂等)， 所以能抑制 在作为后续工序的偏光板的贴附工序中产生不良。 0072 即， 当在贴附偏光板前的基板上残留异物时， 在贴附偏光板后成为亮点而带来显 说 明 书 CN 102388335 A CN 102388348 A7/8 页 9 示不良， 但根据本实施方式的方法， 能解决那样的问题。此外， 当在加入液晶材料前的玻璃 基板 ( 单板玻璃状。

39、态 ) 上残留异物时， 成为短路、 断线等不良情况， 但根据本实施方式的方 法， 能解决那样的问题。 0073 上面利用优选实施方式说明了本发明， 但这样的记述不是限定事项， 当然能进行 种种变更。在上述实施方式中， 主要示出了同时研磨基板 10 的表面 10A 和背面 10B 的形式 的基板清洗装置100， 但本发明的方法在研磨而清洗基板10的单面(10A、 10B中的任一方的 面 ) 的方式下也有效。另外， 本实施方式的辊型磨石 20 相对于搬运方向 50 垂直地滑动， 但 即使此处的垂直不是准确地为90， 而是以相对于搬运方向50具有垂直(直角)分量的方 式滑动， 也能得到本发明的效果。。

40、但是， 大多数以相对于搬运方向 50 尽量为直角的方式使 辊型磨石 20 滑动， 这样容易控制基板 10 的研磨， 另外， 能抑制当研磨时基板 10 发生偏移。 0074 工业上的可利用性 0075 根据本发明， 能提供如下基板清洗方法和基板清洗装置 ： 能缩短基板表面的异物 的除去作业的处理时间， 并且能抑制研磨不均的产生。 0076 附图标记说明 0077 10 基板 ( 玻璃基板 ) 0078 11 上基板 0079 12 下基板 0080 20 辊型磨石 0081 30 工作台 0082 40 长度方向 ( 滑动方向 ) 0083 45 铅垂方向 0084 50 搬运方向 ( 行进方向。

41、 ) 0085 55 旋转方向 0086 60 滑动装置 0087 62 驱动马达 0088 64 旋转轴 0089 66 滑动部 0090 68 磨石保持部 0091 70 基板搬运装置 0092 72 辊式输送机 0093 74 框架 0094 76 支撑部件 0095 80 基板搬运装置 0096 82 辊部件 0097 84 框架 0098 85 驱动辊 0099 86 辊皮带 0100 90 搬运用辊 0101 95 台座 说 明 书 CN 102388335 A CN 102388348 A8/8 页 10 0102 100 基板清洗装置 0103 1000 基板清洗装置 0104 1100 基板 0105 1200 辊型磨石 0106 1250 偏磨损部位 0107 1300 工作台 说 明 书 CN 102388335 A CN 102388348 A1/4 页 11 图 1 说 明 书 附 图 CN 102388335 A CN 102388348 A2/4 页 12 图 2 说 明 书 附 图 CN 102388335 A CN 102388348 A3/4 页 13 图 3 图 4 说 明 书 附 图 CN 102388335 A CN 102388348 A4/4 页 14 图 5 说 明 书 附 图 CN 102388335 A 。