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1、(10)申请公布号 CN 103135837 A (43)申请公布日 2013.06.05 CN 103135837 A *CN103135837A* (21)申请号 201210454944.7 (22)申请日 2012.11.13 100143365 2011.11.25 TW G06F 3/041(2006.01) (71)申请人 达鸿先进科技股份有限公司 地址 中国台湾新竹县湖口乡新竹工业区光 复路 12 号 (72)发明人 徐钒 赖纪光 (74)专利代理机构 上海一平知识产权代理有限 公司 31266 代理人 须一平 (54) 发明名称 低金属光泽可视性的触控面板的制作方法以 及其产。
2、品 (57) 摘要 一种低金属光泽可视性的触控面板的制作方 法， 包含一道在基板上形成具有预定线路图案的 透明导电线路的透明导电线路形成工序、 一道用 光可透射的绝缘材料在该基板上对应于该透明导 电线路形成绝缘层体的绝缘工序， 以及一道选择 性地用金属和合金作材料形成多层连接该透明导 电线路的导电层体而构成桥接线路的桥接线路形 成工序， 特别的是该桥接线路形成工序在镀膜形 成该导电层体的其中至少一层时， 是同时通入一 种作用气体使得所形成的该导电层体的反射率小 于采用的金属和合金的原始反射率， 进而让该桥 接线路的金属光泽降低而令使用人无法视觉察知 该桥接线路的存在。 (30)优先权数据 (5。
3、1)Int.Cl. 权利要求书 2 页 说明书 6 页 附图 5 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书2页 说明书6页 附图5页 (10)申请公布号 CN 103135837 A CN 103135837 A *CN103135837A* 1/2 页 2 1. 一种低金属光泽可视性的触控面板的制作方法， 包含 ： 一道透明导电线路形成工 序、 一道绝缘工序， 以及一道桥接线路形成工序 ； 该导电线路形成工序是在一片光可透射的 基板上用光可透射且阻抗低的导电材料， 形成一层具有预定线路图案的透明导电线路 ； 而 该绝缘工序是用光可透射的绝缘材料在该基板上对应。
4、于该透明导电线路， 形成一层覆盖该 基板未形成有该透明导电线路的区域以及该透明导电线路预定区域的绝缘层体 ； 其特征在 于 ： 该桥接线路形成工序是选用金属和合金材料， 自该绝缘层体依序镀膜形成多层连接该 透明导电线路未被该绝缘层体覆盖的区域的导电层体， 而使所述的导电层体构成一层与该 透明导电线路电连接的桥接线路， 且在镀膜形成所述的导电层体其中至少一层时， 同时通 入一种作用气体使得所形成的该导电层体的反射率小于采用的金属和合金的原始反射率。 2. 如权利要求 1 所述的低金属光泽可视性的触控面板的制作方法， 其特征在于 ： 该桥 接线路形成工序是依序选用钼铌合金、 铝、 钼铌合金作材料溅。
5、射形成三层导电层体而构成 该桥接线路， 且用钼铌合金作材料溅射形成其中一层导电层体时， 是同时通入氧气和氩气 作为该作用气体， 而使得形成的该导电层体的反射率小于钼铌合金的原始反射率。 3. 如权利要求 1 所述的低金属光泽可视性的触控面板的制作方法， 其特征在于 ： 该桥 接线路形成工序是依序选用钼、 铝、 钼作材料溅射形成三层导电层体而构成该桥接线路， 且 用钼作材料溅射形成其中一层导电层体时， 是同时通入氧气和氩气作为该作用气体， 而使 得形成的该导电层体的反射率小于钼的原始反射率。 4. 如权利要求 2 或 3 所述的低金属光泽可视性的触控面板的制作方法， 其特征在于 ： 该桥接线路形。
6、成工序在形成该导电层体时， 通入氧气和氩气作为该作用气体， 氧气和氩气 的比例是 5 50 95 50。 5. 如权利要求 4 所述的低金属光泽可视性的触控面板的制作方法， 其特征在于 ： 该桥 接线路形成工序中， 用铝作材料溅射形成的导电层体的厚度大于用钼、 钼铌合金其中任一 种作为材料构成的导电层体的厚度。 6. 如权利要求 5 所述的低金属光泽可视性的触控面板的制作方法， 其特征在于 ： 还包 含一道保护工序， 用光可透射且硬度高的透明材料在该透明导电线路、 绝缘层体和桥接线 路上形成一层用于隔绝并保护该透明导电线路、 绝缘层体和桥接线路的透明保护层体。 7. 一种低金属光泽可视性的触控。
7、面板， 包含 ： 一片光可透射的基板、 一层透明导电线 路、 一层绝缘层体， 以及一层桥接线路 ； 该透明导电线路是用光可透射且阻抗低的导电材料 形成在该基板上 ； 而该绝缘层体是用光可透射的绝缘材料对应于该透明导电线路形成在该 基板上， 并覆盖该基板未形成有该透明导电线路的区域以及该透明导电线路预定区域 ； 其 特征在于 ： 该桥接线路包括多层分别用金属和合金其中一种作材料、 自该绝缘层体依序镀 膜形成而连接该透明导电线路未被该绝缘层体覆盖的区域的导电层体， 且所述的导电层体 其中至少一层在镀膜形成时， 通入一作用气体而使得形成的该导电层体的反射率小于采用 的金属和合金的原始反射率。 8. 。
8、如权利要求 7 所述的低金属光泽可视性的触控面板， 其特征在于 ： 该桥接线路包括 三层依序选用钼铌合金、 铝、 钼铌合金作材料溅射形成的导电层体， 且用钼铌合金作材料溅 射形成其中一层导电层体时， 是同时通入氧气和氩气作为该作用气体， 使得形成的导电层 体的反射率小于钼铌合金的原始反射率。 9. 如权利要求 7 所述的低金属光泽可视性的触控面板， 其特征在于 ： 该桥接线路包括 权 利 要 求 书 CN 103135837 A 2 2/2 页 3 三层依序选用钼、 铝、 钼作材料溅射形成的导电层体， 且用钼作材料溅射形成其中一层导电 层体时， 是同时通入氧气和氩气作为该作用气体， 使得形成的。
9、导电层体的反射率小于钼的 原始反射率。 10. 如权利要求 8 或 9 所述的低金属光泽可视性的触控面板， 其特征在于 ： 通入氧气和 氩气作为该作用气体时， 氧气和氩气的比例是 5 50 95 50。 11. 如权利要求 10 所述的低金属光泽可视性的触控面板， 其特征在于 ： 用铝作材料溅 射形成的导电层体的厚度大于用钼、 钼铌合金其中任一种作为材料构成的导电层体的厚 度。 12. 如权利要求 11 所述的低金属光泽可视性的触控面板， 其特征在于 ： 还包含一层用 光可透射且硬度高的透明材料形成在该透明导电线路、 绝缘层体和桥接线路的透明保护层 体。 权 利 要 求 书 CN 103135。
10、837 A 3 1/6 页 4 低金属光泽可视性的触控面板的制作方法以及其产品 技术领域 0001 本发明涉及一种触控面板的制作方法以及其产品， 特别是涉及一种低金属光泽可 视性的触控面板的制作方法以及其产品。 背景技术 0002 参阅图 1， 触控面板 1 连结于用于显示影像的显示面板 ( 图未示出 ) 上， 包含一片 光可透射的玻璃基板11、 一层形成在该玻璃基板11上的透明导电线路12、 一层形成在该玻 璃基板 11 上而覆盖该玻璃基板 11 未形成有该透明导电线路 12 的区域以及该透明导电线 路 12 预定区域的绝缘层体 13、 一层用金属及 / 或合金构成而电连接该透明导电线路 1。
11、2 未 被该绝缘层体13覆盖的区域的桥接线路14， 以及一层形成在该透明导电线路12、 绝缘层体 13 和桥接线路 14 上用于隔绝并保护所述的结构的透明保护层体 15， 令使用人可以在看到 显示面板所显现的影像的同时， 通过例如手指或触控笔等施加压力于该触控面板 1 而传输 电信号， 进而完成例如资料传输、 程序使用等事项。 0003 上述该触控面板 1 的制作过程， 是先在该玻璃基板 11 上用例如铟锡氧化物 (ITO) 等光可透射且阻抗低的透明导电材料， 形成具有预定线路图案的透明导电线路 12 后， 再用 例如光阻等光可透射的绝缘材料在该玻璃基板 11 上对应于该透明导电线路 12， 。
12、形成覆盖 该玻璃基板 11 未形成有该透明导电线路 12 的区域以及该透明导电线路 12 预定区域的绝 缘层体 13， 接着， 用例如铝、 铜等阻值低而利于电传导的金属及 / 或合金镀膜， 形成与该透 明导电线路 12 电连接的桥接线路 14， 最后， 在形成的该透明导电线路 12、 绝缘层体 13 和桥 接线路 14 镀覆上用于隔绝外界且硬度高的透明保护层体 15 后， 即完成该触控面板 1 的制 作。 0004 因为该桥接线路 14 用于电连接该透明导电线路 12， 不但需要低阻抗且需同时配 合该透明导电线路 12， 如此在操作该触控面板 1 时才能正确传输预定的电信号， 进而完成 例如资。
13、料传输、 程序使用等事项， 也因此， 需使用例如铝、 铜等阻值低而利于电传导的金属 及 / 或合金材料， 同时在镀膜形成该桥接线路 14 时， 需要在通入氩气的真空环境中进行溅 射， 避免混入杂质而导致所形成的桥接线路 14 阻值增加， 影响该触控面板 1 的电性表现。 0005 但是， 上述的触控面板 1 也因为该桥接线路 14 是需要用例如铝、 铜等阻值低而利 于电传导的金属及 / 或合金作为材料， 并在通入氩气的真空环境中进行溅射， 所以具备构 成的金属材料或合金材料的金属光泽， 因此， 在使用时会出现高金属光泽可视性而影响使 用人观看影像的问题。对此， 目前的改善方案是重新设计该透明导。
14、电线路 12 和该桥接线 路 14 的线路布局 (layout)， 借由改变线宽、 线路间距、 甚或是方式而令使用人在使用时不 易察觉该桥接线路 14 的金属光泽， 或是再增设一层遮光层， 但这些方案不但会增加工序成 本， 也具有过多先天物理光学上的限制而不易实现， 所以关于该触控面板 1 桥接线路 14 的 高金属光泽可视性高而影响使用人观看影像的问题， 仍需要加以研究改善。 发明内容 说 明 书 CN 103135837 A 4 2/6 页 5 0006 本发明的目的在于提供一种不影响使用人观看影像的低金属光泽可视性的触控 面板的制作方法。 0007 此外， 本发明的另一目的在于提供一种不。
15、影响使用人观看影像的低金属光泽可视 性的触控面板。 0008 本发明一种低金属光泽可视性的触控面板的制作方法， 包含 ： 一道透明导电线路 形成工序、 一道绝缘工序， 以及一道桥接线路形成工序。 0009 该透明导电线路形成工序是在一片光可透射的基板上用光可透射且阻抗低的导 电材料， 形成一层具有预定线路图案的透明导电线路。 0010 该绝缘工序是用光可透射的绝缘材料在该基板上对应于该透明导电线路， 形成一 层覆盖该基板未形成有该透明导电线路的区域以及该透明导电线路预定区域的绝缘层体。 0011 该桥接线路形成工序是选择性地用金属和合金材料， 自该绝缘层体依序镀膜形成 多层连接该透明导电线路未。
16、被该绝缘层体覆盖的区域的导电层体， 而使所述的导电层体构 成一层与该透明导电线路电连接的桥接线路， 且所述的导电层体其中至少一层在镀膜时同 时通入一种作用气体， 使得所形成的该导电层体的反射率小于采用的金属和合金的原始反 射率。 0012 本发明低金属光泽可视性的触控面板的制作方法的目的以及解决其技术问题， 还 可采用以下技术措施进一步实现。 0013 较佳地， 该桥接线路形成工序是依序选用钼铌合金、 铝、 钼铌合金作材料溅射形成 三层导电层体而构成该桥接线路， 且用钼铌合金作材料溅射形成其中一层导电层体时， 是 同时通入氧气和氩气作为该作用气体， 而使得形成的该导电层体的反射率小于该钼铌合金。
17、 的原始反射率。 0014 较佳地， 该桥接线路形成工序是依序选用钼、 铝、 钼作为材料， 溅射形成三层导电 层体而构成该桥接线路， 且用钼作材料溅射形成其中一层导电层体时， 是同时通入氧气和 氩气作为该作用气体， 而使得形成的该导电层体的反射率小于该钼的原始反射率。 0015 较佳地， 该桥接线路形成工序通入氧气和氩气作为该作用气体形成该导电层体 时， 氧气和氩气的比例是 5 50 ： 95 50。 0016 较佳地， 该桥接线路形成工序中， 用铝作材料溅射形成的该导电层体的厚度大于 用钼、 钼铌合金其中任一种材料构成的该导电层体的厚度。 0017 较佳地， 所述的低金属光泽可视性的触控面板。
18、的制作方法还包含一道保护工序， 用光可透射且硬度高的透明材料在该透明导电线路、 绝缘层体和桥接线路上形成一层用于 隔绝并保护该透明导电线路、 绝缘层体和桥接线路的透明保护层体。 0018 此外， 本发明一种低金属光泽可视性的触控面板， 包含一片光可透射的基板、 一层 透明导电线路、 一层绝缘层体， 以及一层桥接线路。 0019 该透明导电线路形成在该基板上并选自光可透射且阻抗低的导电材料。 0020 该绝缘层体选自光可透射的绝缘材料且对应于该透明导电线路形成在该基板上， 并覆盖该基板未形成有该透明导电线路的区域以及该透明导电线路预定区域。 0021 该桥接线路包括多层分别用金属和合金其中一种作。
19、为材料、 自该绝缘层体依序镀 膜形成并连接该透明导电线路未被该绝缘层体覆盖的区域的导电层体， 且所述的导电层体 其中至少一层在镀膜形成时通入一作用气体， 而使得形成的该导电层体的反射率小于采用 说 明 书 CN 103135837 A 5 3/6 页 6 的金属和合金的原始反射率。 0022 本发明低金属光泽可视性的触控面板的目的以及解决其技术问题， 还可采用以下 技术措施进一步实现。 0023 较佳地， 该桥接线路包括三层依序选用钼铌合金、 铝、 钼铌合金作材料溅射形成的 导电层体， 且用钼铌合金作材料溅射形成其中一层导电层体时， 是同时通入氧气和氩气作 为该作用气体， 而使得形成的该导电层。
20、体的反射率小于钼铌合金的原始反射率。 0024 较佳地， 该桥接线路包括三层依序选用钼、 铝、 钼作材料溅射形成的导电层体， 且 用钼作材料溅射形成其中一层导电层体时， 是同时通入氧气和氩气作为该作用气体， 而使 得形成的该导电层体的反射率小于钼的原始反射率。 0025 较佳地， 通入氧气和氩气作为该作用气体时， 氧气和氩气的比例是 5 50 ： 95 50。 0026 较佳地， 用铝作材料溅射形成的该导电层体的厚度， 大于用钼铌合金、 钼其中任一 种作材料构成的该导电层体的厚度。 0027 较佳地， 所述的低金属光泽可视性的触控面板还包含一层用光可透射且硬度高的 透明材料， 形成在该透明导电。
21、线路、 绝缘层体和桥接线路的透明保护层体。 0028 本发明的有益效果在于 ： 在镀膜形成该桥接线路时， 同时通入该作用气体使得形 成的该导电层体的反射率小于原镀膜形成材料， 进而使该桥接线路的金属光泽可视性降 低， 而令使用人在观看影像时不因该桥接线路的存在而受到影响。 附图说明 0029 图 1 是说明现有的触控面板的示意图 ； 0030 图 2 是说明本发明低金属光泽可视性的触控面板的制作方法的一较佳实施例的 流程图 ； 0031 图3是说明一由图2所示本发明低金属光泽可视性的触控面板的制作方法的较佳 实施例所制作的低金属光泽可视性的触控面板的示意图 ； 0032 图4是说明实施图2所示。
22、本发明低金属光泽可视性的触控面板的制作方法的较佳 实施例的一透明导电线路形成工序所制得的工序产品的示意图 ； 0033 图5是说明实施图2所示本发明低金属光泽可视性的触控面板的制作方法的较佳 实施例的一绝缘工序所制得的工序产品的示意图 ； 0034 图6是说明实施图2所示本发明低金属光泽可视性的触控面板的制作方法的较佳 实施例的一桥接线路形成工序所制得的工序产品的示意图 ； 0035 图 7 是说明 GOG 结构的现有触控面板的桥接线路， 和本发明制作的低金属光泽可 视性的触控面板的桥接线路的反射率测量结果 ； 0036 图 8 是说明 GOG 结构的现有触控面板的桥接线路的可视性的显微镜光学。
23、照片 ； 0037 图 9 是说明本发明制作的低金属光泽可视性的触控面板的桥接线路的可视性的 显微镜光学照片 ； 0038 图10是说明OGS结构的现有触控面板的桥接线路， 和本发明制作的低金属光泽可 视性的触控面板的桥接线路的反射率测量结果 ； 0039 图 11 是说明 OGS 结构的现有触控面板的桥接线路的可视性的显微镜光学照片 ； 说 明 书 CN 103135837 A 6 4/6 页 7 0040 图 12 是说明本发明制作的低金属光泽可视性的触控面板的桥接线路的可视性的 显微镜光学照片。 具体实施方式 0041 下面结合附图及实施例对本发明进行详细说明 ： 0042 参阅图 2、。
24、 3， 本发明低金属光泽可视性的触控面板的制作方法的一个较佳实施例， 包含一道透明导电线路形成工序 21、 一道绝缘工序 22、 一道桥接线路形成工序 23， 以及一 道保护工序 24， 而制作出如图 3 所示并可与显示面板 ( 图未示出 ) 连结设置的触控面板 3， 而配合由显示面板提供影像并经由压触该触控面板 3 传输电信号， 完成例如资料传输、 指 令下达、 程序应用等事项。 0043 先参阅图 3， 该触控面板 3 包含一片光可透射的玻璃基板 31、 一层透明导电线路 32、 一层绝缘体层 33、 一层桥接线路 34， 以及一层透明保护层体 35。 0044 该透明导电线路 32 选自。
25、光可透射且阻抗低的导电材料， 例如铟锡氧化物 (ITO)， 形成在该玻璃基板 31 上并具有预定的线路图案。 0045 该绝缘层体33选自光可透射的绝缘材料， 例如光阻， 对应于该透明导电线路32形 成在该基板 31 上， 并覆盖该基板 31 未形成有该透明导电线路 32 的区域以及该透明导电线 路 32 预定区域。 0046 该桥接线路 34 包括三层分别用钼铌合金、 铝、 钼铌合金作材料、 自该绝缘层体 33 依序镀膜形成的导电层体 341， 而所述的导电层体 341 分别连接该透明导电线路 32 未被该 绝缘层体33覆盖的区域， 且所述的导电层体341中， 用铝作材料溅射形成的该导电层体。
26、341 的厚度大于用钼铌合金作材料构成的导电层体 341 的厚度 ； 用钼铌合金作材料溅射形成其 中一层导电层体341时， 同时通入一作用气体， 使得形成的该导电层体341的反射率小于采 用的钼铌合金的原始反射率， 关于这部分的技术细节请容后于说明本发明较佳实施例时再 详述。 0047 该透明保护层体 35 选自光可透射且硬度高的透明材料， 例如光阻、 氧化硅 (SiO2) 等， 形成在该透明导电线路 32、 绝缘层体 33 和桥接线路 34 上用于隔绝并保护所述的结构。 0048 该触控面板 3 与显示面板连结设置时， 可配合由该显示面板提供影像并经由手指 等触摸该触控面板 3 使电容产生变。
27、化， 进而传输电信号， 完成例如资料传输、 指令下达、 程 序应用等事项。特别的是， 由于会直接影响使用人观看影像的该桥接线路 34 的其中一层导 电层体 341， 是用钼铌合金作材料并在溅射形成时通入该作用气体， 而使得反射率小于钼铌 合金的原始反射率， 所以其金属光泽可视性极低， 而令使用人在观看影像时确实不会受到 该桥接线路 34 存在的影响， 而彻底解决目前触控面板 1 因为该桥接线路 14 的高金属光泽 可视性， 而影响使用人观看影像的问题。 0049 参阅图 2、 4， 在实施制作上述低金属光泽可视性的该触控面板 3 时， 是先实施该透 明导电线路形成工序 21， 在光可透射的该玻。
28、璃基板 31 上形成具有预定线路图案的该透明 导电线路 32， 该透明导电线路 32 选用光可透射且阻抗低的导电材料 ( 例如铟锡氧化物 )。 0050 参阅图 2、 5， 接着进行该绝缘工序 22， 选用光可透射的绝缘材料， 例如光阻在该玻 璃基板 31 上对应于该透明导电线路 32， 形成覆盖该玻璃基板 31 未形成有该透明导电线路 32 的区域以及该透明导电线路 32 预定区域的该绝缘层体 33。 说 明 书 CN 103135837 A 7 5/6 页 8 0051 参阅图 2、 6， 再来进行该桥接线路形成工序 23， 选择性地用金属和合金作材料， 自 该绝缘层体 33 依序镀膜， 。
29、形成多层连接该透明导电线路 32 未被该绝缘层体 33 覆盖的区 域的导电层体 341， 而所述的导电层体 341 构成与该透明导电线路 32 电连接的该桥接线路 34， 且在镀膜形成所述的导电层体 341 其中至少一层时， 是同时通入该作用气体， 而使得形 成的该导电层体 341 的反射率小于采用的金属和合金的原始反射率。 0052 详细地说， 该桥接线路形成工序 23 是先采用钼铌合金作材料溅射厚度极薄的第 一层导电层体 341， 并在溅射的同时通入氧气和氩气作为该作用气体， 其中氧气和氩气的比 例是 5 50 ： 95 50， 而使得形成的该第一层导电层体 341 的组成是钼铌合金氧 化。
30、物 (MoNbOX)， 进而降低该第一层导电层体 341 的反射率 ； 再用铝作材料并在通入氩气的 高真空环境下， 溅射形成厚度较厚而作为主要电导通结构的第二层导电层体 341 ； 最后， 同 样采用钼铌合金作材料并在通入氩气的高真空环境下， 溅射形成厚度极薄的第三层导电层 体 341， 而构成该桥接线路 34 ； 借由三层厚度、 组成、 反射率均不同的导电层体 341， 特别是 直接被使用人观看到的该第一层导电层体 341 是由反射率低而金属光泽可视性差的钼铌 合金氧化物构成， 会造成薄膜干涉现象， 进而在使用人观看影像时不被视觉察知而影响使 用人。 0053 另外， 虽然钼铌合金氧化物的阻。
31、抗较钼铌合金高， 但因为该层钼铌合金氧化物导 电层体 341， 主要是利用其接触阻抗 (contact resistance)， 且该桥接线路 34 主要是用厚 度较厚且阻抗低的铝导电层体 341 作为电导通的结构， 所以并不影响整体电路的动作。 0054 参阅图 2、 3， 最后进行该保护工序 24， 选用光可透射且硬度高的透明材料， 在该透 明导电线路 32、 绝缘层体 33 和桥接线路 34 上形成用于隔绝并保护该透明导电线路 32、 绝 缘层体 33 和桥接线路 34 的透明保护层体 35， 即完成本发明低金属光泽可视性的该触控面 板 3。 0055 另外要补充说明的是， 该桥接线路形。
32、成工序 23 中， 还可以用钼作材料并配合通 入该作用气体， 溅射形成该导电层体 341， 通入的该作用气体是比例为 5 50 ： 95 50的氧气和氩气， 所形成的该导电层体 341 的组成是钼的氧化物 (MoOX)， 且反射率小 于钼的原始反射率， 进而使该桥接线路 34 借由三层厚度、 组成、 反射率均不同的导电层体 341， 而呈现低金属光泽可视性， 进而在使用人观看影像时不被视觉察知而影响使用人。 0056 参阅图 7， 目前 GOG 结构 (Glass to Glass， 即业界通称 touch sensor glass 及 cover glass 2 片玻璃对贴工序所制成的触控面。
33、板结构 ) 的触控面板的桥接线路 ( 由钼铌 合金、 铝、 钼铌合金为导电层体所构成 ) 由 Cary-300( 美商 VARIAN Cary-300 UV/VIS， 紫外 光可见光光谱仪 ) 测量得到的反射率约为 54.77 ； 而由上述本发明制作方法的较佳实施 例所制作的低金属光泽可视性的该触控面板的桥接线路 ( 由钼铌合金、 铝、 钼铌合金氧化 物为导电层体所构成)， 由相同Cary-300机台测量得到的反射率最低可达31.46， 降幅达 到 42.6左右 ； 再参阅图 8、 9， 实际对二种触控面板进行光学拍照， 可以看出目前 GOG 结构 触控面板的桥接线路会反光而发亮， 而本发明制。
34、作的低金属光泽可视性的该触控面板的桥 接线路， 在相同的灯源强度下不反光而仅呈现不明显轮廓， 因此虽然目前 GOG 结构触控面 板的桥接线路的 CD（特征尺寸） 值约 6.3m， 较本发明制作的该桥接线路的 CD 值约 11m 来得细， 但却明显影响观看， 因此验证本发明确实具有低金属光泽可视性而不被使用人观 看查知。 说 明 书 CN 103135837 A 8 6/6 页 9 0057 参阅图 10， 目前 OGS 结构 (One Glass Solution， 即单片 touch sensor glass 结 构 ) 的触控面板的桥接线路 ( 由钼铌合金、 铝、 钼铌合金为导电层体所构成。
35、 ) 由 Cary-300 测量得到的反射率约为 43.16 ； 而用上述本发明制作方法的较佳实施例所制作的该触控 面板 ( 桥接线路由钼铌合金氧化物、 铝、 钼铌合金为导电层体所构成 )， 由相同 Cary-300 机 台测量得到的反射率最低可达 9.63， 降幅达到 80左右 ； 再参阅图 11、 12， 实际对二种触 控面板进行光学拍照比较， 可以看出本发明制作的该触控面板， 在相同的灯源强度下该桥 接线路不但不明显且亮度也较暗， 验证本发明确实具有低金属光泽可视性而不被使用人观 看察知。 0058 综上所述， 本发明提出一种低金属光泽可视性的触控面板的制作方法， 主要是在 用金属或合金。
36、作材料镀膜制作多层导电层体构成该桥接线路时， 同时通入该作用气体而使 得形成的导电层体的组成材料的反射率降低而小于采用的金属或合金的原始反射率， 借此 让多层导电层体构成的桥接线路， 借由不同厚度、 组成、 反射率的导电层体而造成薄膜干涉 现象， 而直接被使用人观看到的导电层体具有低金属光泽可视性， 进而不影响使用人观看 到的影像 ； 相较于目前的改善方法， 本发明无需增加新工序而使生产成本增加， 也无需设计 透明导电线路和桥接线路的线路图案布局， 即可降低该桥接线路的可视性， 确实达成本发 明的目的。 0059 惟以上所述的内容， 仅为本发明的较佳实施例而已， 应当不能以此限定本发明实 施的。
37、范围， 即凡依本发明申请专利范围及发明说明内容所作的简单的等效变化与修饰， 皆 仍属本发明专利涵盖的范围内。 说 明 书 CN 103135837 A 9 1/5 页 10 图 1 图 2 说 明 书 附 图 CN 103135837 A 10 2/5 页 11 图 3 图 4 图 5 说 明 书 附 图 CN 103135837 A 11 3/5 页 12 图 6 图 7 说 明 书 附 图 CN 103135837 A 12 4/5 页 13 图 8 图 9 说 明 书 附 图 CN 103135837 A 13 5/5 页 14 图 10 图 11图 12 说 明 书 附 图 CN 103135837 A 14 。