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1、(10)申请公布号 CN 102610698 A (43)申请公布日 2012.07.25 C N 1 0 2 6 1 0 6 9 8 A *CN102610698A* (21)申请号 201210087534.3 (22)申请日 2012.03.29 H01L 31/18(2006.01) H01L 21/677(2006.01) (71)申请人常州比太科技有限公司 地址 213000 江苏省常州市武进高新技术产 业开发区凤翔路7号 (72)发明人刘勇 黄培思 上官泉元 (74)专利代理机构常州市夏成专利事务所(普 通合伙) 32233 代理人沈毅 (54) 发明名称 太阳能硅片制造工艺用传。
2、输载板 (57) 摘要 本发明涉及太阳能硅片制造工艺用的等离子 设备技术领域，尤其是一种太阳能硅片制造工艺 用传输载板，包括输送载板和硅片，硅片阵列排放 在输送载板上，所述的输送载板外周设有一圈输 送导向结构，输送载板表面设置有硅片放置槽阵 列，所述的硅片放置槽阵列由横向筋和纵向筋分 隔而成，横向筋或纵向筋上开有抽气夹缝，每个硅 片放置槽内均设有4个气压平衡孔，所述的输送 载板之间采用互补式连接，前一块输送载板的下 凸台与后一块输送载板的上凸台叠合。本发明通 过夹缝，使气体可以从硅片周围抽出，不需要从载 板边缘抽出，这样使得抽气在每一块硅片之间是 均匀的，另外互补式连接保证了载板能够均衡、平 。
3、稳地运行。 (51)Int.Cl. 权利要求书1页 说明书2页 附图2页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 1 页 说明书 2 页 附图 2 页 1/1页 2 1.一种太阳能硅片制造工艺用传输载板，包括输送载板（1）和硅片（2），硅片（2）阵列 排放在输送载板（1）上，其特征是，所述的输送载板（2）外周设有一圈输送导向结构（7），输 送载板（1）表面设置有硅片放置槽阵列（3），所述的硅片放置槽阵列（3）由横向筋（9）和纵 向筋（10）分隔而成，横向筋（9）或纵向筋（10）上开有抽气夹缝（5），每个硅片放置槽（4）内 均设有4个气压平衡孔（6）；所述的输送载。
4、板（1）之间采用互补式连接。 2.根据权利要求1所述的太阳能硅片制造工艺用传输载板，其特征是，所述的输送载 板（1）之间的连接方式为前一块输送载板（1）的下凸台（11）与后一块输送载板（1）的上凸 台（12）叠合。 权 利 要 求 书CN 102610698 A 1/2页 3 太阳能硅片制造工艺用传输载板 技术领域 0001 本发明涉及太阳能硅片制造工艺用的等离子设备技术领域，尤其是一种太阳能硅 片制造工艺用传输载板。 背景技术 0002 太阳能电池硅片在电池制造工艺中有一系列生产工序，其中有等离子干法刻蚀， 等离子成膜（PECVD）等。为了增加单位时间内硅片的处理量，一般用大面积处理工艺来完。
5、 成。也就是说，很多硅片（125x125mm 或156x156mm）可以同时放置在一块载板上。处理这 种硅片的设备通常用平板式电极产生等离子体。载板可以静态放置在其中的一个电极上， 直到工艺完成后再取出来（跳跃式），载板也可以连续传输经过离子源工艺区(链式)。 0003 为了获得均匀处理的硅片（刻蚀或镀膜），通常需要均匀的气体分布，它包括气体 均匀进入（showering）和均匀抽出。气体均匀的进入可以设计在平行电极板的另一板上， 该电极板带有均匀分布的小孔，气体均匀进入每一个小孔即可实现。气体抽出通常是在载 板的四周，因为气体必须从中间走到边缘，那么一定存在一个浓度梯度。随着载板变大（一 次。
6、处理硅片的能力增加），这种浓度梯度就增加，处理硅片的均匀性就变差。 发明内容 0004 为了克服现有的技术的不足，本发明提供了一种太阳能硅片制造工艺用传输载 板。 0005 本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种太阳能硅片制造工艺用传输载 板，包括输送载板和硅片，硅片阵列排放在输送载板上，所述的输送载板外周设有一圈输送 导向结构，输送载板表面设置有硅片放置槽阵列，所述的硅片放置槽阵列由横向筋和纵向 筋分隔而成，横向筋或纵向筋上开有抽气夹缝，每个硅片放置槽内均设有4个气压平衡孔； 所述的输送载板之间采用互补式连接。 0006 根据本发明的另一个实施例，进一步包括，所述的输送载板之间的连接方。
7、式为前 一块输送载板的下凸台与后一块输送载板的上凸台叠合。 0007 本发明的有益效果是，本发明通过夹缝，使气体可以从硅片周围抽出，不需要从载 板边缘抽出，这样使得抽气在每一块硅片之间是均匀的，另外互补式连接保证了载板能够 均衡、平稳地运行。 附图说明 0008 下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。 0009 图1是本发明硅片在输送载板上的分布图； 图2是本发明输送载板上表面硅片放置槽结构图； 图3是本发明硅片抽空狭缝的结构图； 图4是本发明的载板之间的互补连接结构图； 说 明 书CN 102610698 A 2/2页 4 图中1、输送载板，2、硅片，3、硅片放置槽阵列，4、硅片放置槽，5。
8、、抽气夹缝，6、气压平衡 孔，7、输送导向结构，9、横向筋，10、纵向筋，11、下凸台，12、上凸台。 具体实施方式 0010 如图1、图2、图3所示，一种太阳能硅片制造工艺用传输载板，包括输送载板1和 硅片2，硅片2阵列排放在输送载板1上，所述的输送载板2外周设有一圈输送导向结构7， 输送载板1表面设置有硅片放置槽阵列3，所述的硅片放置槽阵列3由横向筋9和纵向筋 10分隔而成，横向筋9或纵向筋10上开有抽气夹缝5，每个硅片放置槽4内均设有4个气 压平衡孔6；所述的输送载板1之间采用互补式连接。所述的载板主体，采用铝合金材料、 石墨材料，或陶瓷材料进行精密机械加工，表面采取喷细砂和深度钝化处理。
9、。放置的硅片2， 规格可以是125x125mm 或156x156mm。所述的输送载板2外周设有一圈输送导向结构7，它 的目的是让载板能够连续被传动，载板输送导向结构7能保证载板能够均衡、平稳运行。硅 片放置槽4保证了硅片在生产工序中不相互叠合。纵向筋10或横向筋9也可以选择性地 开有抽气夹缝，可以在放置槽四边筋上都开口，也可以限制在对位的两根筋上，通过夹缝， 气体可以从硅片周围抽出，不需要从载板边缘抽出。这样使抽气在每一块硅片之间是均匀 的。硅片装载/卸载的气压平衡孔6，确保了硅片快速装载/卸载时不因产生负压而破碎。 本输送载板的另一个设计发明点是在载板之间的互补式连接，可避免影响气流的均匀性。
10、, 保证了载板能够均衡、平稳地运行。 0011 如图4所示，所述的输送载板1之间的连接方式为前一块输送载板1的下凸台11 与后一块输送载板1的上凸台12叠合，使气体不能从他们之间抽出。防止了前后载板之间 产生的不均匀气流使硅片制成的绒面不均匀。另外，载板在等离子干法制绒腔体时前后紧 密相接也能增加产能。 0012 以下为本发明的一个具体应用实例：在比太科技的干法制绒体系里（产品型号” 太梭”）,载板是1M1M的铝板制成。其上开有36个硅片放置槽阵列，每个硅片槽是 157x157mm，槽深度是0.5mm.这样的槽位使硅片在里面不会移位。 0013 硅片和硅片之间的筋1mm。在筋上开设1mm宽的夹。
11、缝。夹缝的长度是150mm，接近 硅片的长度。可在四边筋上都开口，也可限制在对位的两根筋上。载板下面是腔体真空抽 气空。这样，气流就通过载板上的夹缝进入腔体抽气空。虽然载板很大，但是抽气仍然可以 均匀地通过载板。 0014 通过以上设计，硅片和硅片自己刻蚀的均匀性可以达到3%。不用这样的发明，气流 从载板边缘抽走，硅片之间的刻蚀均匀性是10%。 0015 以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定 本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在 不脱离本发明构思的前提下，其架构形式能够灵活多变，可以派生系列产品。只是做出若干 简单推演或替换，都应当视为属于本发明由所提交的权利要求书确定的专利保护范围。 说 明 书CN 102610698 A 1/2页 5 图1 图2 图3 说 明 书 附 图CN 102610698 A 2/2页 6 图4 说 明 书 附 图CN 102610698 A 。