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1、(10)申请公布号 CN 104040380 A (43)申请公布日 2014.09.10 C N 1 0 4 0 4 0 3 8 0 A (21)申请号 201380005326.7 (22)申请日 2013.05.17 2012-122734 2012.05.30 JP G02B 1/11(2006.01) B32B 7/02(2006.01) (71)申请人奥林巴斯株式会社 地址日本东京都 (72)发明人小山匡考 细川一幸 (74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限 公司 11127 代理人李辉 黄纶伟 (54) 发明名称 防反射膜、光学系统、光学设备以及防反射膜 的成膜方法 (57)。
2、 摘要 提供一种具有从可见光到红外区域(波长范 围400nm1600nm)的频带的防反射膜。交替层 叠高折射率物质和折射率比高折射率物质低的低 折射率物质，在最表层上层叠折射率比低折射率 物质低的超低折射率物质而构成为12层。从基板 侧起按顺序在第1、3、5、7、9、11层上层叠有高折 射率物质，在第2、4、6、8、10层上层叠低折射率物 质，在第12层上层叠有超低折射率物质。 (30)优先权数据 (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2014.07.11 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2013/063784 2013.05.17 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2013。
3、/179914 JA 2013.12.05 (51)Int.Cl. 权利要求书2页 说明书9页 附图10页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书2页 说明书9页 附图10页 (10)申请公布号 CN 104040380 A CN 104040380 A 1/2页 2 1.一种防反射膜，其特征在于， 该防反射膜具有12层的结构，交替层叠有高折射率物质和折射率比所述高折射率物 质低的低折射率物质，在最表层上层叠有折射率比所述低折射率物质低的超低折射率物 质。 2.根据权利要求1所述的防反射膜，其特征在于， 从基板侧起按顺序在第1、3、5、7、9、11层上层叠有所述。
4、高折射率物质，在第2、4、6、8、 10层上层叠有所述低折射率物质，在第12层上层叠有所述超低折射率物质。 3.根据权利要求1所述的防反射膜，其特征在于， 从基板起到第11层的光学膜厚为所述防反射膜的整体的光学膜厚的4以下。 4.根据权利要求2所述的防反射膜，其特征在于， 在各层中，由折射率n与物理膜厚d之积表示的光学膜厚nd满足以下各式： 第1层 0.02nd0.11 第2层 0.03nd0.22 第3层 0.06nd0.26 第4层 0.03nd0.18 第5层 0.09nd0.32 第6层 0.02nd0.16 第7层 0.10nd0.73 第8层 0.05nd0.17 第9层 0.06。
5、nd0.15 第10层 0.16nd0.27 第11层 0.02nd0.06 第12层 0.32nd0.39。 5.根据权利要求1至4中的任意一项所述的防反射膜，其特征在于， 所述高折射率物质为TiO 2 、Ta 2 O 5 、HfO 2 、Nb 2 O 5 或它们与La、Zr的混合物，所述低折射率 物质为SiO 2 、MgF 2 或它们的混合物。 6.根据权利要求1至5中的任意一项所述的防反射膜，其特征在于， 所述超低折射率物质的折射率在1.201.29的范围内。 7.根据权利要求1至6中的任意一项所述的防反射膜，其特征在于， 所述基板的折射率在1.441.88的范围内。 8.根据权利要求1。
6、至7中的任意一项所述的防反射膜，其特征在于， 所述超低折射率物质是通过湿式涂布形成膜的。 9.一种光学系统，其特征在于， 该光学系统由1片以上的光学基板构成，该光学基板具有权利要求1至7中的任意一 项所述的防反射膜。 10.一种光学设备，其特征在于， 该光学设备具有权利要求9所述的光学系统。 11.一种防反射膜的成膜方法，其特征在于具有： 第1成膜工序，在基板上交替层叠高折射率物质和折射率比所述高折射率物质低的低 权 利 要 求 书CN 104040380 A 2/2页 3 折射率物质；以及 第2成膜工序，通过湿式涂布在最表层上层叠折射率比所述低折射率物质低的超低折 射率物质。 12.根据权利。
7、要求11所述的防反射膜的成膜方法，其特征在于， 在所述第1成膜工序中，通过真空蒸镀、IAD、等离子体辅助、溅射或离子束溅射来成 膜。 权 利 要 求 书CN 104040380 A 1/9页 4 防反射膜、 光学系统、 光学设备以及防反射膜的成膜方法 技术领域 0001 本发明涉及防反射膜、具有该防反射膜的光学系统、具有该光学系统的光学设备 以及防反射膜的成膜方法。 背景技术 0002 近年来，在医疗、化学领域中，以下荧光显微镜的用途得以扩大：向细胞等观察对 象投放包含荧光蛋白质的试剂，在照射某一定波长的光时，会从试剂激励其他波长的荧光， 该荧光显微镜能够通过该荧光进行对象的观察。作为这种荧光。
8、显微镜之一，具有多光子吸 收显微镜。 0003 多光子吸收显微镜基于获得高输出的目的，使用高次、例如2次的激光作为激励 光。这里，用于可见光激励的激光的波长优选为红外光。 0004 这种情况下，多光子吸收显微镜的光学系统需要使观察用的荧光(可见光)和产 生荧光的作为激励激光的近红外光透射。因此，需要使从可见光到近红外光透射的防反射 膜。这里，作为激励光的激光的波长需要是荧光观察波长的约2倍。在荧光观察中，通过所 使用的试剂确定在观察中使用的波长。所使用的可见光的波长大致为500nm左右，因此防 反射膜优选使从可见光到近红外(约1000nm)的波长的光透射。 0005 作为通常的防反射膜，已知使。
9、可见光(波长范围400nm680nm)透射的3层结构 的设计。此外，在专利文献1中提出了仅使不包含可见光的近红外区域光透射的防反射膜。 进而，此外，在需要可见光的情况下要求遮断近红外区域的光，因而专利文献2提出了具有 使可见光透射、使近红外区域的光反射的特性的防反射膜。此外，作为使从可见光到近红外 区域光透射的防反射膜，在专利文献3中获得了使波长范围400nm1100nm的光透射的防 反射膜。 0006 在先技术文献 0007 专利文献 0008 专利文献1:日本特开2005-275294号公报 0009 专利文献2:日本特开平9-325211号公报 0010 专利文献3:日本特开2005-3。
10、38366号公报 发明内容 0011 发明要解决的课题 0012 在多光子吸收显微镜中，不仅能进行观察对象的表面的观察，还能进行内部的观 察。在使用多光子吸收显微镜进行观察对象的内部观察时，为了观察其深部，将更长波长 的激光用于激励光是有效的。此外，如果考虑到大气的光吸收等，则最好能够使用到波长 1600nm为止的长波长的激光。即，优选具有波长范围400nm1600nm的范围的透射频 带。因此，在现有的多光子吸收显微镜中，在用于进行观察的物镜上需要波长范围400nm 1600nm的防反射膜。 说 明 书CN 104040380 A 2/9页 5 0013 然而，如上所述，在专利文献1所述的防反。
11、射膜中，仅能使可见光和近红外区域中 的某一方的光透射。此外，在专利文献3所述的防反射膜中透射频带的宽度不足，在波长 1350nm时反射率为7，在波长1600nm时反射率为16，成为在透镜和基板以上的反射率， 因而未发挥防反射膜的作用。 0014 本发明就是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供一种具有从可见光到红外区 域(波长范围400nm1600nm)的频带的防反射膜。 0015 用于解决课题的手段 0016 为了解决上述课题并达成目的，本发明的防反射膜的特征在于，该防反射膜具有 12层的结构，交替层叠有高折射率物质和折射率比高折射率物质低的低折射率物质，在最 表层上层叠有折射率比低折射率物质。
12、低的超低折射率物质。 0017 本发明的光学系统的特征在于，其通过具有上述防反射膜的1片以上的光学基板 构成。 0018 本发明的光学设备的特征在于，其具有上述光学系统。 0019 本发明的防反射膜的成膜方法的特征在于，其具有：第1成膜工序，在基板上交替 层叠高折射率物质和折射率比高折射率物质低的低折射率物质；以及第2成膜工序，通过 湿式涂布在最表层上层叠折射率比低折射率物质低的超低折射率物质。 0020 发明的效果 0021 本发明的防反射膜能够提供一种具有从可见光到红外区域(波长范围400nm 1600nm)的频带的防反射膜。 0022 此外，通过在最表层上形成利用湿式涂布得到的层、并在其。
13、他层上层叠电介质多 层膜的结构，能够实现在波长范围400nm1600nm内为1以下的反射率的防反射膜。通 过使该防反射膜在光学零件上成膜，能够使用更长波长的激光作为激励光，能够在观察对 象的内部观察时进行更深部的观察。 附图说明 0023 图1是表示本发明的实施方式的多光子吸收显微镜的概要结构的图。 0024 图2是表示实施例1、实施例2、实施例3和实施例4的防反射膜的层结构的表。 0025 图3是表示实施例1、实施例2、实施例3和实施例4的防反射膜的最大反射率的 表。 0026 图4是表示实施例1的防反射膜的反射率特性的曲线图。 0027 图5是表示实施例2的防反射膜的反射率特性的曲线图。 。
14、0028 图6是表示实施例3的防反射膜的反射率特性的曲线图。 0029 图7是表示实施例4的防反射膜的反射率特性的曲线图。 0030 图8是表示实施例5和实施例6的防反射膜的层结构的表。 0031 图9是表示实施例5和实施例6的防反射膜的最大反射率的表。 0032 图10是表示实施例5的防反射膜的反射率特性的曲线图。 0033 图11是表示实施例6的防反射膜的反射率特性的曲线图。 0034 图12是表示实施例7和实施例8的防反射膜的层结构的表。 0035 图13是表示实施例7和实施例8的防反射膜的最大反射率的表。 说 明 书CN 104040380 A 3/9页 6 0036 图14是表示实施。
15、例7的防反射膜的反射率特性的曲线图。 0037 图15是表示实施例8的防反射膜的反射率特性的曲线图。 具体实施方式 0038 以下，根据附图详细说明本发明的防反射膜、具有该防反射膜的光学系统、具有该 光学系统的光学设备以及防反射膜的成膜方法的实施方式。另外，本发明并不限于以下的 实施方式。 0039 图1是表示本发明的光学设备的实施方式的多光子吸收显微镜的概要结构的图。 0040 在图1所示的多光子吸收显微镜中，通过激光光源101振荡的短脉冲激光在多层 膜滤波器102中被反射，经由光学系统110照射到放置在观察台103上的观察对象S。由于 该激光的照射而在观察对象S中产生的激励光在多层膜滤波器。
16、102中透射，能够实现观察 者B的观察。 0041 光学系统110中形成有防反射膜，对于波长范围400nm1600nm的光具有1以 下的反射率。 0042 该防反射膜通过在基板上按顺序层叠的12层构成，与基板相距最远的第12层 (最表层)是以作为超低折射率物质的中空硅为主要成分，通过湿式涂布而形成的超低折 射率层。作为湿式涂布的形成方法，例如可使用旋转涂布、浸涂、喷涂、喷墨、狭缝涂布( )。此外，利用湿式涂布得到的超低折射率层的折射率可在1.201.29 之间设定任意的值。 0043 第1层第11层是依次层叠电介质多层膜而构成的。该第1层第11层例如通 过真空蒸镀、IAD(Ion Assist。
17、ed Deposition：离子辅助)、等离子体辅助、溅射、离子束溅射 而成膜(第1成膜工序)。在该成膜之后，作为最表层，在第11层上层叠超低折射率物质 (第2成膜工序)。 0044 本实施方式的多光子吸收显微镜的光学系统优选用于多光子吸收显微镜用的物 镜，也可以应用于相机、眼镜、望远镜等光学设备的透镜、棱镜、滤波器。 0045 接着，说明本发明的实施方式的防反射膜的结构、作用、效果。 0046 本发明的实施方式的防反射膜的特征在于，交替层叠高折射率物质和折射率比高 折射率物质低的低折射率物质，在最表层上层叠折射率比低折射率物质低的超低折射率物 质，构成为12层。 0047 优选的是，在本发明。
18、的实施方式的防反射膜中，从基板侧起按顺序在第1、3、5、7、 9、11层上层叠高折射率物质，在第2、4、6、8、10层上层叠低折射率物质，在第12层上层叠超 低折射率物质。 0048 优选的是，在本发明的实施方式的防反射膜中，从基板起到第11层的光学膜厚为 防反射膜的整体的光学膜厚的4以下。 0049 优选的是，在本发明的实施方式的防反射膜的各层中，由折射率n与物理膜厚d之 积表示的光学膜厚nd满足以下各式。 0050 第1层 0.02nd0.11 0051 第2层 0.03nd0.22 0052 第3层 0.06nd0.26 说 明 书CN 104040380 A 4/9页 7 0053 第。
19、4层 0.03nd0.18 0054 第5层 0.09nd0.32 0055 第6层 0.02nd0.16 0056 第7层 0.10nd0.73 0057 第8层 0.05nd0.17 0058 第9层 0.06nd0.15 0059 第10层 0.16nd0.27 0060 第11层 0.02nd0.06 0061 第12层 0.32nd0.39 0062 在各层的光学膜厚nd未满足上述各式的情况下，难以对波长范围400nm1600nm 的光实现1以下的反射率。 0063 优选的是，在本发明的实施方式的防反射膜中，高折射率物质为TiO 2 、Ta 2 O 5 、HfO 2 、 Nb 2 O。
20、 5 或它们与La、Zr的混合物，低折射率物质为SiO 2 、MgF 2 或它们的混合物。 0064 在本发明的实施方式的防反射膜中，超低折射率物质的折射率优选为1.20 1.29。 0065 折射率若低于1.20则可应用的物质的选择较为困难，而高于1.29时，难以对波长 范围400nm1600nm的光实现1以下的反射率。 0066 在本发明的实施方式的防反射膜中，基板的折射率优选为1.441.88的范围。 0067 如果基板的折射率在1.441.88的范围外，则难以对波长范围400nm1600nm 的光实现1以下的反射率。 0068 在本发明的实施方式的防反射膜中，超低折射率物质优选通过湿式。
21、涂布形成膜。 0069 本发明的实施方式的光学系统的特征在于，其通过具有上述任意一个防反射膜的 1片以上的光学基板构成。 0070 本发明的实施方式的光学设备的特征在于，其具有上述光学系统。 0071 本发明的实施方式的防反射膜的成膜方法的特征在于，其具有：第1成膜工序，在 基板上交替层叠高折射率物质和折射率比高折射率物质低的低折射率物质；以及第2成膜 工序，通过湿式涂布在最表层上层叠折射率比低折射率物质低的超低折射率物质。 0072 优选的是，在本发明的实施方式的防反射膜的成膜方法中，在第1成膜工序中，通 过真空蒸镀、IAD、等离子体辅助、溅射或离子束溅射来成膜。 0073 接下来，说明本发。
22、明的实施方式的防反射膜的实施例。 0074 (实施例14) 0075 图2是表示实施例1、实施例2、实施例3和实施例4的防反射膜的层结构的表。图 3是表示实施例1、实施例2、实施例3和实施例4的防反射膜的最大反射率的表。图4是表 示实施例1的防反射膜的反射率特性的曲线图。图5是表示实施例2的防反射膜的反射率 特性的曲线图。图6是表示实施例3的防反射膜的反射率特性的曲线图。图7是表示实施 例4的防反射膜的反射率特性的曲线图。 0076 在图2中，示出设计波长550nm的各层的光学膜厚。光学膜厚是各层的折射率n 与物理膜厚d之积，通过设计波长/40.25表现。 0077 图3分别示出基板的折射率为。
23、图3所示的基板折射率范围的最小值和最大值时的 说 明 书CN 104040380 A 5/9页 8 最大反射率。这些最大反射率是波长范围400nm1600nm的最大反射率。 0078 图4中，通过实线表示基板的折射率n为1.44的情况，通过虚线表示基板的折射 率n为1.55的情况。 0079 图5中，通过实线表示基板的折射率n为1.55的情况，通过虚线表示基板的折射 率n为1.70的情况。 0080 图6中，通过实线表示基板的折射率n为1.70的情况，通过虚线表示基板的折射 率n为1.81的情况。 0081 图7中，通过实线表示基板的折射率n为1.81的情况，通过虚线表示基板的折射 率n为1.。
24、88的情况。 0082 如图2所示，实施例14的防反射膜是如下得到的12层的层叠体：在基板上交 替层叠作为高折射率物质的Ta 2 O 5 (折射率n2.22)和作为低折射率物质的SiO 2 (折射率 n1.45)而构成11层，进而在距离基板较远侧层叠超低折射率物质。 0083 作为高折射率物质的Ta 2 O 5 从基板侧起按顺序作为第1、第3、第5、第7、第9和第 11层的高折射率层配置，作为低折射率物质的SiO 2 从基板侧起按顺序作为第2、第4、第6、 第8和第10层的低折射率层配置，超低折射率物质作为第12层(最表层、超低折射率层) 配置。 0084 这里，在层叠体的各层，作为折射率n与。
25、物理膜厚d之积的光学膜厚满足如下各 式。 0085 第1层 0.02nd0.11 0086 第2层 0.03nd0.22 0087 第3层 0.06nd0.26 0088 第4层 0.03nd0.18 0089 第5层 0.09nd0.32 0090 第6层 0.02nd0.16 0091 第7层 0.10nd0.73 0092 第8层 0.05nd0.17 0093 第9层 0.06nd0.15 0094 第10层 0.16nd0.27 0095 第11层 0.02nd0.06 0096 第12层 0.32nd0.39 0097 (实施例1) 0098 如图4所示，实施例1的防反射膜在折射率。
26、1.44和折射率1.55的基板上，在波长 范围400nm1600nm内反射率都在1以下。这在折射率1.44与折射率1.55之间的范围 的折射率的基板上也相同。 0099 具体而言，如图3所示，在折射率最小(n1.44)的基板上形成的防反射膜中，最 大反射率为0.84，在折射率最大(n1.55)的基板上形成的防反射膜中，最大反射率为 0.92，最大反射率未超过1。 0100 (实施例2) 0101 如图5所示，实施例2的防反射膜在折射率1.55和折射率1.70的基板上，在波长 说 明 书CN 104040380 A 6/9页 9 范围400nm1600nm内反射率都在1以下。这在折射率1.55与。
27、折射率1.70之间的范围 的折射率的基板上也相同。 0102 具体而言，如图3所示，在折射率最小(n1.55)的基板上形成的防反射膜中，最 大反射率为0.97，在折射率最大(n1.70)的基板上形成的防反射膜中，最大反射率为 0.97，最大反射率未超过1。 0103 (实施例3) 0104 如图6所示，实施例3的防反射膜在折射率1.70和折射率1.81的基板上，在波长 范围400nm1600nm内反射率都在1以下。这在折射率1.70与折射率1.81之间的范围 的折射率的基板上也相同。 0105 具体而言，如图3所示，在折射率最小(n1.70)的基板上形成的防反射膜中，最 大反射率为0.98，在。
28、折射率最大(n1.81)的基板上形成的防反射膜中，最大反射率为 0.93，最大反射率未超过1。 0106 (实施例4) 0107 如图7所示，实施例4的防反射膜在折射率1.81和折射率1.88的基板上，在波长 范围400nm1600nm内反射率都在1以下。这在折射率1.81与折射率1.88之间的范围 的折射率的基板上也相同。 0108 具体而言，如图3所示，在折射率最小(n1.81)的基板上形成的防反射膜中，最 大反射率为0.84，在折射率最大(n1.88)的基板上形成的防反射膜中，最大反射率为 0.95，最大反射率未超过1。 0109 (实施例56) 0110 图8是表示实施例5和实施例6的。
29、防反射膜的层结构的表。图9是表示实施例5 和实施例6的防反射膜的最大反射率的表。图10是表示实施例5的防反射膜的反射率特 性的曲线图。图11是表示实施例6的防反射膜的反射率特性的曲线图。 0111 图8示出了设计波长550nm的各层的光学膜厚。光学膜厚是各层的折射率n与物 理膜厚d之积，通过设计波长/40.25表现。 0112 图9中分别示出基板的折射率为图8所示的基板折射率范围的最小值和最大值时 最大反射率。这些最大反射率是在波长范围400nm1600nm的最大反射率。 0113 在图10中，通过实线表示基板的折射率n为1.70的情况，通过虚线表示基板的折 射率n为1.45的情况，通过单点划。
30、线表示基板的折射率n为1.88的情况。在图11中，通 过实线表示基板的折射率n为1.44的情况，通过虚线表示基板的折射率n为1.88的情况。 0114 如图8所示，实施例56的防反射膜是如下得到的12层的层叠体：在基板上交 替层叠作为高折射率物质的HfO 2 (折射率n1.99)和作为低折射率物质的SiO 2 (折射率 n1.45)而构成11层，进而在距离基板较远侧层叠超低折射率物质。 0115 作为高折射率物质的HfO 2 从基板侧起按顺序作为第1、第3、第5、第7、第9和第 11层的高折射率层配置，作为低折射率物质的SiO 2 从基板侧起按顺序作为第2、第4、第6、 第8和第10层的低折射。
31、率层配置，超低折射率物质作为第12层(最表层、超低折射率层) 配置。 0116 这里，在层叠体的各层中，作为折射率n与物理膜厚d之积的光学膜厚满足如下各 式。 说 明 书CN 104040380 A 7/9页 10 0117 第1层 0.02nd0.11 0118 第2层 0.03nd0.22 0119 第3层 0.06nd0.26 0120 第4层 0.03nd0.18 0121 第5层 0.09nd0.32 0122 第6层 0.02nd0.16 0123 第7层 0.10nd0.73 0124 第8层 0.05nd0.17 0125 第9层 0.06nd0.15 0126 第10层 0.。
32、16nd0.27 0127 第11层 0.02nd0.06 0128 第12层 0.32nd0.39 0129 (实施例5) 0130 如图10所示，实施例5的防反射膜在折射率1.44、1.70和1.88的基板上，在波长 范围400nm1600nm内反射率都在1以下。这在折射率1.44、1.70、1.88之间的范围的 折射率的基板也相同。 0131 具体而言，如图9所示，在折射率最小(n1.44)的基板上形成的防反射膜中，最 大反射率为0.80，在折射率为中间(n1.70)的基板上形成的防反射膜中，最大反射率 为0.81，在折射率最大(n1.88)的基板上形成的防反射膜中，最大反射率为0.82。
33、， 最大反射率未超过1。 0132 (实施例6) 0133 如图11所示，实施例6的防反射膜在折射率1.44和折射率1.88的基板上，在波 长范围400nm1600nm内反射率都在1以下。这在折射率1.44与折射率1.88之间的范 围的折射率的基板也相同。 0134 具体而言，如图9所示，在折射率最小(n1.44)的基板形成的防反射膜中，最 大反射率为0.86，在折射率最大(n1.88)的基板形成的防反射膜中，最大反射率为 0.95，最大反射率未超过1。 0135 (实施例78) 0136 图12是表示实施例7和实施例8的防反射膜的层结构的表。图13是表示实施例 7和实施例8的防反射膜的最大反。
34、射率的表。图14是表示实施例7的防反射膜的反射率特 性的曲线图。图15是表示实施例8的防反射膜的反射率特性的曲线图。 0137 图12示出设计波长550nm的各层的光学膜厚。光学膜厚是各层的折射率n与物 理膜厚d之积，通过设计波长/40.25表现。 0138 图13分别示出基板的折射率为图12所示的基板折射率范围的最小值和最大值时 的最大反射率。这些最大反射率是在波长范围400nm1600nm的最大反射率。 0139 图14中，通过实线表示基板的折射率n为1.44的情况，通过虚线表示基板的折射 率n为1.88的情况。 0140 图15中，通过实线表示基板的折射率n为1.44的情况，通过虚线表示。
35、基板的折射 率n为1.88的情况。 说 明 书CN 104040380 A 10 8/9页 11 0141 如图12所示，实施例78的防反射膜是如下得到的12层的层叠体：在基板上交 替层叠作为高折射率物质的TiO 2 (折射率n2.22)和作为低折射率物质的MgF 2 (折射率 n1.38)而构成11层，进而在距离基板较远侧层叠超低折射率物质。 0142 作为高折射率物质的TiO 2 从基板侧起按顺序作为第1、第3、第5、第7、第9和第 11层的高折射率层配置，作为低折射率物质的MgF 2 从基板侧起按顺序作为第2、第4、第6、 第8和第10层的低折射率层配置，超低折射率物质作为第12层(最表。
36、层、超低折射率层) 配置。 0143 这里，在层叠体的各层中，作为折射率n与物理膜厚d之积的光学膜厚满足如下各 式。 0144 第1层 0.02nd0.11 0145 第2层 0.03nd0.22 0146 第3层 0.06nd0.26 0147 第4层 0.03nd0.18 0148 第5层 0.09nd0.32 0149 第6层 0.02nd0.16 0150 第7层 0.10nd0.73 0151 第8层 0.05nd0.17 0152 第9层 0.06nd0.15 0153 第10层 0.16nd0.27 0154 第11层 0.02nd0.06 0155 第12层 0.32nd0.3。
37、9 0156 (实施例7) 0157 如图14所示，实施例7的防反射膜在折射率1.44和折射率1.88的基板上，在波 长范围400nm1600nm内反射率都在1以下。这在折射率1.44与折射率1.88之间的范 围的折射率的基板也相同。 0158 具体而言，如图13所示，在折射率最小(n1.44)的基板上形成的防反射膜中， 最大反射率为0.91，在折射率最大(n1.88)的基板上形成的防反射膜中，最大反射率 为0.80，最大反射率未超过1。 0159 (实施例8) 0160 如图15所示，实施例8的防反射膜在折射率1.44和折射率1.88的基板上，在波 长范围400nm1600nm内反射率都在1。
38、以下。这在折射率1.44与折射率1.88之间的范 围的折射率的基板也相同。 0161 具体而言，如图13所示，在折射率最小(n1.44)的基板上形成的防反射膜中， 最大反射率为0.93，在折射率最大(n1.88)的基板上形成的防反射膜中，最大反射率 为0.92，最大反射率未超过1。 0162 (变形例) 0163 在上述的实施例18中，基于提高与光学零件的表面之间的密合度或提高施加 了防反射膜的光学零件的最表层的防水性、防雾性、耐久性等目的，也可以在光学零件与第 1层之间和/或第12层的更外侧，在不会对光学特性带来过大影响的范围内设置其他层。 说 明 书CN 104040380 A 11 9/。
39、9页 12 例如，可以在第12层的外侧进行SiO 2 的保护膜涂布。 0164 产业上的利用可能性 0165 如上所述，本发明的防反射膜对于在物镜上需要从可见光到红外区域的波长范围 的防反射膜的多光子吸收显微镜是有用的。 0166 符号说明 0167 101：激光光源 0168 102：多层膜滤波器 0169 103：观察台 0170 110：光学系统 0171 S：观察对象 说 明 书CN 104040380 A 12 1/10页 13 图1 说 明 书 附 图CN 104040380 A 13 2/10页 14 图2 说 明 书 附 图CN 104040380 A 14 3/10页 15 。
40、图3 图4 说 明 书 附 图CN 104040380 A 15 4/10页 16 图5图6 说 明 书 附 图CN 104040380 A 16 5/10页 17 图7 说 明 书 附 图CN 104040380 A 17 6/10页 18 图8 图9 说 明 书 附 图CN 104040380 A 18 7/10页 19 图10 图11 说 明 书 附 图CN 104040380 A 19 8/10页 20 图12 说 明 书 附 图CN 104040380 A 20 9/10页 21 图13 图14 说 明 书 附 图CN 104040380 A 21 10/10页 22 图15 说 明 书 附 图CN 104040380 A 22 。