第一基板的第一膜层的检测系统及利用其的检测方法.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201510145947.6

申请日:

2015.03.30

公开号:

CN104698633A

公开日:

2015.06.10

当前法律状态:

实审

有效性:

审中

法律详情:

实质审查的生效IPC(主分类):G02F 1/13申请日:20150330|||公开

IPC分类号:

G02F1/13

主分类号:

G02F1/13

申请人:

京东方科技集团股份有限公司; 北京京东方显示技术有限公司

发明人:

孙志义; 马荣记; 张然

地址:

100015北京市朝阳区酒仙桥路10号

优先权:

专利代理机构:

北京同达信恒知识产权代理有限公司11291

代理人:

宋珊珊

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内容摘要

本发明公开了一种第一基板的第一膜层的检测系统及利用其的检测方法。检测系统包括:线光源和光敏装置,所述线光源用于向所述光敏装置发射检测光,所述光敏装置用于接收检测光且转换成光敏信号;其中,检测光可透过所述第一基板;传送装置,用于传送所述第一基板使之通过检测区域,其中,所述检测区域是检测光和所述传送装置在传送第一基板时第一基板所在平面相交的区域;处理单元,用于根据所述第一基板在通过检测区域期间的所述光敏信号的强度是否均在预设范围内,判断所述第一膜层是否符合要求。利用上述检测系统的检测方法。与现有技术相比,本发明的检测系统及利用其的检测方法加快了检测第一基板的第一膜层的检测速度。

权利要求书

权利要求书
1.  一种第一基板的第一膜层的检测系统,所述第一基板包括矩形衬底基 板,所述第一膜层覆盖在所述衬底基板之上;其特征在于,包括:
线光源和光敏装置,所述线光源用于向所述光敏装置发射检测光,所述光 敏装置用于接收检测光且转换成光敏信号;其中,检测光可透过所述第一基板;
传送装置,用于传送所述第一基板使之通过检测区域,其中,所述检测区 域是检测光和所述传送装置在传送第一基板时第一基板所在平面相交的区域;
处理单元,用于根据所述第一基板在通过检测区域期间的所述光敏信号的 强度是否均在预设范围内,判断所述第一膜层是否符合要求。

2.  根据权利要求1所述的检测系统,其特征在于,在所述第一基板通过所 述检测区域期间,
所述光敏信号的强度α始终是A≤α≤B,所述处理单元判断所述第一膜层 符合要求;其中,A是检测光透过第一膜层的厚度为预设范围的最大值且均匀 分布的第一基板的光敏信号的强度;B是检测光透过第一膜层的厚度为预设范围 的最小值且均匀分布的第一基板的光敏信号的强度;
出现α<A或α>B时,所述处理单元判断所述第一膜层不符合要求。

3.  根据权利要求2所述的检测系统,其特征在于,出现α<A时,所述处 理单元判断所述第一膜层的厚度出现大于设定范围的最大值;
出现B<α<C时,所述处理单元判断第一膜层的厚度出现小于设定范围的 最小值;其中,C是检测光通过所述衬底基板上没有形成第一膜层的光敏信号的 强度;
出现α≥C时,所述处理单元判断所述衬底基板上出现没有形成第一膜层的 区域。

4.  根据权利要求1或2或3所述的检测系统,其特征在于,所述光敏装置 的长度大于等于所述线光源的长度。

5.  根据权利要求4所述的检测系统,其特征在于,所述传送装置位于所述 线光源和光敏装置之间。

6.  根据权利要求5所述的检测系统,其特征在于,还包括感应装置,其用 于感应所述第一基板的前端到达所述检测区域和该第一基板的尾端离开所述检 测区域并将感应信号传输至处理单元;
所述处理单元在所述感应装置感应到所述第一基板的前端到达所述检测区 域到该第一基板的尾端离开所述检测区域期间,根据所述光敏信号判断所述第 一膜层是否符合要求。

7.  根据权利要求6所述的检测系统,其特征在于,还包括采集装置,其与 所述光敏装置和处理单元连接;
在所述第一基板通过检测区域期间,每隔一定的时间间隔采集一次光敏信 号并将光敏信号传输至所述处理单元。

8.  根据权利要求7所述的检测系统,其特征在于,当所述衬底基板是无机 玻璃,所述第一膜层是氧化铟锡时;
所述线光源所发射的检测光是波长为280~100纳米的光或波长为780~2526 纳米的光。

9.  一种利用权利要求1所述的检测系统对第一基板的第一膜层进行检测的 检测方法,其特征在于,包括如下步骤:
线光源向光敏装置发射检测光,光敏装置接收检测光且转换成光敏信号;
传送装置传送第一基板使之通过检测区域,衬底基板的第一边与传送装置 的传送方向相垂直,其中,衬底基板第一边的长度小于等于线光源的长度;
处理单元根据所述第一基板通过检测区域期间的所述光敏信号的强度是否 均在预设范围内,判断所述第一膜层是否符合要求。

10.  根据权利要求9所述的检测方法,其特征在于,在所述第一基板通过 所述检测区域期间,
所述光敏信号的强度α始终是A≤α≤B,所述处理单元判断所述第一膜层 符合要求;其中,A是检测光透过第一膜层的厚度为预设范围的最大值且均匀 分布的第一基板的光敏信号的强度;B是检测光透过第一膜层的厚度为预设范围 的最小值且均匀分布的第一基板的光敏信号的强度;
出现α<A或α>B时,所述处理单元判断所述第一膜层不符合要求。

11.  根据权利要求10所述的检测方法,其特征在于,出现α<A时,所述 处理单元判断所述第一膜层的厚度出现大于设定范围的最大值;
出现B<α<C时,所述处理单元判断第一膜层的厚度出现小于设定范围的 最小值;其中,C是检测光通过所述衬底基板上没有形成第一膜层的光敏信号的 强度;
出现α≥C时,所述处理单元判断所述衬底基板上出现没有形成第一膜层的 区域。

说明书

说明书第一基板的第一膜层的检测系统及利用其的检测方法
技术领域
本发明涉及膜层检测领域,特别涉及一种第一基板的第一膜层的检测系统 及利用其的检测方法。
背景技术
氧化铟锡(Indium-Tin,简称ITO)膜作为液晶显示器中的电极或屏蔽静电 的透明金属膜是一种不可缺少的组成。氧化铟锡膜是膜厚很小且可见光透过率 高,人眼不容易观察到有无ITO膜。
现有的检测氧化铟锡(Indium-Tin,简称ITO)膜的方式是通过测试基板的 面电阻对ITO膜进行检测。测试基板的面电阻的设备测试时间较长,检测面积 较小,无法实现快速检测。
发明内容
本发明提供了一种第一基板的第一膜层的检测系统及利用其的检测方法, 与现有技术相比,加快了检测的速度。
为达到上述目的,本发明提供以下技术方案:
一种第一基板的第一膜层的检测系统,所述第一基板包括矩形衬底基板, 所述第一膜层覆盖在所述衬底基板之上;包括:
线光源和光敏装置,所述线光源用于向所述光敏装置发射检测光,所述光 敏装置用于接收检测光且转换成光敏信号;其中,检测光可透过所述第一基板;
传送装置,用于传送所述第一基板使之通过检测区域,其中,所述检测区 域是检测光和所述传送装置在传送第一基板时第一基板所在平面相交的区域;
处理单元,用于根据所述第一基板在通过检测区域期间的所述光敏信号的 强度是否均在预设范围内,判断所述第一膜层是否符合要求。
优选的,在所述第一基板通过所述检测区域期间,
所述光敏信号的强度α始终是A≤α≤B,所述处理单元判断所述第一膜层 符合要求;其中,A是检测光透过第一膜层的厚度为预设范围的最大值且均匀 分布的第一基板的光敏信号的强度;B是检测光透过第一膜层的厚度为预设范围 的最小值且均匀分布的第一基板的光敏信号的强度;
出现α<A或α>B时,所述处理单元判断所述第一膜层不符合要求。
优选的,出现α<A时,所述处理单元判断所述第一膜层的厚度出现大于设 定范围的最大值;
出现B<α<C时,所述处理单元判断第一膜层的厚度出现小于设定范围的 最小值;其中,C是检测光通过所述衬底基板上没有形成第一膜层的光敏信号的 强度;
出现α≥C时,所述处理单元判断所述衬底基板上出现没有形成第一膜层的 区域。
优选的,所述光敏装置的长度大于等于所述线光源的长度。
优选的,所述传送装置位于所述线光源和光敏装置之间。
优选的,还包括感应装置,其用于感应所述第一基板的前端到达所述检测 区域和该第一基板的尾端离开所述检测区域并将感应信号传输至处理单元;
所述处理单元在所述感应装置感应到所述第一基板的前端到达所述检测区 域到该第一基板的尾端离开所述检测区域期间,根据所述光敏信号判断所述第 一膜层是否符合要求。
优选的,还包括采集装置,其与所述光敏装置和处理单元连接;
在所述第一基板通过检测区域期间,每隔一定的时间间隔采集一次光敏信 号并将光敏信号传输至所述处理单元。
优选的,当所述衬底基板是无机玻璃,所述第一膜层是氧化铟锡时;
所述线光源所发射的检测光是波长为280~100纳米的光或波长为780~2526 纳米的光。
本发明还提供以下技术方案:
一种利用上述检测系统对第一基板的第一膜层进行检测的检测方法,包括 如下步骤:
线光源向光敏装置发射检测光,光敏装置接收检测光且转换成光敏信号;
传送装置传送第一基板使之通过检测区域,衬底基板的第一边与传送装置 的传送方向相垂直,其中,衬底基板第一边的长度小于等于线光源的长度;
处理单元根据所述第一基板通过检测区域期间的所述光敏信号的强度是否 均在预设范围内,判断所述第一膜层是否符合要求。
优选的,在所述第一基板通过所述检测区域期间,
所述光敏信号的强度α始终是A≤α≤B,所述处理单元判断所述第一膜层 符合要求;其中,A是检测光透过第一膜层的厚度为预设范围的最大值且均匀 分布的第一基板的光敏信号的强度;B是检测光透过第一膜层的厚度为预设范围 的最小值且均匀分布的第一基板的光敏信号的强度;
出现α<A或α>B时,所述处理单元判断所述第一膜层不符合要求。
优选的,出现α<A时,所述处理单元判断所述第一膜层的厚度出现大于设 定范围的最大值;
出现B<α<C时,所述处理单元判断第一膜层的厚度出现小于设定范围的 最小值;其中,C是检测光通过所述衬底基板上没有形成第一膜层的光敏信号的 强度;
出现α≥C时,所述处理单元判断所述衬底基板上出现没有形成第一膜层的 区域。
本发明提供的检测系统及利用其的检测方法,线光源向所述光敏装置发射 可透过第一基板的检测光,传送装置传送第一基板使之通过检测区域,在第一 基板通过所述检测区域期间,光敏装置接收透过第一基板的检测光并转化成光 敏信号,处理单元根据光敏信号的强度是否均在预设范围内,判断第一基板的 第一膜层是否符合要求。本实施例的检测系统,其通过简单的结构和检测方法, 对第一基板的第一膜层是否符合要求进行快速检测。与现有技术相比,加快了 检测的速度。
附图说明
图1为本发明的检测系统的示意图;
图2为利用本发明的检测系统进行检测的检测方法的流程图。
主要元件附图标记说明:
100线光源,200光敏装置,300传送装置,400第一基板。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清 楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是 全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造 性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明的第一个实施例的检测系统,用于对第一基板的第一膜层进行检测, 其中,所述第一基板包括矩形衬底基板,所述第一膜层覆盖在所述衬底基板之 上。检测系统如图1所示,包括:
线光源100和光敏装置200,所述线光源100用于向所述光敏装置200发射 检测光,所述光敏装置200用于接收检测光且转换成光敏信号;其中,检测光 可透过所述第一基板;
传送装置300,用于传送所述第一基板400使之通过检测区域,其中,所述 检测区域是检测光和所述传送装置在传送第一基板时第一基板所在平面相交的 区域;
处理单元,用于根据所述第一基板400在通过检测区域期间的光敏信号的 强度是否均在预设范围内,判断所述第一膜层是否符合要求。
利用上述检测系统对第一基板的第一膜层进行检测的检测方法,如图2所 示,包括如下步骤:
步骤S001:线光源向光敏装置发射检测光,光敏装置接收检测光且转换成 光敏信号;
步骤S002:传送装置传送第一基板使之通过检测区域,衬底基板的第一边 与传送装置的传送方向相垂直,其中,衬底基板第一边的长度小于等于线光源 的长度;
步骤S003:处理单元根据所述第一基板通过检测区域期间的所述光敏信号 的强度是否均在预设范围内,判断所述第一膜层是否符合要求。
本实施例的检测系统及利用其的检测方法,线光源向所述光敏装置发射可 透过第一基板的检测光,传送装置传送第一基板使之通过检测区域,在第一基 板通过所述检测区域期间,光敏装置接收透过第一基板的检测光并转化成光敏 信号,处理单元根据光敏信号的强度是否均在预设范围内,判断第一基板的第 一膜层是否符合要求。本实施例的检测系统,其通过简单的结构和检测方法, 对第一基板的第一膜层是否符合要求进行快速检测。与现有技术相比,加快了 检测的速度。
具体的,在所述第一基板通过所述检测区域期间,
所述光敏信号的强度α始终是A≤α≤B,所述处理单元判断所述第一膜层 符合要求;其中,A是检测光透过第一膜层的厚度为预设范围的最大值且均匀 分布的第一基板的光敏信号的强度;B是检测光透过第一膜层的厚度为预设范围 的最小值且均匀分布的第一基板的光敏信号的强度;
出现α<A或α>B时,所述处理单元判断所述第一膜层不符合要求。
这样,可以快速的对第一基板的第一膜层进行检测。
在对某一规格的第一基板进行检测前,需要设定预设范围,即找到A和B, 包括如下步骤:
首先,需要找到一个第一膜层的厚度为预设范围的最大值且均匀分布的标 准第一基板;
然后,线光源向光敏装置发射检测光;
之后,将标准第一基板放置于所述传送装置之上,光敏装置得到透过标准 第一基板的检测光的光敏信号的强度,此时的光敏信号的强度就是A;
同理,可以得到B。
进一步的,对第一膜层不符合要求的情况还可以进行进一步细分:
出现α<A时,所述处理单元判断所述第一膜层的厚度出现大于设定范围的 最大值;
出现B<α<C时,所述处理单元判断第一膜层的厚度出现小于设定范围的 最小值;其中,C是检测光通过所述衬底基板上没有形成第一膜层的光敏信号的 强度;
出现α≥C时,所述处理单元判断所述衬底基板上出现没有形成第一膜层的 区域。
具体的,如图1所示,所述光敏装置的长度大于等于所述线光源的长度。 线光源的长度决定了检测光的宽度,进而决定了检测区域的宽度,光敏装置的 长度大于等于所述线光源的长度,即光敏装置的长度大于等于检测区域的宽度, 保证了透过检测区域的检测光都能被光敏装置接收到,保证了光敏装置的光敏 信号的准确性。
具体的,如图2所示,所述传送装置300位于所述线光源100和光敏装置 200之间。这样,传送装置设置的方式比较简单,检测系统的结构也相应简单。
进一步的,还包括感应装置,其用于感应所述第一基板的前端到达所述检 测区域和该第一基板的尾端离开所述检测区域并将感应信号传输至处理单元;
所述处理单元在所述感应装置感应到所述第一基板的前端到达所述检测区 域到该第一基板的尾端离开所述检测区域期间,根据所述光敏信号判断所述第 一膜层是否符合要求。
感应装置和处理单元相配合,可以判断第一基板是否位于通过检测区域的 期间,为处理单元正确对第一基板的第一膜层的检测提供前提条件。
进一步的,检测系统还包括采集装置,其与所述光敏装置和处理单元连接;
在所述第一基板通过检测区域期间,每隔一定的时间间隔采集一次光敏信 号并将光敏信号传输至所述处理单元。
采集的时间间隔和传送装置传送的速度,决定了在所述第一基板通过检测 区域期间,采集到的光敏信号的数量,采集到的光敏信号越多,对第一基板的 第一膜层的检测的准确性越高。
具体到衬底基板是无机玻璃,所述第一膜层是氧化铟锡时,所述线光源所 发射的检测光是波长为280~100纳米的光或波长为780~2526纳米的光。当检 测系统检测的第一基板的衬底基板是无机玻璃,第一膜层是氧化铟锡膜层时, 所述线光源所发射的检测光是波长为280~100纳米的光或波长为780~2526纳 米的光,以保证检测光能透过第一基板。
显然,本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱 离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利 要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

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本发明公开了一种第一基板的第一膜层的检测系统及利用其的检测方法。检测系统包括:线光源和光敏装置,所述线光源用于向所述光敏装置发射检测光,所述光敏装置用于接收检测光且转换成光敏信号;其中,检测光可透过所述第一基板;传送装置,用于传送所述第一基板使之通过检测区域,其中,所述检测区域是检测光和所述传送装置在传送第一基板时第一基板所在平面相交的区域;处理单元,用于根据所述第一基板在通过检测区域期间的所述光。

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