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1、(10)申请公布号 CN 103543620 A (43)申请公布日 2014.01.29 CN 103543620 A (21)申请号 201310555963.3 (22)申请日 2013.11.11 G03F 7/42(2006.01) (71)申请人 刘国政 地址 518104 广东省东莞市横沥镇中山路 398 号 (72)发明人 刘国政 罗海荣 (54) 发明名称 一种印制电路板显影膜去除液 (57) 摘要 本发明涉及印制电路板 （简称PCB） 领域， 具体 涉及一种印制电路板显影膜去除液。一种印制电 路板显影膜去除液， 由以下重量百分比的组分组 成 ： 有机过氧化剂 1060% ；。
2、 含氧酯类溶解促进剂 1050% ； 芳香醇类溶解剂 1040% ； 铜表面保护剂 0.0110% ； 乳化剂0.110%。 本发明针对现有技术 的缺陷和显影膜的分子结构特征， 提供一种能有 效去除印制电路板显影膜的去除液。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 3 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书3页 (10)申请公布号 CN 103543620 A CN 103543620 A 1/1 页 2 1. 一种印制电路板显影膜去除液， 其特征在于由以下重量百分比的组分组成 ： 有机过氧化剂 1060% ； 含氧酯类溶解促进剂 1。
3、050% ； 芳香醇类溶解剂 1040% ； 铜表面保护剂 0.0110% ； 乳化剂 0.110%。 2. 根据权利要求 1 所述的一种印制电路板显影膜去除液， 其特征在于 ： 所述含氧酯类 溶解促进剂为乙二酸二甲酯、 乙酸异戊酯、 乙酸苯甲酯的混合物。 3. 根据权利要求 1 所述的一种印制电路板显影膜去除液， 其特征在于 ： 所述有机过氧 化剂为过氧化甲乙酮、 过氧化叔丁醇、 过氧化苯甲酸叔丁酯中的至少一种。 4. 根据权利要求 1 所述的一种印制电路板显影膜去除液， 其特征在于 ： 所述芳香醇为 苄醇的衍生物。 5. 根据权利要求 4 所述的一种印制电路板显影膜去除液， 其特征在于 ：。
4、 所述苄醇的衍 生物为苄醇、 4- 溴苄醇、 邻氯苄醇、 2,4- 二氯苄醇、 4- 乙基苄醇中的至少一种。 6. 根据权利要求 5 所述的一种印制电路板显影膜去除液， 其特征在于 ： 所述铜表面保 护剂为 5- 苄基 -2,4- 咪唑啉二酮、 5- 异丙基 -2,4- 咪唑啉二酮、 1-5-(4- 硝基苯 )-2- 呋 喃基 亚甲基氨基 -2,4- 咪唑啉二酮钠盐、 1,3- 二羟乙基 -5,5- 二甲基 -2,4- 咪唑啉二 酮、 2,4- 咪唑啉二酮 -5,5- 二苯基 -3-( 膦酰氧基 ) 甲基 二钠盐中的至少一种。 7. 根据权利要求 6 所述的一种印制电路板显影膜去除液， 其特征。
5、在于 ： 所述所述乳化 剂为 OP-10。 8. 根据权利要求 7 所述的一种印制电路板显影膜去除液， 其特征在于其各组分及相应 的重量百分比优选为 ： 有机过氧化剂 1550% ； 乙二酸二甲酯 1020% ； 乙酸异戊酯 1015% ； 乙酸苯甲酯 1015% ； 芳香醇类溶解剂 1540% ； 铜表面保护剂 0.0110% ； 乳化剂 0.110%。 权 利 要 求 书 CN 103543620 A 2 1/3 页 3 一种印制电路板显影膜去除液 技术领域 0001 本发明涉及印制电路板 （简称 PCB） 领域， 具体涉及一种印制电路板显影膜去除液。 背景技术 0002 目前， 绝大多数。
6、印制电路板厂在制造电路板过程中都要经过曝光显影这一道工 艺， 只有经过这道工艺才能进行下一道 “图形电镀铜” 工艺。但是在进行曝光显影之前， 必 须按照工程的设计在电路板上覆盖一层高分子聚合物膜， 这一聚合物膜经过紫外光照射后 进行曝光显影， 曝光后的膜我们称之为显影膜。在下一步的工艺中必须将这种显影膜完全 去除， 如果不去除或者去除不干净的话， 那么在后一步的图形电镀铜工艺中， 会导致残留的 显影膜夹杂在铜层当中， 进而会造成铜层与铜层之间的短路， 从而造成电路板的报废， 大大 增加生产成本。 0003 目前生产线上对显影膜的除去大致可以分为两大类 ： 第一类就是重复多次使用传 统的去除液来。
7、除去显影膜， 然而这样将大大增加工作量和使用大量的药水， 将会降低生产 效率和提高生产成本 ； 第二类就是在现有的显影膜去除液中添加增强化学药品， 但是添加 的化学药品大多为有毒物质， 这样既造成对工作人员身体的伤害， 也会增加对环境的污染。 0004 发明内容 0005 本发明根据现有技术的缺陷和显影膜的分子结构特征， 提供一种能有效去除印制 电路板显影膜的去除液。 0006 本发明所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现 ： 一种印制电路板显影膜去除液， 由以下重量百分比的组分组成 ： 有机过氧化剂 1060% ； 含氧脂类溶解促进剂 1050% ； 芳香醇类溶解剂 1040% ； 铜表。
8、面保护剂 0.0110% ； 乳化剂 0.110%。 0007 进一步的， 所述有机过氧化剂为过氧化甲乙酮、 过氧化叔丁醇、 过氧化苯甲酸叔丁 酯中的至少一种。所选用的有机过氧化剂能够有效氧化显影膜， 而且反应后生产的再生物 具有更好的溶解性， 使显影膜能够有效的被去除。 0008 进一步的， 所述含氧酯类溶解促进剂为乙二酸二甲酯、 乙酸异戊酯、 乙酸苯甲酯的 混合物。针对显影膜的结构， 选用含氧酯类做为溶解促进剂， 能够促进再生物的溶解， 从而 提高显影膜的去除效率。 0009 进一步的， 所述芳香醇为苄醇的衍生物。 0010 进一步的， 所述苄醇的衍生物为苄醇、 4- 溴苄醇、 邻氯苄醇、。
9、 2,4- 二氯苄醇、 4- 乙 基苄醇中的至少一种。根据 “相似相溶” 的原理， 所选用苄醇的衍生物与氧化过后的再生物 说 明 书 CN 103543620 A 3 2/3 页 4 相容性良好， 能够有助于显影膜的完全溶解去除。 0011 进一步的， 所述铜表面保护剂为 5- 苄基 -2,4- 咪唑啉二酮、 5- 异丙基 -2,4- 咪唑 啉二酮、 1-5-(4- 硝基苯 )-2- 呋喃基 亚甲基氨基 -2,4- 咪唑啉二酮钠盐、 1,3- 二羟乙 基-5,5-二甲基-2,4-咪唑啉二酮、 2,4-咪唑啉二酮-5,5-二苯基-3-(膦酰氧基)甲基 二钠盐中的至少一种。 其中， 所选用的铜表面。
10、保护剂都具有咪唑啉结构， 其中咪唑啉环上的 N 能够有效与表面的铜产生配位作用， 使铜表面保护剂吸附在铜表面， 防止其被氧化污染。 0012 进一步的， 所述乳化剂为本技术领域常用的乳化剂皆能实现能发明， 优选为 OP-10。乳化剂促使有机氧化剂在显影膜表面地扩散， 加大反应的接触面。 0013 进一步的， 去除液各组分及相应的重量百分比优选为 ： 有机过氧化剂 1550% ； 乙二酸二甲酯 1020% ； 乙酸异戊酯 1015% ； 乙酸苯甲酯 1015% ； 芳香醇类溶解剂 1540% ； 铜表面保护剂 0.0110% ； 乳化剂 0.110%。 0014 本发明具有如下有益效果 ： 本发。
11、明先利用有机氧化剂与显影膜反应， 反应后再将生成物溶解到芳香醇溶解剂， 通 过含氧脂类溶解促进剂的作用能够大大增加生成物的溶解性， 而且在铜表面保护剂的作用 下， 不会对铜表面有任何损伤。 本发明的去除液效果良好， 不用多次重复使用就能够完全除 去显影膜， 本发明的产品在价格上比市场上所卖的药水价格便宜三分之一， 因此有着较大 的经济效益。 具体实施方式 0015 下面结合实施例对本发明进行详细的说明， 实施例仅是本发明的优选实施方式， 不是对本发明的限定。 0016 实施例 1 先将 18%4- 溴苄醇、 15% 乙二酸二甲酯、 13% 乙酸异戊酯和 12% 乙酸苯甲酯倒入容器 中， 再取 。
12、35% 过氧化叔丁醇倒入容器中搅拌均匀 ； 接着取 5%5- 苄基 -2,4- 咪唑啉二酮和 2%OP-10加入到上述溶液中搅拌均匀得到去除液。 本实施例的去除液效果良好， 不用多次重 复使用就能够完全除去显影膜。 0017 实施例 2 先将 36%4- 乙基苄醇、 11% 乙二酸二甲酯、 12% 乙酸异戊酯和 14% 乙酸苯甲酯倒入容 器中， 再取 17% 过氧化甲乙酮倒入容器中搅拌均匀 ； 接着取 7%1,3- 二羟乙基 -5,5- 二甲 基 -2,4- 咪唑啉二酮和 3%OP-10 加入到上述溶液中搅拌均匀得到去除液。本实施例的去除 液效果良好， 不用多次重复使用就能够完全除去显影膜。 。
13、0018 实施例 3 先将 25% 邻氯苄醇、 18% 乙二酸二甲酯、 13% 乙酸异戊酯和 11% 乙酸苯甲酯倒入容器中， 再取31%过氧化苯甲酸叔丁酯倒入容器中搅拌均匀 ； 接着取1%2,4-咪唑啉二酮-5,5-二苯 说 明 书 CN 103543620 A 4 3/3 页 5 基 -3-( 膦酰氧基 ) 甲基 二钠盐和 1%OP-10 加入到上述溶液中搅拌均匀得到去除液。本 实施例的去除液效果良好， 不用多次重复使用就能够完全除去显影膜。 0019 实施例 4 先将 14%2,4- 二氯苄醇、 4% 乙二酸二甲酯、 5% 乙酸异戊酯和 7% 乙酸苯甲酯倒入容器 中， 再取 58% 过氧化。
14、叔丁醇倒入容器中搅拌均匀 ； 接着取 7%5- 异丙基 -2,4- 咪唑啉二酮和 5%OP-10加入到上述溶液中搅拌均匀得到去除液。 本实施例的去除液效果良好， 不用多次重 复使用就能够完全除去显影膜。 0020 实施例 5 先将 10%4- 乙基苄醇、 17% 苄醇、 11% 乙二酸二甲酯、 12% 乙酸异戊酯和 11% 乙酸苯甲 酯倒入容器中， 再取 12% 过氧化甲乙酮、 15% 过氧化叔丁醇倒入容器中搅拌均匀 ； 接着取 7%1,3-二羟乙基-5,5-二甲基-2,4-咪唑啉二酮和5%OP-10加入到上述溶液中搅拌均匀得 到去除液。本实施例的去除液效果良好， 不用多次重复使用就能够完全除。
15、去显影膜。 0021 实施例 6 先将7%4-溴苄醇、 15%邻氯苄醇、 13%乙二酸二甲酯、 11%乙酸异戊酯和13%乙酸苯甲酯 倒入容器中， 再取 9% 过氧化甲乙酮、 17% 过氧化苯甲酸叔丁酯倒入容器中搅拌均匀 ； 接着取 4%5- 异丙基 -2,4- 咪唑啉二、 4%2,4- 咪唑啉二酮 -5,5- 二苯基 -3-( 膦酰氧基 ) 甲基 二 钠盐和 7%OP-10 加入到上述溶液中搅拌均匀得到去除液。本实施例的去除液效果良好， 不 用多次重复使用就能够完全除去显影膜。 0022 以上所述实施例仅表达了本发明的实施方式， 其描述较为具体和详细， 但并不能 因此而理解为对本发明专利范围的限制， 但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技 术方案， 均应落在本发明的保护范围之内。 说 明 书 CN 103543620 A 5 。