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1、(10)申请公布号 CN 104280997 A (43)申请公布日 2015.01.14 CN 104280997 A (21)申请号 201410589976.7 (22)申请日 2014.10.28 G03F 1/22(2012.01) (71)申请人 京东方科技集团股份有限公司 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路 10 号 申请人 北京京东方光电科技有限公司 (72)发明人 史大为 刘红亮 (74)专利代理机构 北京路浩知识产权代理有限 公司 11002 代理人 李相雨 (54) 发明名称 掩模板及其制造方法、 利用掩模板构图的方 法 (57) 摘要 本发明提供一种掩模板及其制造。
2、方法、 利用 掩模板构图的方法。该掩模板包括 ： 相对设置的 第一基板和第二基板 ； 位于所述第一基板与所述 第二基板之间的液晶层 ； 形成于所述第一基板上 的透明导电层， 所述透明导电层与所述液晶层位 于所述第一基板的同一侧 ； 以不透明导电材料形 成于所述第二基板上的掩模图案 ； 与所述透明导 电层及所述掩模图案相连的供压电路， 用于向所 述掩模图案与所述透明导电层之间提供预设的电 压。本发明通过对液晶盒的下电极构图以形成掩 模图案， 利用液晶在电场中偏转的性质实现了掩 模板不同区域内的透光率补偿， 解决了不同线密 度区域曝光剂量差别过大、 曝光显影后尺寸无法 控制的问题。 (51)Int。
3、.Cl. 权利要求书 2 页 说明书 7 页 附图 2 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书2页 说明书7页 附图2页 (10)申请公布号 CN 104280997 A CN 104280997 A 1/2 页 2 1. 一种掩模板， 其特征在于， 包括 ： 相对设置的第一基板和第二基板 ； 位于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层 ； 形成于所述第一基板上的透明导电层， 所述透明导电层与所述液晶层位于所述第一基 板的同一侧 ； 以不透明导电材料形成于所述第二基板上的掩模图案 ； 与所述透明导电层及所述掩模图案相连的供压电路， 用于向所述掩模图案与所述透。
4、明 导电层之间提供预设的电压。 2. 根据权利要求 1 所述的掩模板， 其特征在于， 所述第二基板上还包括以透明导电材 料形成的连接图案。 3. 根据权利要求 2 所述的掩模板， 其特征在于， 所述连接图案用于使所述第二基板上 的任意两个相互分离的部分掩模图案彼此电连接 ； 所述供压电路通过所述连接图案与所述掩模图案相连， 并包括一电压源， 所述电压源 用于向所述掩模图案与所述透明导电层之间提供预设的电压。 4. 根据权利要求 2 所述的掩模板， 其特征在于， 所述掩模图案分区域地形成于所述第 二基板上 ； 所述连接图案用于使所述第二基板上同一区域内的任意两个相互分离的部分掩模图 案彼此电连接。
5、 ； 所述供压电路分别与至少一个区域内的所述掩模图案相连， 并包括至少一个电压源， 所述至少一个电压源用于分别向至少一个区域内的所述掩模图案与所述透明导电层之间 提供一预设的电压。 5.根据权利要求1至4中任意一项所述的掩模板， 其特征在于， 所述掩模图案包括多个 间隔形成的条状电极。 6.根据权利要求1至4中任意一项所述的掩模板， 其特征在于， 所述掩模图案与所述液 晶层分别位于所述第二基板的两侧。 7.根据权利要求1至4中任意一项所述的掩模板， 其特征在于， 所述液晶层中的液晶具 有预倾角。 8.根据权利要求1至4中任意一项所述的掩模板， 其特征在于， 所述掩模图案的形成材 料包括金属铬。。
6、 9. 一种掩模板的制造方法， 其特征在于， 包括 ： 在第一基板上形成包括透明导电层的图形 ； 在第二基板上形成包括至少一个区域内的掩模图案的图形， 所述掩模图案的形成材料 包括不透明导电材料 ； 将所述第一基板与所述第二基板对位成盒， 并在所述第一基板与所述第二基板之间形 成液晶层， 所述透明导电层与所述液晶层位于所述第一基板的同一侧 ； 形成包括供压电路与所述透明导电层之间、 以及供压电路与所述掩模图案之间的电连 接， 所述供压电路用于向所述掩模图案与所述透明导电层之间提供预设的电压。 10. 根据权利要求 9 所述的方法， 其特征在于， 在所述在第二基板上形成包括至少一个 区域内的掩模。
7、图案的图形之后， 还包括 ： 权 利 要 求 书 CN 104280997 A 2 2/2 页 3 在所述第二基板上形成包括连接图案的图形， 所述连接图案的形成材料包括透明导电 材料， 所述连接图案用于使相互分离的部分掩模图案彼此电连接。 11. 一种利用掩模板构图的方法， 其特征在于， 所述掩模板为权利要求 1 至 8 中任意一 项所述的掩模板， 该方法包括 ： 通过所述供压电路向所述掩模图案与所述透明导电层之间提供预设的电压 ； 照射所述第一基板， 使部分光线依次透过所述第一基板、 所述透明导电层、 所述液晶 层、 所述第二基板， 并从第二基板上除所述掩模图案以外的区域内出射。 权 利 要。
8、 求 书 CN 104280997 A 3 1/7 页 4 掩模板及其制造方法、 利用掩模板构图的方法 技术领域 0001 本发明涉及显示技术领域， 具体涉及一种掩模板及其制造方法、 利用掩模板构图 的方法。 背景技术 0002 常规的掩模板的掩模图案在各个区域内的线密度大小存在差异， 例如对应于扫 描线的 fanout 配线 ( 扇形配线 ) 区域的掩模图案的线密度 ( 与 fanout 配线区域的布线 密度一致 ) 通常情况下相对很大 ( 或者说掩模图案中的透光间隙相对很小 )， 而对应于 pixel(像素)区域的掩模图案的线密度则相对很小(或者说掩模图案中的透光间隙相对很 大 )。在进行。
9、曝光时， 虽然掩模板中不同区域接收到的曝光剂量是相同的， 但是线密度的差 异会导致光在不同区域内的透射率存在差异 ( 例如图案较密集的区域内光线的透过率较 低 )， 这使得线密度大的区域所需的曝光剂量也更大， 因而不同区域内理想的曝光显影后尺 寸难以同时保证， 不利于掩模工艺的简化。 发明内容 0003 针对现有技术中的缺陷， 本发明提供一种掩模板及其制造方法、 利用掩模板构图 的方法， 以解决不同线密度区域曝光剂量差别过大、 曝光显影后尺寸无法控制的问题。 0004 第一方面， 本发明提供了一种掩模板， 包括 ： 0005 相对设置的第一基板和第二基板 ； 0006 位于所述第一基板与所述第。
10、二基板之间的液晶层 ； 0007 形成于所述第一基板上的透明导电层， 所述透明导电层与所述液晶层位于所述第 一基板的同一侧 ； 0008 以不透明导电材料形成于所述第二基板上的掩模图案 ； 0009 与所述透明导电层及所述掩模图案相连的供压电路， 用于向所述掩模图案与所述 透明导电层之间提供预设的电压。 0010 优选地， 所述第二基板上包括以透明导电材料形成的连接图案。 0011 优选地， 所述连接图案进一步用于使所述第二基板上的任意两个相互分离的部分 掩模图案彼此电连接 ； 0012 所述供压电路通过所述连接图案与所述掩模图案相连， 并包括一电压源， 所述电 压源用于向所述掩模图案与所述透。
11、明导电层之间提供一预设的电压。 0013 优选地， 所述掩模图案分区域地形成于所述第二基板上 ； 0014 所述连接图案进一步用于使所述第二基板上同一区域内的任意两个相互分离的 部分掩模图案彼此电连接 ； 0015 所述供压电路分别与至少一个区域内的所述掩模图案相连， 并包括至少一个电压 源， 所述至少一个电压源用于分别向至少一个区域内的所述掩模图案与所述透明导电层之 间提供预设的电压。 说 明 书 CN 104280997 A 4 2/7 页 5 0016 优选地， 所述掩模图案包括多个间隔形成的条状电极。 0017 优选地， 所述掩模图案与所述液晶层分别位于所述第二基板的两侧。 0018 。
12、优选地， 所述液晶层中的液晶具有预设的预倾角。 0019 优选地， 所述掩模图案的形成材料包括金属铬。 0020 第二方面， 本发明还提供了一种掩模板的制造方法， 包括 ： 0021 在第一基板上形成包括透明导电层的图形 ； 0022 在第二基板上形成包括至少一个区域内的掩模图案的图形， 所述掩模图案的形成 材料包括不透明导电材料 ； 0023 将所述第一基板与所述第二基板对位成盒， 并在所述第一基板与所述第二基板之 间形成液晶层， 所述透明导电层与所述液晶层位于所述第一基板的同一侧 ； 0024 形成包括供压电路与所述透明导电层之间、 以及供压电路与所述掩模图案之间的 电连接， 所述供压电路。
13、用于向所述掩模图案与所述透明导电层之间提供预设的电压。 0025 优选地， 在所述在第二基板上形成包括至少一个区域内的掩模图案的图形之后， 还包括 ： 0026 在所述第二基板上形成包括连接图案的图形， 所述连接图案的形成材料包括透明 导电材料， 所述连接图案用于使相互分离的部分掩模图案彼此电连接。 0027 第三方面， 本发明还提供了一种利用掩模板构图的方法， 所述掩模板为上述任意 一种掩模板， 该方法包括 ： 0028 通过所述供压电路向所述掩模图案与所述透明导电层之间提供预设的电压 ； 0029 照射所述第一基板， 使部分光线依次透过所述第一基板、 所述透明导电层、 所述液 晶层、 所述。
14、第二基板， 并从第二基板上除所述掩模图案以外的区域内出射。 0030 由上述技术方案可知， 本发明的掩模板中的液晶层位于透明导电层 ( 相当于液晶 盒的上电极 ) 与掩模图案 ( 相当于液晶盒的下电极 ) 之间。在设置预定电压后， 对于掩模 图案间的透光间隙而言， 离掩模图案近的地方由于电场较强， 对应的液晶偏转较有序， 因此 对应的液晶对光线的透过率相对较大， 而离掩模图案远的地方， 由于电场较弱， 对应的液晶 偏转较无序， 因此对应的液晶对光线的透过率相对较小， 而无液晶影响情况下， 应该是离掩 模图案近的地方对光线的透过率相对较小而离掩模图案远的地方对光线的透过率相对较 大， 两相抵消，。
15、 使得在透光间隙内对光线的透过率趋向均匀， 进而使得不同大小尺寸的透光 间隙内对光线的透过率也趋向一致。也就是说， 本发明可以使同样强度的光从掩模板不同 线密度的区域内透过后的光强也趋于一致， 因此可以解决不同线密度区域曝光剂量差别过 大、 曝光显影后尺寸无法控制的问题。 附图说明 0031 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案， 下面将对实施例或现 有技术描述中所需要使用的附图作一简单的介绍， 显而易见地， 下面描述中的附图是本发 明的一些实施例， 对于本领域普通技术人员来讲， 在不付出创造性劳动的前提下， 还可以根 据这些附图获得其他的附图。 0032 图 1 是本发明一个实。
16、施例中一种掩模板的结构示意图 ； 0033 图 2 是本发明一个实施例中一种掩模板的工作原理示意图 ； 说 明 书 CN 104280997 A 5 3/7 页 6 0034 图 3 是本发明一个实施例中一种掩模板的制造方法流程图 ； 0035 图 4 是本发明一个实施例中一种利用掩模板构图的方法流程图。 具体实施方式 0036 为使本发明实施例的目的、 技术方案和优点更加清楚， 下面将结合本发明实施例 中的附图， 对本发明实施例中的技术方案进行清楚、 完整地描述， 显然， 所描述的实施例是 本发明一部分实施例， 而不是全部的实施例。 基于本发明中的实施例， 本领域普通技术人员 在没有作出创造。
17、性劳动前提下所获得的所有其他实施例， 都属于本发明保护的范围。 0037 在本发明的描述中需要说明的是， 术语 “上” 、“下” 等指示的方位或位置关系为基 于附图所示的方位或位置关系， 仅是为了便于描述本发明和简化描述， 而不是指示或暗示 所指的装置或元件必须具有特定的方位、 以特定的方位构造和操作， 因此不能理解为对本 发明的限制。除非另有明确的规定和限定， 术语 “安装” 、“相连” 、“连接” 应做广义理解， 例 如， 可以是固定连接， 也可以是可拆卸连接， 或一体地连接 ； 可以是机械连接， 也可以是电连 接 ； 可以是直接相连， 也可以通过中间媒介间接相连， 可以是两个元件内部的连。
18、通。对于本 领域的普通技术人员而言， 可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。 0038 图 1 示出了本发明一个实施例中的掩模板的结构。如图 1 所示， 该掩模板包括 ： 0039 相对设置的第一基板 101 和第二基板 102 ； 0040 位于第一基板 101 与第二基板 102 之间的液晶层 103 ； 0041 形成于第一基板101上的透明导电层104， 该透明导电层104与上述液晶层103位 于第一基板 101 的同一侧 ； 0042 以不透明导电材料形成于上述第二基板 102 上的掩模图案 105( 如图 1 所示的黑 色条纹状图案， 包括 A 区域内的斜条纹状掩模图案。
19、 105A 与 B 区域内的直条纹状掩模图案 105B) ； 0043 与上述透明导电层104及上述掩模图案105相连的供压电路106， 用于向掩模图案 105 与透明导电层 104 之间提供预设的电压。 0044 在设置预定电压后， 对于掩模图案间的透光间隙而言， 离掩模图案近的地方由于 电场较强， 对应的液晶偏转度较有序， 因此对应的液晶对光线的透过率相对较大， 而离掩模 图案远的地方， 由于电场较弱， 对应的液晶偏转较无序， 因此对应的液晶对光线的透过率相 对较小， 而无液晶影响情况下， 应该是离掩模图案近的地方对光线的透过率相对较小而离 掩模图案远的地方对光线的透过率相对较大， 两相抵。
20、消， 使得在透光间隙内对光线的透过 率趋向均匀， 进而使得不同大小尺寸的透光间隙内对光线的透过率也趋向一致。 也就是说， 本发明可以使同样强度的光从掩模板不同线密度的区域内透过后的光强也趋于一致， 因此 可以解决不同线密度区域曝光剂量差别过大、 曝光显影后尺寸无法控制的问题。 0045 需要说明的是， 图中仅以第二基板 102 上 A 区域内的斜条纹状的掩模图案 105A 和 B 区域内的直条纹状的掩模图案 105B 为例展示第二基板 102 上掩模图案 105 的形状和区 域划分的情形。例如， 上述掩模图案 105 可以包括多个间隔形成的条状电极 ( 如图 1 中的 105A 与 105B 。
21、所标注的黑色区域 )。图 1 中， 上述掩模图案分区域地形成于所述第二基板上 ( 如图 1 所示出的 A 区域与 B 区域 )， 每一区域内的所有所述条状电极具有相同的宽度和间 距 ( 即掩模图案是按照条状电极的宽度和间距划分区域的 )。上述条状电极可以通过阻挡 说 明 书 CN 104280997 A 6 4/7 页 7 光线的透过形成例如阵列基板中的 fanout 配线 ( 扇形配线 ) 区域或 pixel( 像素 ) 区域的 布线图形。当然， 掩模图案 105 可以是其他形状的图案 ( 如包括圆点、 矩形块、 长条、 弧线中 一种或多种的图案)、 也可以按照其他方式进行区域划分， 本发明。
22、对此不做限制。 而且， 图中 将掩模图案 105 位于第二基板 102 的外侧 ( 与液晶层 103 不同侧 )， 而掩模图案 105 也可以 位于第二基板 102 的内侧 ( 与液晶层 103 同侧 )， 本发明对此不做限制。 0046 其中， 第一基板 101、 第二基板 102 相对设置， 并把液晶层 103 中的液晶封存在两 基板之间 ； 而供压电路 106 向透明导电层 104 与掩模图案 105 之间提供电压， 使液晶层 103 中的液晶可以在其间电场的作用下偏转， 即在一实施例中上述掩模板可以视作一液晶盒， 其中透明导电层104可视作公共电极或上电极、 掩模图案105可视作像素电。
23、极或下电极， 而 液晶层 103 中液晶的偏转情况的主要影响因素为掩模图案 105 的形状及在掩模图案 105 上 所加电压的高低。 0047 上述第一基板101和第二基板102的形成材料具有透明、 不导电的性质， 具体来说 可以包括玻璃、 石英或类似物、 塑胶、 橡胶、 玻璃纤维、 透明树脂或其他高分子材料。 0048 上述透明导电层 104 的形成材料具有透明、 导电的性质， 具体来说可以包括铟锡 氧化物 (ITO)、 铟锌氧化物 (IZO)、 透明导电树脂或者其他透明导电材料。 0049 上述掩模图案 105 的形成材料具有不透明、 导电的性质， 具体来说可以包括如铁、 铜、 铝、 镍、。
24、 钼、 铬或其他金属， 或者金属的氧化物或氮化物、 合金、 包含金属层的多层膜、 不 透明导电树脂材料 ( 如加入炭黑的树脂材料 ) 等等。优选地上述掩模图案 105 的形成材料 包括金属铬， 可以满足掩模图案 105 对于包括遮光性、 导电性、 稳定性等多方面的要求。 0050 上述供压电路 106 用于向掩模图案 105 与透明导电层 104 之间提供预设的电压， 通常可以包括电压源和用于改变输出电压大小的电阻或其他电器元件。 电压的一输出电极 可与透明导电层 104 在表面或侧面的电极引出位置相连， 另一输出电极可通过透明导电介 质与掩模图案 105 的电极引出位置相连。当然， 也可以采。
25、用其他结构的供压电路 106 或采 用其他电连接方式， 本发明对此不做限定。 0051 基于上述结构， 本发明实施例所提供的掩模板的工作原理如下 ： 0052 参见图 2 所示出的掩模板的工作原理示意图， 该掩模板与图 1 所示的掩模板结构 一致。其中， 在利用供电电路 106 给掩模图案 105A、 105B 与透明电极层 104 之间提供预设 的电压后， 液晶层 103 中的液晶就会在电场作用下偏转一定角度。从第二基板 102 上看， 在 与掩模图案 105A、 105B 对应的区域及附近的区域内液晶有序偏转， 因而这些区域内液晶层 103 的透过率相对较高 ； 而在远离掩模图案 105A。
26、、 105B 的区域内， 液晶层 103 中的液晶偏转 较无序， 因而这些区域内液晶层 103 的透过率相对较低。因此， 在同样强度的光 L1A 与 L1B 分别照射到第一基板101上与A区域与B区域对应的区域内时， 由于A区域内掩模图案105A 的透光间隙较小 ( 线密度较高 )， 因此液晶层 103 中的液晶总体来说偏转较为有序， 因而 A 区域内液晶层的透过率相对较大 ； 而 B 区域内的掩模图案 105B 的线密度较低， 因此液晶层 103 中的液晶在部分区域内的偏转较为无序， 因而 B 区域内液晶层的透过率相对较小。由 于上述效应的存在， 原本透光率较大的低线密度区域内光线的透过率相。
27、对减小， 原本透光 率较小的高线密度区域内光线的透过率相对增大 ( 即不同线密度区域对于透光率的自补 偿 )， 所以从 A 区域出射的光线 L2A 与从 B 区域出射的光线 L2B 总体上的光强趋于一致， 因 此可以解决不同线密度区域曝光剂量差别过大、 曝光显影后尺寸无法控制的问题。 说 明 书 CN 104280997 A 7 5/7 页 8 0053 在上述实施例中， 若存在由于存在图形间断处或其他原因而彼此分离的部分掩模 图案 ( 例如图 1 中彼此分离的条状电极 )， 可以采用分别与供压电路 106 的输出电极连接 的方式来使每一部分的掩模图案 105 均具有预设的电压。此时， 供压电。
28、路 106 可以向每一 部分的掩模图案 105 提供同样大小的预设的电压， 其中一种实施方式可以是每一部分的掩 模图案 105 均与电压源的一个电极相连 ； 或者， 也可以向每一部分的掩模图案 105 提供不 同大小的预设的电压， 其中一种实施方式可以是每一部分的掩模图案 105 分别与供压电路 106 中的一个电压源的一电极相连。在电压大小的设定上， 较为简便地可使所有掩模图案 105 均为同一电压， 也可以分别设定不同区域内掩模图案 105 的电压， 或者更精细地分别调 整每一部分掩模图案 105 的电压以达到更佳的透光率调控效果。 0054 然而， 若采用与电压源电极直连的方式会引入很多。
29、冗余的布线， 不利于提高空间 与原料的利用率。 对此， 可以采用如图2中所示的连接图案107来使相互分离的部分掩模图 案彼此电连接， 为了不改变掩模图案的实际遮光区域， 选用透明导电材料来形成上述连接 图案。 连接图案可以设置在掩模图案105之下， 也就是先形成连接图案再形成掩模图案 ； 也 可以设置在掩模图案 105 之上， 也就是先形成掩模图案再形成连接图案， 优选地采用后者， 以使掩模图案 105 位于与透明导电层 104 平行的一平面上， 同时保证了掩模图案 105 形成 电场的强度和电场强度的均匀性。 0055 在一种实施方式中， 上述连接图案进一步用于使第二基板 102 上的任意两。
30、个相互 分离的部分掩模图案彼此电连接 ； 而供压电路106通过上述连接图案与掩模图案105相连， 并包括一电压源， 该电压源用于向掩模图案105与透明导电层104之间提供一预设的电压。 即， 将所有相互分离的部分掩模图案 105 通过连接图案电连接， 从而使整个掩模图案形成 一整体电极， 电压处处相同。且上述掩模图案 105 的电极引出位置也包括在连接图案中， 使 透光表面上不需要设置与供压电路 106 相连的金属导线。 0056 在另一种实施方式中， 掩模图案105分区域地形成于第二基板102上， 上述连接图 案进一步用于使第二基板102上同一区域内的任意两个相互分离的部分掩模图案105彼此。
31、 电连接 ； 供压电路 106 分别与至少一个区域内的掩模图案 105 相连， 并包括至少一个电压 源， 上述至少一个电压源用于分别向至少一个区域内的掩模图案 105 与透明导电层 104 之 间提供一预设的电压。即， 使每一区域内的掩模图案 105 形成一区域电极， 并由供压电路 106分别提供预设电压、 且连接图案包括每一区域电极的电极引出位置。 除上述有益效果之 外， 该设计使的每一区域电极上的电压可以分别控制 ； 即使在预设电压时同样要使电压处 处相同， 该设计由于不存在材料电阻导致的电压压降， 因而可以进一步提高电压的均匀性， 适用于大尺寸下的掩模板设计。 0057 优选地， 上述连。
32、接图案包括不与任一掩模图案中的直线互相平行的直线， 正如图 2 中的连接图案107所示， 该条直线由于不与任一掩模图案105中的直线互相平行， 因而更容 易与掩模图案相交， 起到形成相互分离的部分掩模图案之间的电连接的作用， 尤其适用于 掩模图案为条纹状的掩模板的设计。而且， 采用至少一条相互平行且间距固定的直线作为 连接图案不仅在制作工艺上容易实现， 而且可以适用于不同形状的掩模图案， 适用范围更 广。 0058 在上述任一实施例中， 并未限定掩模图案105与所述液晶层103位于第二基板102 的同一侧还是不同侧， 因为无论在哪一侧掩模图案 105 都可以使液晶层 103 中的液晶受控 说 。
33、明 书 CN 104280997 A 8 6/7 页 9 偏转。然而优选地使掩模图案 105 与液晶层 103 分别位于第二基板 102 的两侧， 使得液晶 层 103 在各处均保持同一厚度， 并便于对掩模图案 105 进行其他后续的操作。 0059 在上述任一实施例中， 优选地使液晶层 103 中的液晶具有预设的预倾角， 具体可 以由液晶成盒工艺中的液晶取向技术实现， 基于该特征可以进一步改善液晶层 103 的光学 性能， 提高透光率调控的准确度。 0060 基于上述掩模板的结构， 下面举出一种掩模板的制造方法的实施例。如图 3 所示 出的一种掩模板的制造方法流程， 该方法包括 ： 0061。
34、 步骤 301 ： 在第一基板上形成包括透明导电层的图形 ； 0062 步骤 302 ： 在第二基板上形成包括至少一个区域内的掩模图案的图形， 所述掩模 图案的形成材料包括不透明导电材料 ； 0063 步骤 303 ： 将所述第一基板与所述第二基板对位成盒， 并在所述第一基板与所述 第二基板之间形成液晶层， 所述透明导电层与所述液晶层位于所述第一基板的同一侧 ； 0064 步骤 304 ： 形成包括供压电路与所述透明导电层之间、 以及供压电路与所述掩模 图案之间的电连接， 所述供压电路用于向所述掩模图案与所述透明导电层之间提供预设的 电压。 0065 优选地， 步骤 303 ： 在所述在第二基。
35、板上形成包括至少一个区域内的掩模图案的 图形之后， 还包括图 3 中未示出的步骤 303a ： 0066 在所述第二基板上形成包括连接图案的图形， 所述连接图案的形成材料包括透明 导电材料， 所述连接图案用于使相互分离的部分掩模图案彼此电连接。 0067 具体来说， 下面提供一种掩模板的制造方法的实例 ： 在 10mm 厚度左右的石英衬底 (第一基板)上蒸镀氧化铟锡ITO等透明导电材料作为上极板公共电极(透明导电层)。 在 另一的玻璃衬底(第二基板)的上表面及上极板涂覆PI(Polyimide， 聚酰亚胺)液， 经过摩 擦配向、 对盒等工序将液晶以一定的预倾角封存在两层衬底之间， 并保证公共电。
36、极可以外 接电压。 在玻璃衬底的下表面蒸镀铬等不透明导电金属， 再涂覆光刻胶， 按照掩模工艺形成 上述掩模图案， 然后再蒸镀一层透过率高、 导电性好的材料， 经过涂胶， 激光照射， 刻蚀， 剥 离等掩模工艺， 使得原设计图形间断处用此材料连接起来， 形成上述连接图案。 该连接图案 由于是透明的， 因而不影响透光， 不会在基板上留下附加的图形。最后， 设置连接外部的供 压电路， 使公共电极和掩模图案接外加电压。 0068 由于本发明实施例提供的掩模板的制造方法与上述掩模板具有相应的技术特征， 所以也能解决同样的技术问题， 产生相同的技术效果。 0069 基于上述掩模板的结构， 下面举出一种利用掩。
37、模板构图的方法的实施例。如图 4 所示出的一种利用掩模板构图的方法流程， 该方法包括 ： 0070 步骤 401 ： 通过所述供压电路向所述掩模图案与所述透明导电层之间提供预设的 电压 ； 0071 步骤 402 ： 照射所述第一基板， 使部分光线依次透过所述第一基板、 所述透明导电 层、 所述液晶层、 所述第二基板， 并从第二基板上除所述掩模图案以外的区域内出射。 0072 其中， 利用掩模板构图的主要工艺即通过照射掩模板来利用透射光来对其他结构 进行光刻等操作， 本发明实施例中的构图方法中的特殊之处主要在于预设电压的设定 ( 上 文已经说明过 ) 及光线在上述掩模板中的透过顺序。由于本发明。
38、实施例提供的利用掩模板 说 明 书 CN 104280997 A 9 7/7 页 10 构图与上述掩模板具有相应的技术特征， 所以也能解决同样的技术问题， 产生相同的技术 效果。 0073 需要说明的是， 在本文中， 诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实 体或者操作与另一个实体或操作区分开来， 而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存 在任何这种实际的关系或者顺序。而且， 术语 “包括” 、“包含” 或者其任何其他变体意在涵 盖非排他性的包含， 从而使得包括一系列要素的过程、 方法、 物品或者设备不仅包括那些要 素， 而且还包括没有明确列出的其他要素， 或者是还包括为这种过程、 方法。
39、、 物品或者设备 所固有的要素。在没有更多限制的情况下， 由语句 “包括一个” 限定的要素， 并不排除 在包括所述要素的过程、 方法、 物品或者设备中还存在另外的相同要素。 0074 以上实施例仅用以说明本发明的技术方案， 而非对其限制 ； 尽管参照前述实施例 对本发明进行了详细的说明， 本领域的普通技术人员应当理解 ： 其依然可以对前述各实施 例所记载的技术方案进行修改， 或者对其中部分技术特征进行等同替换 ； 而这些修改或者 替换， 并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。 说 明 书 CN 104280997 A 10 1/2 页 11 图 1 图 2 说 明 书 附 图 CN 104280997 A 11 2/2 页 12 图 3 图 4 说 明 书 附 图 CN 104280997 A 12 。