掺杂TIOSUB2/SUB低压压敏陶瓷及制作方法.pdf

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摘要
申请专利号:

CN200410028064.9

申请日:

2004.07.14

公开号:

CN1594203A

公开日:

2005.03.16

当前法律状态:

终止

有效性:

无权

法律详情:

专利权的终止(未缴年费专利权终止)授权公告日:2006.8.23|||授权|||实质审查的生效|||公开

IPC分类号:

C04B35/46; C04B35/622; H01C7/115

主分类号:

C04B35/46; C04B35/622; H01C7/115

申请人:

广州大学;

发明人:

周方桥; 梁鸿东; 朱道云; 丁志文; 庄严

地址:

510405广东省广州市解放北路桂花岗东1号

优先权:

专利代理机构:

广州市新诺专利事务所有限公司

代理人:

华辉

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内容摘要

本发明公开了一种掺杂TiO2低压压敏陶瓷,其以分析纯TiO2为主体,以Ta2O5为半导化掺杂物,SrCO3为受主掺杂物,并掺入适量的Bi2O3、SiO2作助烧剂烧结而成。本发明的特点在于:以Ta2O5代替Nb2O5等5价金属氧化物作为半导化掺杂物,可使TiO2为基的压敏陶瓷具有更低的压敏电压和更高的介电系数;改变受主SrCO3的掺杂量,可以调节该材料的相关电性能参数;与SrTiO3系低压压敏陶瓷相比,工艺、设备都相对简单,成本降低。本发明所制得的陶瓷材料的视在介电系数ε一般可达105以上,E10mA一般为1-10V/mm,α的值可达到3.0以上,其性能参数可以通过调整组成和烧结条件而有所变化。

权利要求书

1.  一种掺杂TiO2低压压敏陶瓷,其特征在于:组成配方由以下原料按净值摩尔比计算:
主体              TiO2         1
半导化掺杂物质    Ta2O5       0.0005~0.0010
助烧剂            Bi2O3       0.001~0.005
助烧剂            SiO2         0.005~0.015
受主掺杂物质      SrCO3        0.005~0.012

2.
  一种掺杂TiO2低压压敏陶瓷的制作方法,其特征在于:包括以下步骤:按照权利要求1所述的组成配方进行配料—球磨—干燥—预烧—球磨—干燥—造粒—干压成型—烧结。

3.
  根据权利要求2所述的掺杂TiO2低压压敏陶瓷的制作方法,其特征在于:所述烧结的烧结温度为1200-1300℃。

4.
  根据权利要求2所述的掺杂TiO2低压压敏陶瓷的制作方法,其特征在于:所述的烧结采用同成份粉料掩埋烧结工艺。

说明书

掺杂TiO2低压压敏陶瓷及制作方法
技术领域
本发明属于电子元器件材料领域,特别涉及一种掺杂TiO2低压压敏陶瓷。
背景技术
对于低压电器的过电压及电磁干扰的保护,可以借助于一种具有较大电容量的压敏电阻元件。压敏电阻的电流-电压特性一般表示为:
I = ( V C ) a ]]>
式中I为电流,V为器件电压,C为材料常数,α为非线性系数,α=1时元件为固定电阻。在工程技术上,非线性系数被定义为:
α = log ( I 2 / I 1 ) log ( V 2 / V 1 ) ]]> α = log ( J 2 / J 1 ) log ( E 2 / E 1 ) ]]>
对于ZnO压敏电阻一般用前式,式中V1、V2为流经电流为I1、I2时样品的端电压,且定义I1、I2分别为0.1mA和1mA;而对于非ZnO压敏电阻用后式,且定义流经电流密度J1、J2分别为1mA/cm2和10mA/cm2时样品的场强为E1、E2。一般V2和E2统称为压敏电压,其中E2又记作E10(或E10mA)。此外,对于抗高频电干扰的应用,介电系数也是一个重要的指标参数,高的介电系数才能保证大的极间电容。
例如在微型直流电机电刷火花的防护的应用中,广泛使用一种环形压敏电阻器,目前所使用的材料一般为掺杂SrTiO3或ZnO压敏陶瓷。但是,ZnO压敏陶瓷的压敏电压较高,而且介电系数很小,抗高频电磁干扰的能力差;而SrTiO3压敏陶瓷元件必须在还原性气氛中烧成,然后在氧化性气氛中氧化,制作工艺复杂,成本高,而且这类表面型元件的压敏电压调整困难,不利于产品的系列化。
发明内容
为解决上述问题,本发明的目的是提供一种适用于低电压并具有高介电系数值的,制作工艺简单的掺杂TiO2低压压敏陶瓷。
本发明地另一个目的是提供一种掺杂TiO2低压压敏陶瓷的制作方法。
本发明的目的是这样实现的:一种掺杂TiO2低压压敏陶瓷,其特征在于:组成配方由以下原料按净值摩尔比计算:
主体TiO2               1
半导化掺杂物Ta2O5     0.0005~0.0010
助烧剂Bi2O3           0.001~0.005
助烧剂SiO2             0.005~0.015
受主掺杂物SrCO3        0.005~0.012
一种掺杂TiO2低压压敏陶瓷的制作方法,其特征在于:包括以下步骤:按上述组成配方进行配料—球磨—干燥—预烧—球磨—干燥—造粒—干压成型—烧结。
本发明以分析纯TiO2为主体,Ta2O5为半导化(施主)掺杂物,SrCO3为受主掺杂物,再掺入适量的Bi2O3、SiO2作助烧剂;采用传统的电子陶瓷制作工艺,只是烧结时采用同成份粉料掩埋烧结,烧结温度为1200~1300℃。与SrTiO3系低压压敏陶瓷相比,工艺、设备都相对简单,成本降低。而且,所制得的陶瓷材料的视在介电系数一般可达105以上,E10mA一般为1-10V/mm,α的值可达到3.0以上。
具体实施方式
本发明的一种掺杂TiO2低压压敏陶瓷,其原料为TiO2、Ta2O5、Bi2O3、SiO2和SrCO3,其组成配比由以下原料按净值摩尔比计算:TiO2(1):Ta2O5(0.0005~0.0010):Bi2O3(0.001~0.005):SiO2(0.005~0.015):SrCO3(0.005~0.012),可根据要求在本发明范围内适当变化。
首先按摩尔比计算和称取各原料;然后加去离子水或蒸馏水在行星式球磨机上进行球磨混料2~6小时,烘干后在900~1100℃温度下预烧1~2小时,预烧有利于降低压敏电压和增大视在介电系数;预烧后的料再次加去离子水或蒸馏水在行星式球磨机上球磨粉碎2~6小时,烘干,过筛,造粒,干压成型;成型后坯片叠放于刚玉坩埚内,采用掩埋烧结技术(用造粒过的同成份粉料将样片掩埋,刚玉坩埚加盖呈半开口状),在1200-1300℃烧结1~3小时,即制成本发明所述陶瓷。
下面结合具体的实施例对本发明做进一步的说明,但本发明的范围不限于这些特定例子。
实施例1:
配制时各组分摩尔比(净值)为TiO2(1)∶Ta2O5(0.00075)∶Bi2O3(0.003)∶SiO2(0.01)∶SrCO3(0.008、0.010或0.012)。
制作步骤:首先按上述摩尔比计算和称取各原料;然后用蒸馏水进行湿式球磨混料4小时;混料后烘干,在1000℃预烧1小时;再次用蒸馏水进行湿式球磨4小时,干燥后过筛、造粒,干压成型为φ12×1.1mm的样片;成型后样片叠放于刚玉坩埚内,采用埋烧的方法在1250℃烧结,保温2小时,即制成样品1~3。烧结后的样品尺寸为φ9×0.9mm的圆片样品,然后在样品的两端面烧制欧姆银电极,经测试其主要性能指标如表1所示。
表1  不同SrCO3含量样品的主要性能参数

 样品 序号  SrCO3掺量    (mol)  压敏电压E10mA     (V/mm)  非线性系数     α  相对介电系数     (1KHz)   1    0.008     9.50     3.82     7.18×104   2    0.010     5.62     3.41     1.19×105   3    0.012     5.92     3.42     1.21×105

比较例1:
配制比较样品,按组分摩尔比(净值)为TiO2(1)∶Ta2O5(0.00075)或Nb2O5(0.00075)∶Bi2O3(0.003)∶SiO2(0.01)∶SrCO3(0.010)进行配比,用与实施例1相同的工艺和烧成条件,制成类似的样品4、5。经测试,其主要性能指标对比如表2所示。
表2 Ta2O5和Nb2O5掺杂样品的主要性能参数比较 样品 序号不同掺杂元素掺量    (mol) 压敏电压E10mA    (V/mm) 非线性系数     α  相对介电系数     (1KHz)   4    Ta2O5     5.62    3.41   1.19×105   5    Nb2O5     33.1    5.00   2.85×104

由上表可以看出,除了非线性系数小于Nb2O5掺杂样品外,本发明陶瓷材料的各项性能指标优于现有的以Nb2O5等5价金属氧化物作为半导化掺杂物的陶瓷材料。
比较例2:
配制样品,按组分摩尔比(净值)为TiO2(1)∶Ta2O5(0.00075)∶Bi2O3(0.003)∶SiO2(0.01)∶SrCO3(0.010)进行配比,制得的生坯样片分别采用与实施例1相同的工艺和烧成条件,即掩埋烧结制成类似的样品6,采用传统的裸烧烧结工艺制得样品7。经测试,其主要性能指标对比如表3所示。
表3掩埋烧结与传统裸烧样品的主要性能参数比较 样品 序号    烧结条件 压敏电压E10mA     (V/mm) 非线性系数    α  相对介电系数     (1KHz)   6 掩埋烧结(1250℃)     5.62    3.41    1.19×105   7   裸烧(1250℃)     6.98    3.51    8.39×104

表中可见,掩埋烧结样品除了非性系数比裸烧样品略小外,其压敏电压较低,介电系数较大。

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本发明公开了一种掺杂TiO2低压压敏陶瓷,其以分析纯TiO2为主体,以Ta2O5为半导化掺杂物,SrCO3为受主掺杂物,并掺入适量的Bi2O3、SiO2作助烧剂烧结而成。本发明的特点在于:以Ta2O5代替Nb2O5等5价金属氧化物作为半导化掺杂物,可使TiO2为基的压敏陶瓷具有更低的压敏电压和更高的介电系数;改变受主SrCO3的掺杂量,可以调节该材料的相关电性能参数;与SrTiO3系低压压敏陶瓷相。

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