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1、(10)申请公布号 CN 102902100 A (43)申请公布日 2013.01.30 C N 1 0 2 9 0 2 1 0 0 A *CN102902100A* (21)申请号 201210310995.2 (22)申请日 2012.08.28 G02F 1/1335(2006.01) G02F 1/1333(2006.01) (71)申请人京东方科技集团股份有限公司 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 (72)发明人马新利 王强涛 (74)专利代理机构北京中博世达专利商标代理 有限公司 11274 代理人申健 (54) 发明名称 一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示面板 (。
2、57) 摘要 本发明实施例提供了一种彩膜基板及其制备 方法、液晶显示面板，涉及液晶显示领域，能够改 善液晶显示中的残像等不良现象。所述彩膜基板 包括基板、设置在所述基板一表面上的偏振片及 设置在所述基板另一表面上的彩膜层，在所述彩 膜层上还设置有：光防护层，所述光防护层减少 经由所述光防护层射入所述彩膜基板的光线的被 所述彩膜基板反射回的光线。本发明可用于液晶 显示。 (51)Int.Cl. 权利要求书2页 说明书5页 附图3页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 2 页 说明书 5 页 附图 3 页 1/2页 2 1.一种彩膜基板，包括基板、设置在所述基板。
3、一表面上的偏振片及设置在所述基板另 一表面上的彩膜层，其特征在于，在所述彩膜层上还设置有： 光防护层，所述光防护层减少经由所述光防护层射入所述彩膜基板的光线的被所述彩 膜基板反射回的光线。 2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述光防护层包括： 抗反射层，所述抗反射层减少所述彩膜层反射出的紫外光或蓝光。 3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述抗反射层的光学厚度为紫外光 或蓝光波长的四分之一。 4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述抗反射层为单层结构，所述单层 结构包括Al 2 O 3 、SiO x 、MgF 2 和AlF 2 中的任一种。 5.根据权利要求1所。
4、述的彩膜基板，其特征在于，所述抗反射层为折射率连续变化的 多层结构。 6.根据权利要求1-5任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述光防护层包括： 防紫外线层，所述防紫外线层阻挡被所述偏振片反射的紫外光。 7.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述光防护层包括抗反射层和防紫 外线层； 所述防紫外线层设置在所述彩膜层上； 所述抗反射层设置在所述防紫外线层上。 8.根据权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于， 所述彩膜基板还包括氧化铟锡层； 所述氧化铟锡层设置在所述彩膜层和所述防紫外线层之间。 9.根据权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于， 所述彩膜基板还包括保护层； 所述保护层设置在所述彩膜。
5、层和所述防紫外线层之间。 10.一种液晶显示面板，其特征在于，所述液晶显示面板包括： 权利要求1-9任一项所述的彩膜基板； 与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板；和 设置在所述彩膜基板和所述阵列基板中间的液晶。 11.一种权利要求1-9任一项所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括： 提供基板； 在所述基板的一表面上形成彩膜层； 在所述彩膜层上形成光防护层； 在所述基板的另一表面上贴覆偏振片。 12.根据权利要求11所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在所述彩膜层上 形成光防护层包括： 在所述彩膜层上形成防紫外线层； 在所述防紫外线层上形成抗反射层。 13.根据权利要求12所述的彩膜基板的。
6、制作方法，其特征在于，所述在所述防紫外线 层上形成抗反射层包括： 权 利 要 求 书CN 102902100 A 2/2页 3 将乙醛硅酸盐粘结剂的酒精溶液溶入Al 2 O 3 、SiO x 、MgF 2 和AlF 2 中的任一种形成抗反射 层悬浮液； 将所述抗反射层悬浮液旋转涂覆于所述防紫外线层上并烘干形成所述抗反射层。 14.根据权利要求12所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在所述彩膜层上 形成防紫外线层包括： 在所述彩膜层上形成氧化铟锡层； 在所述氧化铟锡层上形成防紫外线层。 15.根据权利要求12所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在所述彩膜层上 形成防紫外线层包括： 在。
7、所述彩膜层上形成保护层； 在所述保护层上形成防紫外线层。 权 利 要 求 书CN 102902100 A 1/5页 4 一种彩膜基板及其制备方法、 液晶显示面板 技术领域 0001 本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示面板。 背景技术 0002 液晶显示面板由阵列基板、液晶及彩膜基板对盒形成。位于阵列基板侧的背光源 为液晶显示面板提供光线，该光线通过液晶显示面板中的液晶偏转后射出，以显示图像。然 而，背光源提供的光线并不是全部透射出液晶显示面板的，在光线进入液晶显示面板后，部 分光线会被彩膜基板中的彩膜层、ITO（Indium Tin Oxides，氧化铟锡）金属。
8、层和偏振片等 结构反射回来，并射回到阵列基板上。此时，反射光中的紫外线会照射阵列基板上的薄膜晶 体管，导致薄膜晶体管中产生光电流，影响液晶显示面板的显示功能。尤其在液晶显示面板 处于关断状态时，这种影响更为明显，会使液晶显示面板出现残像。 发明内容 0003 本发明的实施例的主要目的在于，提供一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示面 板，能够改善液晶显示中的残像等不良现象。 0004 为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案： 0005 一种彩膜基板，包括基板、设置在所述基板一表面上的偏振片及设置在所述基板 另一表面上的彩膜层，在所述彩膜层上还设置有： 0006 光防护层，所述光防护层减少经。
9、由所述光防护层射入所述彩膜基板的光线的被所 述彩膜基板反射回的光线。 0007 一种液晶显示面板，所述液晶显示面板包括： 0008 本发明实施例提供的所述彩膜基板； 0009 与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板；和 0010 设置在所述彩膜基板和所述阵列基板中间的液晶。 0011 一种本发明实施例提供的所述彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括： 0012 提供基板； 0013 在所述基板的一表面上形成彩膜层； 0014 在所述彩膜层上形成光防护层； 0015 在所述基板的另一表面上贴覆偏振片。 0016 本发明实施例提供的彩膜基板及其制备方法、液晶显示面板，在所述彩膜基板的 彩膜层上还设置有光防。
10、护层，该光防护层能够减少经由所述光防护层射入所述彩膜基板的 光线的被所述彩膜基板反射回的光线，从而能够保护与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板 上的薄膜晶体管免受紫外光和蓝光的照射，进而避免薄膜晶体管因紫外光和蓝光的照射而 产生光电流，改善液晶显示面板的残像等不良现象。 附图说明 说 明 书CN 102902100 A 2/5页 5 0017 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现 有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本 发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可 以根据这些附图获得其他的。
11、附图。 0018 图1为本发明一个实施例提供的液晶显示面板的结构示意图； 0019 图2为现有技术中液晶显示面板的结构示意图； 0020 图3为本发明另一实施例提供的液晶显示面板的结构示意图； 0021 图4为本发明另一实施例提供的液晶显示面板的结构示意图； 0022 图5为本发明另一实施例提供的液晶显示面板的结构示意图； 0023 图6为本发明一个实施例提供的彩膜基板的制作方法流程图； 0024 图7为本发明另一实施例提供的彩膜基板的制作方法流程图。 具体实施方式 0025 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完 整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部。
12、分实施例，而不是全部的实施例。基于 本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他 实施例，都属于本发明保护的范围。 0026 下面结合附图对本发明实施例提供的彩膜基板及液晶显示面板进行详细描述。 0027 本发明实施例提供了一种液晶显示面板，如图1所示，该液晶显示面板包括彩膜 基板10、与所述彩膜基板10对盒设置的阵列基板20和设置在所述彩膜基板10和所述阵列 基板20中间的液晶30。 0028 其中，所述彩膜基板10包括基板101、设置在所述基板101一表面上的偏振片102 及设置在所述基板101另一表面上的彩膜层103。所述彩膜层103包括红、绿、蓝子像素。
13、（图 中依次显示为1031、1032、1033），还可设置有黑矩阵1034，也可以根据本领域公知常识或 常用技术手段将黑矩阵1034设置在彩膜基板10的其他层上。所述阵列基板20上设置有 薄膜晶体管201。黑矩阵1034设置在与薄膜晶体管201相对的位置。 0029 如图1所示，在所述彩膜层103上还设置有光防护层104。所述光防护层104为一 种光学元件，能够减少经由所述光防护层104射入彩膜基板10的光线的被彩膜基板10反 射回的光线，所述光线主要为紫外光和蓝光。 0030 其中，在液晶显示面板的工作状态下，背光源发出光线1，依次射入阵列基板20、 液晶30和彩膜基板10。背光源发出的光线。
14、1经由所述光防护层104射入彩膜基板10中， 光线在入射的同时，会在彩膜基板10中的偏振片102、彩膜层103等元件处发生反射，反射 光线3会朝向阵列基板20射回。光防护层104能够减少被彩膜基板10反射回的光线3。 该减少的光线主要是使薄膜晶体管201产生光电流的紫外光和蓝光等。由于黑矩阵1034与 薄膜晶体管201在位置上相对设置，因此光防护层104尤其能够减少黑矩阵1034朝向薄膜 晶体管201反射的紫外光或蓝光。与图2示出的现有技术中的液晶显示面板的结构相比， 本发明实施例中的光防护层104可以减少大部分从彩膜基板10反射回阵列基板20的光线 3，尤其是紫外光和蓝光。 0031 此外，。
15、可以理解的是，除基板101、偏振片102、彩膜层103、光防护层104之外，彩 说 明 书CN 102902100 A 3/5页 6 膜基板10还可包括的其他功能元件或层等，本发明实施例对此不作限定。例如对于FFS （Fringe Field Swithing，边缘场转换）模式的液晶显示面板而言，可在彩膜基板10中设置 有公共电极ITO。 0032 本发明实施例提供的液晶显示面板，在彩膜层103上设置有光防护层104，能够减 少经由所述光防护层104射入彩膜基板10的光线的被彩膜基板10反射回的紫外光和蓝光 3等，使得与彩膜基板10对盒设置的阵列基板20上的薄膜晶体管201免受紫外光和蓝光的 。
16、干扰，防止薄膜晶体管201上产生光电流，进而避免液晶显示面板的残像等显示问题。在液 晶显示面板关断状态时，光防护层104的作用更加明显。 0033 进一步的，在本发明提供的一个实施中，如图3所示，光防护层104包括抗反射层 1041，所述抗反射层1041减少所述彩膜层103反射出的紫外光和蓝光。 0034 需要说明的是，所述抗反射层1041主要增加入射光线中的紫外光或蓝光在彩膜 层103上的入射光2强度，减少入射光线中的紫外光或蓝光在彩膜层103上的反射光3强 度。 0035 本发明实施例提供的液晶显示面板，所述光防护层104进一步包括抗反射层 1041，所述抗反射层1041能够减少紫外光或蓝。
17、光在彩膜层103处的反射光3强，进而保护 与彩膜基板10对盒设置的阵列基板20上的薄膜晶体管201免受紫外光和蓝光的干扰，防 止薄膜晶体管201上产生光电流，进而避免液晶显示面板的残像等显示问题。由于黑矩阵 1034与薄膜晶体管201在位置上相对设置，因此抗反射层1041尤其能够减少黑矩阵1034 朝向薄膜晶体管201反射的紫外光或蓝光3。在液晶显示面板关断状态时，光防护层104的 作用更加明显。 0036 具体的，在本发明提供的一个实施例中，所述抗反射层1041的光学厚度为紫外光 或蓝光波长的四分之一，以针对入射光线中紫外光或蓝光，实现其在彩膜层103上的入射 强度的增加及反射强度的减少。 。
18、0037 具体的，在本发明提供的一个实施例中，所述抗反射层1041为单层结构，所述单 层结构包括Al 2 O 3 、SiO x 、MgF 2 和AlF 2 中的任一种。具体的，在本发明提供的另一个实施例 中，所述抗发射层1041为折射率连续变化的多层结构。所述多层结构例如由MgF 2 、ZnS和 基底组成。所述MgF 2 和ZnS依次设置在所述基底上。 0038 优选的，在本发明提供的一个实施例中，所述光防护层104包括防紫外线层1042， 所述防紫外线层1042阻挡被所述偏振片反射的紫外光。可选的，所述防紫外线层1042可为 防紫外线薄膜。如图4所示，入射光线1经过光防护层104，射向偏振片。
19、102，由偏振片102 反射回的紫外光4被防紫外线层1042阻挡回去。当然，防紫外线层1042也可阻挡被彩膜 层103等功能层反射的紫外光。这样，通过减少该射向阵列基板20的紫外光，使得阵列基 板20上的薄膜晶体管201免受紫外光的干扰，防止薄膜晶体管201上产生光电流，进而避 免液晶显示面板的残像等显示问题。在液晶显示面板关断状态时，防紫外线层1042的作用 更加明显。 0039 需要说明的是，所述光防护层104可包括抗反射层1041和防紫外线层1042中的 任一种，分别如图3和图4所示。 0040 当然，例如在本发明提供的一个实施例中，所述光防护层104还包括抗反射层 1041和防紫外线层。
20、1042二者，如图5所示； 说 明 书CN 102902100 A 4/5页 7 0041 所述防紫外线层1042设置在所述彩膜层103上；所述防紫外线层1042主要阻挡 偏振片102反射回的紫外光4。 0042 所述抗反射层1041设置在所述防紫外线层1042上，所述抗反射层1041主要减少 彩膜层103处紫外光和蓝光1的反射强度。 0043 本发明实施例提供的液晶显示面板，具有抗反射层1041和防紫外线层1042二者， 可以更好的减少被彩膜基板10反射回阵列基板20的紫外光和蓝光3，提高液晶显示面板的 显示效果，防止在关断液晶显示面板后出现残像。 0044 可选的，在本发明提供的一个实施例。
21、中，所述彩膜基板10还可包括氧化铟锡层 105，如图5所示，所述氧化铟锡层105优选的设置在彩膜层103和防紫外线层1042之间。 此时，防紫外线层1042可阻挡从氧化铟锡层105反射回的紫外光4。最大程度的保护阵列 基板20上的薄膜晶体管201免受紫外光和/或蓝光的干扰而产生光电流。 0045 可选的，在本发明提供的一个是实施例中，所述彩膜基板还包括OC（overcoat，保 护）层106，如图5所示，所述OC层可设置在所述彩膜层103和所述防紫外线层1042之间。 此时，防紫外线层1042可阻挡从OC层106反射回的紫外光。最大程度的保护阵列基板20 上的薄膜晶体管201免受紫外光和/或蓝。
22、光的干扰而产生光电流。 0046 可以理解的是，在上面描述的各实施例为各功能层如氧化铟锡层105、OC层106、 光防护层104的相对位置的优选实施例，在本发明的其他实施方式中可将各功能层设置为 其他排布方式。例如，在彩膜基板10包括氧化铟锡层105时，光防护层106也可设置在彩 膜层103与氧化铟锡层105之间。此外，在光防护层106同时包括有抗反射层1041和防紫 外线层1042时，在本发明提供的其他实施方式中，并不限定抗反射层1041设置于防紫外线 层1042上，还可在抗反射层1041和防紫外线层1042之间设置其他功能层。 0047 此外，与上述液晶显示面板相对应的，本发明还提供了一种。
23、彩膜基板，所述彩膜基 板即为上述液晶显示面板实施例中描述的彩膜基板。在此，不再赘述。 0048 与上述彩膜基板相对应的，本发明实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法。如 图6所示，所述方法包括： 0049 101、提供基板； 0050 所述基板例如为玻璃基板等。 0051 102、在所述基板的一表面上形成彩膜层； 0052 形成彩膜层包括在基板该表面上形成红色树脂、绿色树脂、蓝色树脂，还可包括在 基板的该表面上形成黑矩阵。 0053 103、在所述彩膜层上形成光防护层； 0054 所述光防护层能够减少被彩膜基板反射回的光线。 0055 104、在所述基板的另一表面上贴覆偏振片。 0056 本发明。
24、实施例提供的彩膜基板的制作方法，形成的光防护层能够减少经由所述光 防护层射入所述彩膜基板的光线的被所述彩膜基板，特别是彩膜层和偏振片反射回的光 线，从而能够保护与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板上的薄膜晶体管免受紫外光和蓝光 的照射，进而避免薄膜晶体管因紫外光和蓝光的照射而产生光电流，改善液晶显示面板的 残像等不良现象。 0057 在本发明提供的一个实施例中，如图7所示，步骤103进一步包括： 说 明 书CN 102902100 A 5/5页 8 0058 1031、在所述彩膜层上形成防紫外线层； 0059 所述防紫外线层优选为防紫外线薄膜。 0060 若制备的彩膜基板需要公共电极ITO，则本步。
25、骤具体包括： 0061 a.在所述彩膜层上形成氧化铟锡层； 0062 b.在所述氧化铟锡层上形成防紫外线层。 0063 若制备的彩膜基板需要OC层，则本步骤具体包括： 0064 a.在所述彩膜层上形成保护层； 0065 b.在所述保护层上形成防紫外线层。 0066 1032、在所述防紫外线层上形成抗反射层。 0067 在形成单层结构的抗反射层时，本步骤可具体包括： 0068 a.将乙醛硅酸盐粘结剂的酒精溶液溶入Al 2 O 3 、SiO x 、MgF 2 和AlF 2 中的任一种形成 抗反射层悬浮液；其中，SiO x 例如为SiO 2 ，且所述SiO 2 粒子的大小为优选50nm600nm。 。
26、0069 b.将所述抗反射层悬浮液旋转涂覆于所述防紫外线层上并烘干形成所述抗反射 层。 0070 在形成多层结构的抗反射层时，本步骤可具体包括： 0071 a.提供基底； 0072 b.在所述基底上依次形成MgF 2 层和ZnS层。 0073 当然上述形成抗反射层的方法仅为示例说明，并不限定本发明实施例的保护范 围，本领域技术人员可根据公知常识或常用技术手段来形成单层或多层的抗发射层。 0074 以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何 熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵 盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。 说 明 书CN 102902100 A 1/3页 9 图1 图2 图3 说 明 书 附 图CN 102902100 A 2/3页 10 图4 图5 说 明 书 附 图CN 102902100 A 10 3/3页 11 图6 图7 说 明 书 附 图CN 102902100 A 11 。