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1、(10)申请公布号 CN 104201294 A (43)申请公布日 2014.12.10 CN 104201294 A (21)申请号 201410326756.5 (22)申请日 2014.07.10 H01L 51/56(2006.01) (71)申请人 深圳市华星光电技术有限公司 地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大 道 92 号 (72)发明人 张凡 余威 (74)专利代理机构 深圳翼盛智成知识产权事务 所 ( 普通合伙 ) 44300 代理人 黄威 (54) 发明名称 一种操作平台 (57) 摘要 本发明提供一种操作平台， 所述操作平台包 括 ： 操作空间、 纯化装置、 。
2、第一传感器组以及供气 装置， 所述供气装置包括 ： 进气端、 出气端、 用于 检测所述进气端输入的所述保护气体的水含量以 及氧含量的第二传感器组以及第一电磁阀， 设置 在所述出气端和所述进气端之间， 用于根据所述 第二传感器组的检测结果， 控制所述供气装置向 所述操作空间输出所述保护气体。本发明通过增 加一组传感器， 可以解决不能对供气装置提供的 保护气体中水或氧含量进行检测， 以及检测结果 不准确和异常原因难以排查的技术问题。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 6 页 附图 4 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书6页 附图。
3、4页 (10)申请公布号 CN 104201294 A CN 104201294 A 1/1 页 2 1. 一种操作平台， 其特征在于 ： 所述操作平台包括 ： 操作空间， 用于提供待操作物品的操作环境， 所述操作空间内设置有保护气体， 其中所 述保护气体用于防止所述待操作物品被氧化或被腐蚀 ； 纯化装置， 用于对所述操作空间中的保护气体进行纯化处理， 所述纯化装置包括一气 体输入端和一气体输出端 ； 第一传感器组， 设置在所述纯化装置的气体输入端， 用于检测所述操作空间中的所述 保护气体的水含量以及氧含量 ； 以及 供气装置， 用于当所述第一传感器组检测到所述保护气体中的水含量大于第一阈值或。
4、 所述保护气体中的氧含量大于第二阈值时， 向所述操作空间输出所述保护气体 ； 其包括 ： 进气端， 用于输入所述保护气体 ； 出气端， 用于向所述操作空间输出所述保护气体 ； 第二传感器组， 用于检测所述进气端输入的所述保护气体的水含量以及氧含量 ； 以及 第一电磁阀， 设置在所述出气端和所述进气端之间， 用于根据所述第二传感器组的检 测结果， 控制所述供气装置向所述操作空间输出所述保护气体。 2. 根据权利要求 1 所述的操作平台， 其特征在于 ： 所述第一电磁阀设置在第二传感器 组和所述出气端之间。 3. 根据权利要求 1 所述的操作平台， 其特征在于 ： 所述供气装置还包括第二电磁阀， 。
5、所 述第二电磁阀设置在第二传感器组与所述进气端之间。 4. 根据权利要求 3 所述的操作平台， 其特征在于 ： 当所述第一电磁阀开启且所述第二 电磁阀关闭时， 所述第二传感器组还用于检测所述纯化装置的气体输出端的所述保护气体 的水含量以及氧含量。 5. 根据权利要求 4 所述的操作平台， 其特征在于 ： 所述供气装置的出气端与所述纯化 装置的气体输出端连接。 6. 根据权利要求 3 所述的操作平台， 其特征在于 ： 所述供气装置还包括过滤膜， 所述过 滤膜设置在所述第二电磁阀和所述第二传感器组之间。 7. 根据权利要求 1 所述的操作平台， 其特征在于 ： 当所述第二传感器组检测的结果为所述进。
6、气端输入的所述保护气体中的水含量大于 第三阈值或所述保护气体中的氧含量大于所述第四阈值时， 所述第一电磁阀关闭。 8. 根据权利要求 1 所述的操作平台， 其特征在于 ： 所述操作平台还包括压力检测装置， 所述供气装置还用于当所述压力检测装置检测到所述保护气体的压力与大气压的差值小 于一预设值时， 向所述操作空间输出所述保护气体。 9. 根据权利要求 8 所述的操作平台， 其特征在于 ： 所述预设值的范围为 1 毫巴至 2 毫 巴。 10. 根据权利要求 1 所述的操作平台， 其特征在于 ： 所述保护气体为氮气。 权 利 要 求 书 CN 104201294 A 2 1/6 页 3 一种操作平。
7、台 【技术领域】 0001 本发明涉及有机发光显示器封装领域， 特别是涉及一种操作平台。 【背景技术】 0002 随着 OLED(Organic Light Emitting Display， 有机发光显示器 ) 技术发展迅猛， 大量科研人员围绕 OLED 相关技术进行研发开发， 而作为 OLED 技术关键技术之一， OLED 封 装技术也成为研究热点之一。 0003 由于 OLED 器件材料的特殊光电性能， 需要在较低水氧环境之下的手套箱内进行 封装， 由于高浓度的水或者氧进入手套箱(glove box)会导致器件结构被破坏， 影响器件寿 命。 0004 手套箱是将高纯惰性气体充入箱体内， 。
8、并循环过滤掉其中的活性物质的实验室设 备， 也称惰性气体保护箱、 干箱等， 主要对 O2、 H2O、 有机气体的清除。广泛应用于无水、 无氧、 无尘的超纯环境， 譬如 ： 锂离子电池及材料、 半导体、 超级电容、 特种灯、 激光焊接、 钎焊等。 0005 因此， OLED 封装制程需在低浓度的水或者氧环境下 ( 譬如 10ppm 以下 (ppm 表示 一百万份单位质量的溶液中所含溶质的质 量 ) 进行， 一般在 OLED 封装过程中充入氮气， 由于手套箱不是密闭的空间， 在手套箱内气压降低时， 空气中的水和氧分子会进入手套箱 内， 因此需要使用纯化装置或纯化系统 (purify system)。
9、 对手套箱内的保护气体进行纯化 处理， 来维持低水氧环境。 0006 请参阅图 1， 图 1 为现有技术中的纯化装置结构示意图。 0007 现有的纯化装置主要包括入口过滤器、 纯化单元 (reactor)、 循环风机 (blower)、 冷却器(cooler)、 出口过滤器(fi lter)等结构单元。 在外置循环风机的作用下， 纯化装置不 断对手套箱内的保护气体进行循环净化， 使得手套箱内水氧指标保持在 10ppm 以下。当传 感器组 ( 包括氧传感器、 水传感器 ) 检测手套箱内水或者氧气的浓度值大于 10ppm 时， 操作 平台会进行换气 (Purging) 动作， 即通过供气装置输入保。
10、护气体， 从而降低手套箱内水和 氧的浓度。但现有操作平台存在以下缺陷 ： 当供气装置 ( 虚线框所示 ) 提供的保护气体水 或氧含量偏高， 现有操作平台无法检测出 ； 现有纯化装置仅设置一组水氧传感器， 当手套箱 与纯化装置局部漏气时或者当水或氧传感器的探头灵敏度降低时， 导致检测结果不准确， 且无法对水或氧含量偏高 ( 异常情况 ) 的原因进行排查。 0008 故， 有必要完善现有的操作平台， 以解决现有技术所存在的问题。 【发明内容】 0009 本发明的一个目的在于提供一种操作平台， 以解决现有操作平台无法对供气装置 所提供保护气体中水或氧含量进行检测 ； 当手套箱与纯化装置局部漏气时或者。
11、当水或氧传 感器的探头灵敏度降低时， 导致检测结果不准确， 且无法对异常原因进行排查的技术问题。 0010 为解决上述技术问题， 本发明构造了一种操作平台， 所述操作平台包括 ： 0011 操作空间， 用于提供待操作物品的操作环境， 所述操作空间内设置有保护气体， 其 说 明 书 CN 104201294 A 3 2/6 页 4 中所述保护气体用于防止所述待操作物品被氧化或被腐蚀 ； 0012 纯化装置， 用于对所述操作空间中的保护气体进行纯化处理， 所述纯化装置包括 一气体输入端和一气体输出端 ； 0013 第一传感器组， 设置在所述纯化装置的气体输入端， 用于检测所述操作空间中的 所述保护。
12、气体的水含量以及氧含量 ； 以及 0014 供气装置， 用于当所述第一传感器组检测到所述保护气体中的水含量大于第一阈 值或所述保护气体中的氧含量大于第二阈值时， 向所述操作空间输出所述保护气体 ； 其包 括 ： 0015 进气端， 用于输入所述保护气体 ； 0016 出气端， 用于向所述操作空间输出所述保护气体 ； 0017 第二传感器组， 用于检测所述进气端输入的所述保护气体的水含量以及氧含量 ； 以及 0018 第一电磁阀， 设置在所述出气端和所述进气端之间， 用于根据所述第二传感器组 的检测结果， 控制所述供气装置 向所述操作空间输出所述保护气体。 0019 在本发明的操作平台中， 所述。
13、第一电磁阀设置在第二传感器组和所述出气端之 间。 0020 在本发明的操作平台中， 所述供气装置还包括第二电磁阀， 所述第二电磁阀设置 在第二传感器组与所述进气端之间。 0021 在本发明的操作平台中， 当所述第一电磁阀开启且所述第二电磁阀关闭时， 所述 第二传感器组还用于检测所述纯化装置的气体输出端的所述保护气体的水含量以及氧含 量。 0022 在本发明的操作平台中， 所述供气装置的出气端与所述纯化装置的气体输出端连 接。 0023 在本发明的操作平台中， 所述供气装置还包括过滤膜， 所述过滤膜设置在所述第 二电磁阀和所述第二传感器组之间。 0024 在本发明的操作平台中， 当所述第二传感器。
14、组检测的结果为所述进气端输入的所 述保护气体中的水含量大于第三阈值或所述保护气体中的氧含量大于所述第四阈值时， 所 述第一电磁阀关闭。 0025 在本发明的操作平台中， 所述操作平台还包括压力检测装置， 所述供气装置还用 于当所述压力检测装置检测到所述保护气体的压力与大气压的差值小于一预设值时， 向所 述操作空间输出所述保护气体。 0026 在本发明的操作平台中， 所述预设值的范围为 1 毫巴至 2 毫巴。 0027 在本发明的操作平台中， 所述保护气体为氮气。 0028 本发明的操作平台， 通过增加一组传感器， 可以解决能够检测供气装置提供的保 护气体中水或氧含量， 以及提高检测结果的准确度。
15、、 利于异常原因排查的技术问题。 0029 为让本发明的上述内容能更明显易懂， 下文特举优选实施例， 并配合所附图式， 作 详细说明如下 ： 【附图说明】 说 明 书 CN 104201294 A 4 3/6 页 5 0030 图 1 为现有技术中操作平台结构示意图 ； 0031 图 2 为本发明实施例中第一实施例的操作平台结构示意图 ； 0032 图 3 为本发明实施例中第二实施例中供气装置的第一种连接方式的结构示意图 ； 0033 图 4 为本发明实施例中第二实施例中供气装置的结构示意图 ； 0034 图 5 为本发明实施例中第二实施例的中供气装置的第一种连接方式的局部放大 示意图 ； 0。
16、035 图 6 为本发明实施例中第二实施例中供气装置的第二种连接方式的结构示意图。 【具体实施方式】 0036 以下各实施例的说明是参考附加的图式， 用以例示本发明可用以实施的特定实施 例。本发明所提到的方向用语， 例如 上 、下 、前 、后 、左 、右 、内 、外 、侧 面 等， 仅是参考附加图式的方向。因此， 使用的方向用语是用以说明及理 解本发明， 而非 用以限制本发明。在图中， 结构相似的单元是以相同标号表示。 0037 图 2 为本发明实施例中第一实施例的操作平台结构示意图 ； 0038 请参照图 2， 所述操作平台包括操作空间 10、 纯化装置 20、 第一传感器组 40、 供气 。
17、装置 30 ： 0039 所述操作空间 10， 用来提供待操作物品的操作环境， 所述操作空间内设置有保护 气体， 其中所述保护气体用于防止所述待操作物品被氧化或被腐蚀 ； 所述操作空间 10 譬如 为封装 OLED 使用的手套箱 ； 所述待操作物品譬如为 OLED。 0040 所述纯化装置 20， 用来对所述操作空间 10 中的保护气体进行纯化处理， 所述纯化 装置20包括一气体输入端201和一气体输出端202， 其中所述操作空间10中的保护气体首 先进入所述气体输入端 201， 经所述纯化装置 20 纯化处理后由所述气体输出端 202 输出 ； 0041 所述第一传感器组 40 包括水传感器。
18、和氧传感器， 设置在所述纯化装置的气体输 入端 201， 用来检测所述操作空间 10 中的所述保护气体的水含量以及氧含量 ； 以及 0042 由于纯化装置 20 对保护气体进行纯化处理的能力是有限的， 当所述操作空间 10 中的保护气体的水和氧含量比较多时， 仅靠原有的所述纯化装置 20 不能对保护气体进行 纯化， 为了节省生产成本， 需要通过供气装置 30( 虚线框所示 ) 向所述操作空间 10 输入所 述保护气体， 即进行换气。即当所述第一传感器组 40 检测到所述保护气体中的水含量大于 第一阈值或所述保护 气体中的氧含量大于第二阈值时， 所述供气装置 30 向所述操作空间 输出所述保护气。
19、体 ； 所述第一阈值譬如为 10ppm ； 所述第二阈值譬如为 10ppm ； ( 当然所述 第一阈值和第二阈值可以根据所述待操作物品所需的操作环境自行设定 )。 0043 所述供气装置 30 包括进气端 301 和出气端 302 ； 其中所述进气端 301 连接保护气 体存储箱， 用来输入所述保护气体 ； 所述出气端 302， 用来向所述操作空间 10 输出所述保护 气体 ； 0044 所述供气装置 30 还包括第二传感器组 303 和第一电磁阀 304， 第二传感器组 303 包括水传感器和氧传感器， 用于检测所述进气端 301 输入的所述保护气体的水含量以及氧 含量 ； 以及 0045 。
20、所述第一电磁阀 304， 设置在所述出气端 302 和所述进气端 301 之间， 用来根据所 述第二传感器组 303 的检测结果， 控制所述供气装置 30 向所述操作空间 10 输出所述保护 说 明 书 CN 104201294 A 5 4/6 页 6 气体。 0046 优选地， 所述第一电磁阀 304 设置在第二传感器组 303 和所述出气端 302 之间。 0047 当所述第二传感器组303检测的结果为所述进气端301输入的所述保护气体中的 水含量大于所述第三阈值或所述保护气体中的氧含量大于所述第四阈值时， 所述第一电磁 阀 304 关闭， 所述供气装置 30 不能向所述操作空间 10 输。
21、出所述保护气体 ； 其中， 所述第三 阈值小于所述第一阈值 ； 所述第四阈值小于所述第二阈值 ； 0048 当所述第二传感器组303检测的结果为所述进气端301输入的所述保护气体中的 水含量小于所述第三阈值和所述保护气体 中的氧含量小于所述第四阈值时， 所述第一电 磁阀 304 开启， 所述供气装置 30 能够向所述操作空间 10 输出所述保护气体。 0049 优选地， 所述操作平台还包括压力检测装置， 通常所述保护气体的压力大于一个 大气压， 当所述压力检测装置检测到所述保护气体的压力与大气压的差值小于一预设值 时， 所述供气装置 30 向所述操作空间 10 输出所述保护气体。所述预设值的范。
22、围为 1 毫巴 至 2 毫巴。 0050 当所述第一传感器组 40 不够灵敏， 或者纯化装置 20 漏气导致的水或者氧含量偏 高， 通过所述第二传感器 303 能够方便找出水或者氧含量异常原因， 同时当其中任意一组 传感器组检测到水或者氧含量偏高时， 进行报警， 利于对水或者氧含量异常及时处理。 0051 所述保护气体譬如为氮气。 0052 本发明的操作平台， 通过增加一组传感器， 解决了能够检测供气装置提供的保护 气体中水或氧含量， 以及提高检测结果的准确度和利于异常原因排查的技术问题。 0053 图 3 为本发明实施例中第二实施例中供气装置的第一种连接方式的结构示意图 ； 0054 请参照。
23、图 3， 所述操作平台包括操作空间 10、 纯化装置 20、 第一传感器组 40、 供气 装置 30 ： 0055 所述操作空间 10， 用来提供待操作物品的操作环境， 所述操作空间内设置有保护 气体， 其中所述保护气体用于防止所述待操作物品被氧化或被腐蚀 ； 所述操作空间 10 譬如 为封装 OLED 使用的手套箱 ； 所述待操作物品譬如为 OLED。 0056 所述纯化装置 20， 用来对所述操作空间 10 中的保护气体进行纯化处理， 所述纯化 装置20包括一气体输入端201和一气体输出端202 ； 其中所述操作空间10中的保护气体首 先进入所述气体输入端 201， 经所述纯化装置 20 。
24、纯化处理后由所述气体输出端 202 输出 ； 0057 所述第一传感器组 40 包括水传感器和氧传感器， 设置在所述纯化装置的气体输 入端 201， 用来检测所述操作空间 10 中的所述保护气体的水含量以及氧含量 ； 以及 0058 由于纯化装置 20 对保护气体进行纯化处理的能力是有限的， 当所述操作空间 10 中的保护气体的水和氧含量比较多时， 仅靠原有的所述纯化装置 20 不能对保护气体进行 纯化， 为了节省生产成本， 需要通过供气装置 30 向所述操作空间 10 输入所述保护气体， 即 进行换气， 即当所述第一传感器组 40 检测到所述保护气体中的水含量大于第一阈值或所 述保护气体中的。
25、氧含量大于第二阈值时， 所述供气装置 30 向所述操作空间输出所述保护 气体 ； 所述第一阈值譬如为 10ppm ； 所述第二阈值譬如为 10ppm ； ( 当然所述第一阈值和第 二阈值可以根据所述待操作物品所需的操作环境自行设定 )。 0059 所述供气装置 30 包括进气端 301 和出气端 302 ； 其中所述进气端 301 连接保护气 体存储箱， 用来输入所述保护气体 ； 所述出气端 302， 用来向所述操作空间 10 输出所述保护 说 明 书 CN 104201294 A 6 5/6 页 7 气体 ； 0060 所述供气装置 30 还包括第二传感器组 303 和第一电磁阀 304， 。
26、第二传感器组 303 包括水传感器和氧传感器， 用于检测所 述进气端 301 输入的所述保护气体的水含量以及 氧含量 ； 以及 0061 所述第一电磁阀 304， 设置在所述出气端 302 和所述进气端 301 之间， 用来根据所 述第二传感器组 303 的检测结果， 控制所述供气装置 30 向所述操作空间 10 输出所述保护 气体。 0062 优选地， 所述第一电磁阀 304 设置在第二传感器组 303 和所述出气端 302 之间。 0063 当所述第二传感器组303检测的结果为所述进气端301输入的所述保护气体中的 水含量大于所述第三阈值或所述保护气体中的氧含量大于所述第四阈值时， 所述第。
27、一电磁 阀 304 关闭， 所述供气装置 30 不能向所述操作空间 10 输出所述保护气体 ； 其中， 所述第三 阈值小于所述第一阈值 ； 所述第四阈值小于所述第二阈值 ； 0064 当所述第二传感器组303检测的结果为所述进气端301输入的所述保护气体中的 水含量小于所述第三阈值和所述保护气体中的氧含量小于所述第四阈值时， 所述第一电磁 阀 304 开启， 所述供气装置 30 能够向所述操作空间 10 输出所述保护气体。 0065 优选地， 所述操作平台还包括压力检测装置， 通常所述保护气体的压力大于一个 大气压， 当所述压力检测装置检测到所述保护气体的压力与大气压的差值小于一预设值 时， 。
28、所述供气装置 30 向所述操作空间 10 输出所述保护气体。所述预设值的范围为 1 毫巴 至 2 毫巴。 0066 本实施例和第一实施例的区别在于 ： 所述供气装置 30( 如图 4 虚线框所示 )， 还包 括第二电磁阀 305， 所述第二电磁阀 305 设置在第二传感器组 303 与所述进气端 301 之间。 0067 请参照图 4 和图 5， 其中图 4 为本发明实施例中第二实施例中供气装置的结构示 意图， 图 5 为本发明实施例中第二实施例的中供气装置的第一种连接方式的局部放大示意 图 ； 0068 当所述供气装置 30 不向所述操作空间 10 输出所述保护气体时， 此时将所述第二 电磁。
29、阀 305 关闭且将所述第一电磁阀 304 开启， 由于所述供气装置 30 的出气端 302 与所述 纯化装置 20 的气体输出端 202 连接， 使得所述保护气体能够从所述纯化装置 20 的气体输 出端 202 流向所述供气装置 30 的出气端 302， 因此可以使用所述第二传感器组 303 检测所 述纯化装置 20 的经过纯化处理后的所述保护气体中的水含量以及氧含量。 0069 图 6 为本发明实施例中第二实施例中供气装置的第二种连接方式的结构示意图 ； 0070 请参照图6， 当然所述供气装置30的出气端302也可以设置在所述纯化装置20的 气体输出端 202 位置的附近。由于靠近所述纯。
30、化装置 20 的气体输出端 202 位置处， 经过纯 化处理后的所述保护气体的水含量以及氧含量， 和所述纯化装置的气体输出端的所述保护 气体的水含量以及氧含量基本一致， 同样能够起到检测所述纯化装置 20 的经过纯化处理 后的所述保护气体的水含量以及氧含量的作用。 0071 当所述第一传感器组 40 不够灵敏， 或者纯化装置 20 漏气导致的水或者氧含量偏 高， 通过所述第二传感器 303 能够方便找出水或者氧含量异常原因， 同时当其中任意一组 传感器组检测到水 或者氧含量偏高时， 进行报警， 利于对水或者氧含量异常及时处理。 0072 结合图 4， 所述供气装置 30 还包括过滤膜 306，。
31、 所述过滤膜 306 连接在所述第二 说 明 书 CN 104201294 A 7 6/6 页 8 电磁阀 305 和所述第二传感器组 303 之间。由于所述供气装置 30 输入的保护气体中含有 杂质和大分子 ( 相对分子质量在 5000 以上 ) 的水和氧。由于杂质和大分子的水和氧气会 氧化水传感器或者氧传感器的探头， 同时如果杂质和大分子的水和氧气被输出到操作空间 时， 会对所述操作空间内的待操作物品造成损坏。因而增加所述过滤膜 306， 可以进一步对 水传感器、 氧传感器、 以及待操作物品起到保护作用。所述保护气体譬如为氮气。 0073 本发明的操作平台， 通过增加一组传感器， 可以解决。
32、现有技术不能够检测所述纯 化装置经过纯化处理后的所述保护气体的水含量以及氧含量的技术问题。 0074 综上所述， 虽然本发明已以优选实施例揭露如上， 但上述优选实施例并非用以限 制本发明， 本领域的普通技术人员， 在不脱离本发明的精神和范围内， 均可作各种更动与润 饰， 因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。 说 明 书 CN 104201294 A 8 1/4 页 9 图 1 说 明 书 附 图 CN 104201294 A 9 2/4 页 10 图 2 说 明 书 附 图 CN 104201294 A 10 3/4 页 11 图 3 图 4 说 明 书 附 图 CN 104201294 A 11 4/4 页 12 图 5 图 6 说 明 书 附 图 CN 104201294 A 12 。