液晶显示面板、液晶显示器及液晶显示面板的制造方法.pdf

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1、(10)申请公布号 CN 102854649 A (43)申请公布日 2013.01.02 C N 1 0 2 8 5 4 6 4 9 A *CN102854649A* (21)申请号 201110183096.6 (22)申请日 2011.06.30 G02F 1/1333(2006.01) G02F 1/1335(2006.01) G02F 1/1339(2006.01) G02F 1/133(2006.01) H01L 21/77(2006.01) (71)申请人上海天马微电子有限公司 地址 201201 上海市浦东新区汇庆路889号 (72)发明人殷震海 姬生超 韩珍珍 (74)专利代。

2、理机构北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 代理人骆苏华 (54) 发明名称 液晶显示面板、液晶显示器及液晶显示面板 的制造方法 (57) 摘要 一种液晶显示面板、液晶显示器及液晶显示 面板的制造方法液。所述液晶显示面板包括：相 对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板朝 向第二基板一侧上设置有第一光间隙物和第二光 间隙物，第二基板朝向第一基板一侧上设置有非 金属衬垫，非金属衬垫与第二光间隙物的位置相 对应。所述制造方法包括：提供第一基板，在第一 基板上形成第一光间隙物以及第二光间隙物；提 供第二基板，在第二基板上依次形成栅极、栅绝缘 层、有源层、源极/漏极金属层、钝化层，同时，在 对应。

3、第二光间隙物处形成非金属衬垫，非金属衬 垫由形成栅绝缘层、有源层、钝化层的材料中的一 层或多层形成。本发明提高了液晶显示面板的开 口率。 (51)Int.Cl. 权利要求书2页 说明书8页 附图8页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 2 页 说明书 8 页 附图 8 页 1/2页 2 1.一种液晶显示面板，包括：相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板朝向第 二基板一侧上设置有第一光间隙物和第二光间隙物，所述第二基板朝向第一基板一侧上设 置有非金属衬垫，所述非金属衬垫与所述第二光间隙物相对应。 2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述非金属衬。

4、垫包括单层非金属 层或多层非金属层。 3.如权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一基板为彩膜基板，所述第 二基板为阵列基板，所述阵列基板上还形成有TFT，所述TFT包括位于阵列基板朝向彩膜基 板一侧的栅绝缘层、有源层、钝化层，所述非金属衬垫包括所述形成栅绝缘层、有源层或钝 化层的材料中的单层或多层。 4.如权利要求3所述的液晶显示面板，其特征在于，所述非金属衬垫的厚度为 5.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一光间隙物和第二光间隙 物的高度相同。 6.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第二基板朝向第一基板一侧 上还设置有开口，所述开口和第一光间隙物相对。

5、应。 7.如权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于，所述开口形成于金属层或非金属 层中。 8.如权利要求7所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一基板为彩膜基板，所述第 二基板为阵列基板，所述阵列基板上还形成有TFT，所述TFT包括位于阵列基板上的栅绝缘 层、有源层、钝化层，所述开口形成于钝化层中。 9.如权利要求7所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一基板为彩膜基板，所述第 二基板为阵列基板，所述阵列基板上还形成有TFT，所述TFT包括位于阵列基板上的栅绝缘 层、有源层、钝化层，所述开口形成于钝化层中和有源层中。 10.如权利要求7所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一基板为彩膜基板，。

6、所述 第二基板为阵列基板，所述阵列基板上还形成有TFT，所述TFT包括位于阵列基板上的栅绝 缘层、有源层、钝化层，所述开口形成于钝化层中、有源层和栅绝缘层中。 11.如权利要求7所述的液晶显示面板，其特征在于，所述非金属衬垫的厚度为 所述开口的深度为 12.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述液晶显示面板分为透光区域 和非透光区域，所述非金属衬垫位于所述非透光区域。 13.一种包括如权利要求112任意一权利要求所述的液晶显示面板的液晶显示器。 14.如权利要求13所述的液晶显示器，其特征在于，所述液晶显示器为触控式液晶显 示器。 15.一种液晶显示面板的制造方法，其特征在于，包括：。

7、 提供第一基板，在所述第一基板上形成第一光间隙物以及第二光间隙物； 提供第二基板，在所述第二基板上依次形成TFT的栅极、栅绝缘层、有源层、源极/漏极 金属层、钝化层，同时，在对应第二光间隙物处形成非金属衬垫，所述非金属衬垫由形成栅 绝缘层、有源层、钝化层的材料中的一层或多层形成； 在钝化层内形成过孔，在钝化层上形成像素电极，所述像素电极通过过孔和漏极金属 层电连接； 权 利 要 求 书CN 102854649 A 2/2页 3 在第一基板和第二基板之间形成液晶层，并贴合所述第一基板、第二基板以形成液晶 显示面板。 16.如权利要求15所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述非金属衬垫的 。

8、厚度为 17.如权利要求15所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，还包括形成开口的 步骤，所述开口的位置和第一光间隙物对应，所述开口形成在形成栅极、栅绝缘层、有源层、 源极/漏极金属层、钝化层的材料中的一层或多层内。 18.如权利要求17所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述开口形成在钝 化层中，所述开口和过孔在同一步骤中形成。 19.如权利要求17所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述非金属衬垫的 厚度为所述开口的深度为 权 利 要 求 书CN 102854649 A 1/8页 4 液晶显示面板、 液晶显示器及液晶显示面板的制造方法 技术领域 0001 本发明涉及平板显示。

9、领域，尤其涉及一种液晶显示面板、液晶显示器及液晶显示 面板的制造方法。 背景技术 0002 液晶显示器以体积小，重量轻，低辐射等优点广泛应用于各种领域。 0003 液晶显示面板是液晶显示器中最主要的组成部分。所述液晶显示面板包括阵列基 板(TFT基板)、与所述阵列基板相对的彩膜基板(CF基板)、填充于阵列基板和彩膜基板之 间的液晶，其中，所述阵列基板和彩膜基板上的电极通过控制液晶分子的旋转，以调节外界 光的通过率，同时，与彩膜基板相配合达到彩色显示的目的，所述液晶显示面板还包括用于 粘合阵列基板和彩膜基板的封框胶。在制作液晶显示面板的过程中，采用封框胶密封位于 阵列基板和彩膜基板之间的液晶，形。

10、成液晶盒。 0004 对于液晶显示面板而言，液晶盒厚度的均匀性会影响响应速度、对比度和视角等 显示特性，因此，所述液晶显示面板通常还包括位于阵列基板和彩膜基板之间的间隙物 (Spacer)，用于维持液晶盒盒厚的均匀性。 0005 现有技术中光间隙物(Photo Spacer)是常见的间隙物之一，参考图1，示出了现 有技术液晶显示面板一实施例的示意图。所述液晶显示面板包括阵列基板22、彩膜基板 21、液晶层23，所述液晶显示面板还包括位于彩膜基板21上、朝向液晶层23的光间隙物 24，所述光间隙物24通常采用曝光、蚀刻的方法形成于彩膜基板21上，用于支撑液晶盒的 盒厚。 0006 随着触控显示器。

11、的应用，对用于触控显示器的液晶显示面板的间隙物技术提出了 更高的要求，因为触控显示器中，液晶显示面板会受到较大的压力，通常会在液晶盒中排布 较大密度的间隙物，用户触控显示器时，在压力作用下液晶盒处于形变状态，间隙物用以支 持液晶盒，避免液晶盒受到不可恢复形变的损伤；另一方面，在温度较低情况下，液晶会收 缩，而由于间隙物排布密度较大，液晶盒很难发生形变，液晶的收缩会在液晶层中产生气泡 从而影响显示。 0007 为了解决上述问题，现有技术中还发展了一种双柱高的Photo Spacer液晶显示面 板，在双柱高的Photo Spacer液晶显示面板中包括两种高度不同的光间隙物。参考图2，示 出了所述液。

12、晶显示面板一实施例的示意图。所述液晶显示面板包括彩膜基板301、位于彩膜 基板上的黑色矩阵303、形成于黑色矩阵303之间的色阻304、覆盖于黑色矩阵303和色阻 304上的第一公共电极305，形成于第一公共电极305上的第一光间隙物306、第二光间隙 物307，液晶面板还包括与彩膜基板301相对设置的阵列基板302、所述阵列基板302上形 成有衬垫308，所述衬垫308的位置和第二光间隙物307的位置相对应。第二光间隙物307 及与之相对应设置的衬垫308用于支撑液晶盒在不受力情况下的第一盒厚，第一光间隙物 306用于支撑液晶盒在受力发生形变情况下的第二盒厚。 0008 液晶显示面板在使用时。

13、，受到外力按压，第二光间隙物307及与之相对应设置的 说 明 书CN 102854649 A 2/8页 5 衬垫309处于压缩状态，但是由于第一光间隙物306的存在，会支撑液晶盒，避免液晶盒受 到不可恢复形变的损伤；另一方面，在温度较低情况下，液晶会收缩，液晶盒也会相应的收 缩，第二光间隙物307及与之相对应设置的衬垫309被压缩，从而避免了液晶层气泡的产 生。 0009 然而图2所示的实施例中，所示衬垫309由金属层构成，这使本领域技术人员在对 所述衬垫309和同层金属布局时，为了防止短路，需在所述衬垫309在和同层金属之间设置 一定空间，从而增大了占用面积，减小了液晶显示面板的开口率。 发。

14、明内容 0010 本发明解决的问题是提供一种开口率较高的液晶显示面板、液晶显示器及液晶显 示面板的制造方法。 0011 为解决上述问题，本发明提供一种液晶显示面板，包括：相对设置的第一基板和第 二基板，所述第一基板朝向第二基板一侧上设置有第一光间隙物和第二光间隙物，所述第 二基板朝向第一基板一侧上设置有非金属衬垫，所述非金属衬垫与所述第二光间隙物相对 应。 0012 可选地，所述非金属衬垫包括单层非金属层或多层非金属层。 0013 可选地，所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板，所述阵列基板上还 形成有TFT，所述TFT包括位于阵列基板朝向彩膜基板一侧的栅绝缘层、有源层、钝化层，所 述。

15、非金属衬垫包括所述形成栅绝缘层、有源层或钝化层的材料中的单层或多层。 0014 可选地，所述非金属衬垫的厚度为 0015 可选地，所述第一光间隙物和第二光间隙物的高度相同。 0016 可选地，所述第二基板朝向第一基板一侧上还设置有开口，所述开口和第一光间 隙物相对应。 0017 可选地，所述开口形成于金属层或非金属层中。 0018 可选地，所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板，所述阵列基板上还 形成有TFT，所述TFT包括位于阵列基板上的栅绝缘层、有源层、钝化层，所述开口形成于钝 化层中。 0019 可选地，所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板，所述阵列基板上还 形成有TF。

16、T，所述TFT包括位于阵列基板上的栅绝缘层、有源层、钝化层，所述开口形成于钝 化层中和有源层中。 0020 可选地，所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板，所述阵列基板上还 形成有TFT，所述TFT包括位于阵列基板上的栅绝缘层、有源层、钝化层，所述开口形成于钝 化层中、有源层和栅绝缘层中。 0021 可选地，所述非金属衬垫的厚度为所述开口的深度为 0022 可选地，所述液晶显示面板分为透光区域和非透光区域，所述非金属衬垫位于所 述非透光区域。 0023 相应地，本发明还提供一种包括所述液晶显示面板的液晶显示器。 0024 可选地，所述液晶显示器为触控式液晶显示器。 0025 相应地，本。

17、发明还提供一种液晶显示面板的制造方法，包括：提供第一基板，在所 说 明 书CN 102854649 A 3/8页 6 述第一基板上形成第一光间隙物以及第二光间隙物；提供第二基板，在所述第二基板上依 次形成TFT的栅极、栅绝缘层、有源层、源极/漏极金属层、钝化层，同时，在对应第二光间隙 物处形成非金属衬垫，所述非金属衬垫由形成栅绝缘层、有源层、钝化层的材料中的一层或 多层形成；在钝化层内形成过孔，在钝化层上形成像素电极，所述像素电极通过过孔和漏极 金属层电连接；在第一基板和第二基板之间形成液晶层，并贴合所述第一基板、第二基板以 形成液晶显示面板。 0026 可选地，所述非金属衬垫的厚度为 002。

18、7 可选地，还包括形成开口的步骤，所述开口的位置和第一光间隙物对应，所述开口 形成在形成栅极、栅绝缘层、有源层、源极/漏极金属层、钝化层的材料中的一层或多层内。 0028 可选地，所述开口形成在钝化层中，所述开口和过孔在同一步骤中形成。 0029 可选地，所述非金属衬垫的厚度为所述开口的深度为 0030 与现有技术相比，本发明具有以下优点： 0031 1.通过非金属衬垫为液晶显示面板提供压缩余量，由于非金属衬垫为非金属材 料、可以与同层金属相接触，从而可实现紧凑布局，进而增大了液晶显示面板的开口率； 0032 2.通过非金属衬垫和开口的结合为液晶显示面板提供压缩余量，在满足液晶显示 面板抗压力。

19、和防止气泡产生的性能的情况下，不增加制造工艺； 0033 3.开口可以是非金属材料形成的，通过TFT的栅绝缘层形成开口，所述非金属衬 垫由TFT的有源层形成，可基于现有工艺材料和工艺步骤完成，工艺简单。 附图说明 0034 图1是现有技术液晶显示面板一实施例的示意图； 0035 图2是现有技术液晶显示面板另一实施例的示意图； 0036 图3是本发明液晶显示面板第一实施例的示意图； 0037 图4是本发明液晶显示面板第二实施例的示意图； 0038 图5是本发明液晶显示面板第三实施例的示意图； 0039 图6是图5所示液晶显示面板的俯视示意图； 0040 图7是本发明液晶显示面板制造方法第一实施方。

20、式的流程示意图； 0041 图8是本发明液晶显示面板制造方法第二实施方式的流程示意图； 0042 图9是本发明液晶显示面板制造方法第三实施例的流程示意图； 0043 图10至图16是本发明液晶显示面板制造方法第三实施例的部分结构示意图。 具体实施方式 0044 为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明 的具体实施方式做详细的说明。 0045 在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明还可以 采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限 制。 0046 下面结合具体实施例，对本发明液晶显示面板做进一步说明。 0。

21、047 实施例I： 说 明 书CN 102854649 A 4/8页 7 0048 参考图3，示出了本发明液晶显示面板第一实施例的示意图。所述液晶显示面板包 括彩膜基板101，阵列基板102，所述彩膜基板101和阵列基板102相对设置，所述彩膜基板 101和阵列板102之间设置有液晶层(图未示)。 0049 所述液晶显示面板还包括：位于所述彩膜基板101上的黑色矩阵(Black Matrix， BM)103、设置于黑色矩阵103之间的色阻104、覆盖于色阻104和黑色矩阵103上的第一公 共电极105，位于色阻104上方的第一光间隙物106和第二光间隙物107。 0050 阵列基板102上形成。

22、有多条扫描线(图未示)，多条数据线(图未示)，所述扫描 线和数据线相互垂直相交，在所述扫描线和数据线相交位置处形成有薄膜晶体管(TFT)，所 述多条扫描线和多条数据线围成多个像素单元，每个所述像素单元还包括与TFT的漏极相 连的像素电极(图未示)。本实施例中，所述TFT为底栅结构，所述TFT包括依次位于阵列 基板102上的栅极、栅绝缘层110、有源层、源/漏金属层、钝化层。 0051 所述阵列基板102上还形成有位于栅绝缘层110上的非金属衬垫108，所述非金属 衬垫108的位置和位于彩膜基板101上的第二光间隙物107相对应。所述非金属衬垫108 和位于彩膜基板101上的第二光间隙物107相。

23、配合用于支持液晶显示面板在不受外力作用 下的第一盒厚。 0052 作为优选实施例，所述非金属衬垫108和TFT的有源层为同层材料。 0053 下面具体介绍各个组成部件。其中， 0054 黑色矩阵104用于遮蔽非显示区域，具体地，例如，用于遮蔽薄膜晶体管(TFT)区 域。 0055 色阻103，与位于阵列基板102上的像素单元一一对应，本实施例中，色阻103分为 红色阻，绿色阻以及蓝色阻，与相应像素单元相配合形成像素所要显示的颜色。 0056 所述第一公共电极105和所述像素电极均为透明电极。在液晶显示面板显示过程 中，所述第一公共电极105上加载有公共电压、各个像素单元的像素电极上加载有相应的。

24、 像素电压，所述第一公共电极105和像素电极相配合控制位于第一公共电极105和像素电 极之间的液晶分子的偏转。本实施例中，所述像素电极和第一公共电极105的材料为氧化 铟锡(ITO)。 0057 所述第一光间隙物106和第二光间隙物107形成于第一公共电极105上、并且均 与第一公共电极105相接触，所述第一光间隙物106和第二光间隙物107分别位于不同色 阻103的上方。本实施例中，为了便于制造，所述第一光间隙物106和第二光间隙物107的 形状和高度完全相同，但是本发明并不限制于此。 0058 所述第一光间隙物106和第二光间隙物107高度相同，而第一光间隙物106上方 没有非金属衬垫10。

25、8，因此所述第一光间隙物106和栅绝缘层110之间形成有空隙，所述空 隙的高度为非金属衬垫108的厚度。具体地，所述非金属衬垫108的厚度为因此空 隙的高度为 0059 当液晶显示面板受到外力按压发生形变时，所述第一光间隙物106用于支撑液晶 显示面板的第二盒厚。 0060 本实施例中，当液晶显示面板受到外力按压发型形变时，所述空隙提供了液晶显 示面板形变的余量。 0061 本实施例中，非金属衬垫108和有源层为同层材料，非金属衬垫108下方还设置的 说 明 书CN 102854649 A 5/8页 8 有钝化层111。有源层的材料为非晶硅。由于非晶硅为非金属材料，因此在对同一层布局 时，所述。

26、非晶硅均可和同层金属紧凑布局(即无需与同层金属之间设置一定空间)，从而增 加了液晶显示面板的开口率。 0062 实施例II： 0063 参考图4，示出了本发明液晶显示面板第二实施例的示意图，本实施例与第一实施 例的相同之处不再赘述。 0064 第一实施例中的非金属衬垫为单层结构。然而，TFT结构中的非金属层如栅绝缘 层、有源层、钝化层均具有特定的厚度，在实际应用中，如果设计中非金属衬垫的厚度大于 栅绝缘层、有源层或钝化层任意一层的厚度，那么单层结构无法满足非金属衬垫的厚度要 求。 0065 在第二实施例中，形成于阵列基板102上的非金属衬垫108为多层结构，具体 地，所述非金属衬垫108形成于。

27、栅绝缘层110上，包括依次形成于栅绝缘层110上的第 一衬垫层1081、第二衬垫层1082，其中第一衬垫层1081和有源层为同层材料，第二衬垫层 1082和钝化层为同层材料。需要说明的是，所述非金属衬垫108可以是形成栅绝缘层、有 源层、钝化层的材料中的任意两层形成的双层结构。 0066 此外，如果双层结构的厚度仍无法满足非金属衬垫的厚度要求，在其他实施例中， 形成于阵列基板102上的非金属衬垫108还可以是三层结构，具体地，所述非金属衬垫 108形成于阵列基板102上，包括依次形成于阵列基板102上的第一衬垫层1081、第二 衬垫层1082、第三衬垫层1083，其中第一衬垫层1081和栅绝缘。

28、层110为同层材料、第 二衬垫层1082和有源层为同层材料，第三衬垫层1083和钝化层为同层材料。 0067 实施例III 0068 参考图5，示出了本发明液晶显示面板第三实施例的示意图。 0069 图5示出的液晶显示面板包括彩膜基板201，阵列基板202，所述彩膜基板201和 阵列基板202相对设置，所述彩膜基板201和阵列基板202之间设置有液晶层(图未示)。 0070 所述液晶显示面板还包括：位于所述彩膜基板201上的黑色矩阵204、设置于黑色 矩阵204之间的色阻203、覆盖于色阻203和黑色矩阵204上的第一公共电极205，位于色 阻203上方的第一光间隙物206和第二光间隙物207。

29、。 0071 阵列基板202上形成有多条扫描线(图未示)，多条数据线(图未示)，所述扫描 线和数据线相互垂直相交，在所述扫描线和数据线相交位置处形成有TFT(图未示)，所述 多条扫描线和多条数据线围成多个像素单元，每个所述像素单元还包括与TFT漏极相连的 像素电极(图未示)。其中，所述TFT包括依次位于阵列基板202上的栅极、栅绝缘层210、 有源层、源/漏金属层、钝化层211，所述栅绝缘层210上设置有非金属衬垫208，所述非金 属衬垫208和TFT的有源层为同层材料，所述钝化层211中设置有开口209。 0072 所述第一光间隙物206和第二光间隙物207形成于第一公共电极205上，所述第。

30、 一光间隙物206和第二光间隙物207分别位于不同色阻203的上方。本实施例中，为了便 于制造，所述第一光间隙物206和第二光间隙物207的形状和高度完全相同，但是本发明并 不限制于此。 0073 本实施例中，所述第二光间隙物207和所述非金属衬垫208的位置相对应，所述第 二光间隙物207和非金属衬垫208相配合用于支撑液晶盒的第一盒厚。 说 明 书CN 102854649 A 6/8页 9 0074 所述第一光间隙物206与所述开口209的位置相对应，由于第一光间隙物206和 第二光间隙物207高度相同，而第一光间隙物206上方没有非金属衬垫208，而是设置有开 口209，同时，所述开口2。

31、09具有一定深度，因此所述第一光间隙物206和所述开口209底部 之间形成有空隙，所述空隙的高度为非金属衬垫208的厚度与开口209深度之和。当液晶 显示面板受到外力按压发生形变时，所述第一光间隙物206用于支撑液晶显示面板的第二 盒厚。 0075 本实施例中，在当液晶显示盒受到外力按压发生形变时，所述空隙提供了液晶盒 压缩的余量。 0076 结合参考图6，示出了图5所示液晶显示面板的俯视示意图。所述液晶显示面板包 括多个像素单元，为了使附图更加简洁、清楚，附图6只示出了液晶显示面板的一个像素单 元，所述像素单元由扫描线211、数据线212围成，在扫描线211和数据线212交界位置处设 置有T。

32、FT 214、与TFT 214的漏极相连的像素电极213，所述非金属衬垫208或开口209位 于TFT 214一旁的非透光区域215中，可以进一步提高液晶显示面板的开口率。 0077 本实施例中，所述开口209的深度为非金属衬垫208的厚度为因 此空隙的高度为但是本发明并不限制于开口209的深度和非金属衬垫208的厚 度，只要所述开口209的深度和非金属衬垫208的高度为一定值(也就是空隙的高度为一 定值)，满足空隙的设计规格值即可。实际应用中，本领域技术人员可以根据液晶显示面板 的设计规格设定所述空隙高度的大小，然后再基于所述空隙的需求值设计开口209的深度 和非金属衬垫208的厚度。 00。

33、78 本实施例中，所述开口209形成于钝化层211中，所述非金属衬垫208和有源层为 同层材料，可基于现有工艺材料和工艺步骤完成，工艺简单。 0079 需要说明的是，在上述实施例中，所述开口209在钝化层211中形成，非金属衬垫 208和有源层为同层材料，但是本发明并不限制于此。 0080 所述非金属衬垫208还可以是其他非金属材料，可以是用于形成TFT的栅绝缘层、 有源层、钝化层的材料中的一层或多层形成。 0081 所述开口可以在非金属层上形成，也可以在金属层上形成，例如，所述开口在金属 层上形成，所述开口可以在TFT的栅极、源/漏金属层中的一层或多层的同层材料上形成； 所述开口在非金属层上。

34、形成，所述开口可以在TFT的栅绝缘层、有源层、钝化层中的一层或 多层的同层材料上形成。 0082 相应地，本发明还提供一种包括所述的液晶显示面板的液晶显示器，优选地，所述 液晶显示器为触控式液晶显示器。 0083 以上具体实施方式以底栅结构的TFT为例，但其并不是用来限定本发明，顶栅结 构的TFT中，也可以用于形成TFT的栅绝缘层、有源层、钝化层中的一层或多层来形成非金 属衬垫，任何本领域技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，都可以利用上述揭示的方 法和技术内容对本发明技术方案做出可能的变动和修改。 0084 相应地，本发明还提供一种液晶显示面板的制造方法。参考图7，示出了本发明液 晶显示面板。

35、制造方法第一实施方式的流程示意图。所述液晶显示面板的制造方法包括以下 步骤： 0085 步骤S1，提供第一基板，在所述第一基板上形成第一光间隙物以及第二光间隙 说 明 书CN 102854649 A 7/8页 10 物； 0086 步骤S2，提供第二基板，在所述第二基板上依次形成栅极、栅绝缘层、有源层、源/ 漏金属层、钝化层，同时，在对应第二光间隙物处形成非金属衬垫，所述非金属衬垫由形成 栅绝缘层、有源层、钝化层的材料中的一层或多层形成； 0087 步骤S3，在第一基板和第二基板之间形成液晶层，并贴和所述第一基板、第二基板 以形成液晶显示面板。 0088 本发明提供的液晶显示面板的制造方法，在。

36、形成TFT的过程中形成非金属衬垫， 无需添加新的工艺步骤，制造方法比较简单，容易实现。 0089 参考图8，示出了本发明液晶显示面板制造方法第二实施方式的流程示意图，所述 液晶显示面板制造方法大致包括以下步骤： 0090 步骤S11，提供第一基板，在所述第一基板上形成第一光间隙物和第二光间隙物； 0091 步骤S12，提供第二基板，在所述第二基板上依次形成栅极、栅绝缘层、有源层、源 /漏金属层、钝化层，同时，在与第一光间隙物对应的位置处形成开口，所述开口在栅极、栅 绝缘层、有源层、源/漏金属层、钝化层中的一层或多层内形成，在与第二光间隙物对应的 位置处形成非金属衬垫，所述非金属衬垫由形成栅绝缘。

37、层、有源层、钝化层的材料中的一层 或多层形成； 0092 步骤S13，在第一基板和第二基板之间形成液晶层，并贴合所述第一基板、第二基 板以形成液晶显示面板。 0093 下面结合具体实施例，进一步描述本发明液晶显示面板的技术方案，参考图9，示 出了液晶显示面板制造方法第三实施例的流程示意图，图10至图16示出了本发明液晶显 示面板制造方法第三实施方式的部分结构示意图。请同时参考图9至图16，所述液晶显示 面板制造方法大致包括以下步骤： 0094 S21，提供第一基板，在所述第一基板上沉积并刻蚀出黑色矩阵； 0095 S22，在黑色矩阵之间的第一基板上形成色阻； 0096 S23，形成覆盖所述色阻。

38、和黑色矩阵的第一公共电极； 0097 S24，在所述第一公共电极上形成第一光间隙物和第二光间隙物； 0098 S25，提供第二基板，在所述第二基板上依次形成栅极、覆盖所述栅极的栅绝缘 层； 0099 如图10至图12所示，提供第二基板501，在第二基板501上形成栅极502、覆盖所 述栅极502的栅绝缘层503。 0100 S26，在第二基板上的栅绝缘层上形成有源层，在形成有源层的过程中，在对应第 二光间隙物处的栅绝缘层上用形成有源层的同层材料形成非金属衬垫； 0101 如图13所示，在栅绝缘层503上形成有源层5041，同时在对应第二光间隙物处的 栅绝缘层503上形成衬垫5042，所述衬垫5。

39、042的和所述有源层5041为同层材料。 0102 S27，在有源层上形成源极和漏极； 0103 如图14所示，在有源层5041上形成源极5051和漏极5052； 0104 S28，在TFT位置处形成覆盖所述源极金属层和漏极金属层和有源层的钝化层； 0105 S29，在钝化层内刻蚀出过孔，同时在对应第一光间隙物处的钝化层内刻蚀出开 口； 说 明 书CN 102854649 A 10 8/8页 11 0106 如图15和图16所示，形成钝化层506，并在钝化层506内刻蚀出过孔5071，同时 在对应第一光间隙物处的钝化层506内刻蚀出开口5072。 0107 S30，形成像素电极，像素电极通过过。

40、孔和漏极电连接； 0108 S31，在第一基板和第二基板之间形成液晶层，并贴合所述第一基板、第二基板以 形成液晶显示面板。 0109 在本发明液晶显示面板的制造方法中，所述开口和非金属衬垫结构分别由栅绝缘 层和有源层的材料形成、并且与所述栅绝缘层和有源层同时形成，因此无需添加新的工艺 步骤，制造方法比较简单，容易实现。 0110 需要说明的是，在本实施例中，所述开口和非金属衬垫结构分别由栅绝缘层和有 源层的材料形成，但是本发明并不限制于此，所述开口在栅极、栅绝缘层、有源层、源极/漏 极金属层、钝化层中的一层或多层中形成，所述非金属衬垫由形成栅绝缘层、有源层、钝化 层的材料中的一种或多种形成。同。

41、时本实施例所示的TFT以底栅结构的TFT为例，但其并 不是用来限定本发明，顶栅结构的TFT中，也可以用于形成TFT的栅绝缘层、有源层、钝化层 的材料中的一层或多层来形成非金属衬垫，并形成开口，本领域技术人员可以根据上述实 施例进行相应地修改、变形和替换。 0111 综上，本发明提供一种液晶显示面板和包括所述液晶显示面板的液晶显示器，所 述液晶显示面板通过非金属衬垫实现双间隙物结构，由于所述非金属衬垫为非金属材料， 因此在对同一层布局时，所述非金属衬垫结构可以和同层金属紧凑布局，从而增加了液晶 显示面板的开口率。 0112 此外，本发明还提供一种液晶显示面板的制造方法，在形成TFT的过程中形成非。

42、 金属衬垫结构，因此无需选用新的材料、无需添加新的工艺步骤，制造方法比较简单，容易 实现。 0113 本发明虽然已以较佳实施例公开如上，但其并不是用来限定本发明，任何本领域 技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，都可以利用上述揭示的方法和技术内容对本发 明技术方案做出可能的变动和修改，因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明 的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化及修饰，均属于本发明技术方案 的保护范围。 说 明 书CN 102854649 A 11 1/8页 12 图1 图2 说 明 书 附 图CN 102854649 A 12 2/8页 13 图3 图4 说 明 书 附 图CN 102854649 A 13 3/8页 14 图5 图6 说 明 书 附 图CN 102854649 A 14 4/8页 15 图7 说 明 书 附 图CN 102854649 A 15 5/8页 16 图8 说 明 书 附 图CN 102854649 A 16 6/8页 17 图9 说 明 书 附 图CN 102854649 A 17 7/8页 18 图10 图11 图12 图13 图14 说 明 书 附 图CN 102854649 A 18 8/8页 19 图15 图16 说 明 书 附 图CN 102854649 A 19 。