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1、(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201410412432.3(22)申请日 2014.08.2010-2013-0102478 2013.08.28 KRG03F 1/72(2012.01)(71)申请人 AP系统股份有限公司地址韩国京畿道华城市东滩面东滩产团8便道15-5(72)发明人梁相熙 白圣焕 金戊一 金镐岩(74)专利代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205代理人臧建明(54) 发明名称用于修正掩模的倾角的设备以及基质处理设备(57) 摘要本发明提供一种用于修正掩模的倾角的设备。所述设备包含：掩模支撑主体，其经配置以支撑其上形成有图案的掩模；掩模支。
2、撑主体移动单元，其经配置以改变掩模支撑主体的XY平面的倾角；照相机单元，其为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及控制单元，其经配置以控制掩模支撑主体移动单元，由此改变掩模的XY平面的倾角，以使得当激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，激光束穿透图像与参考焦点图像匹配。(30)优先权数据(51)Int.Cl.(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请权利要求书2页 说明书7页 附图6页(10)申请公布号 CN 104423146 A(43)申请公布日 2015.03.18CN 104423146 A1/2页21.一种用于修正掩模的倾角的设备，其特征在于，。
3、所述设备包括：掩模支撑主体，所述掩模支撑主体经配置以支撑其上形成有图案的掩模；掩模支撑主体移动单元，所述掩模支撑主体移动单元经配置以改变所述掩模支撑主体的XY平面的倾角；照相机单元，所述照相机单元为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及控制单元，所述控制单元经配置以控制所述掩模支撑主体移动单元，由此改变所述掩模的所述XY平面的所述倾角，以使得当所述激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，所述激光束穿透图像与所述参考焦点图像匹配。2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述照相机单元设置在所述基质支撑件中。3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述照相机单元包括红外。
4、线照相机和近红外线照相机中的一者。4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述掩模支撑主体包括：掩模固持器，所述掩模固持器具有中心部分穿透的框架形状，所述掩模固持器具有第一顶点、第二顶点、第三顶点和第四顶点，其中所述掩模放置在所述掩模固持器上，并且所述掩模固持器的所述XY平面的倾角是变化的；掩模状态，所述掩模状态经配置以支撑其顶部表面上的所述掩模固持器；以及倾角变化模块，所述倾角变化模块经配置以单独地调节所述掩模固持器的所述顶点的Z轴高度，以改变所述XY平面的所述倾角。5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述倾角变化模块包括：高度调节部分，所述高度调节部分经配置以使所述掩模固持器的所述。
5、第一顶点、所述第二顶点和所述第三顶点的所述Z轴高度能够单独地升高或降低；以及支撑主体，所述支撑主体经配置以将所述掩模固持器的所述第四顶点连接到掩模载物台上。6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述高度调节部分是在其纵向方向上长度可变地调节的电动机，并且其纵向方向上的两端分别连接到所述掩模载物台和所述掩模固持器的所述顶点上。7.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述高度调节部分包括：第一高度调节部分，所述第一高度调节部分经配置以使所述掩模固持器的所述第一顶点的所述Z轴高度能够升高或降低；第二高度调节部分，所述第二高度调节部分经配置以使所述掩模固持器的所述第二顶点的所述Z轴高度能够升高或。
6、降低；以及第三高度调节部分，所述第三高度调节部分经配置以使所述掩模固持器的所述第三顶点的所述Z轴高度能够升高或降低。8.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述掩模支撑主体移动单元进一步包括掩模载物台移动部分，所述掩模载物台移动部分经配置以在X轴和Y轴方向上移动所述掩模载物台并且使所述掩模载物台旋转。9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，当所述激光束穿透图像偏离参考位置时，权 利 要 求 书CN 104423146 A2/2页3所述掩模载物台移动部分经控制以在X轴和Y轴方向上移动所述掩模载物台并且使所述掩模载物台旋转，以使得所述激光束穿透图像与所述参考位置匹配。10.根据权利要求5所述的。
7、设备，其特征在于，所述激光束穿透图像和所述参考焦点图像中的每一者具有线形，并且当所述激光束穿透图像具有大于所述参考焦点图像的厚度时，所述控制单元使所述掩模固持器的所述第一顶点、所述第二顶点和所述第三顶点中的至少一者能够升高。11.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述激光束穿透图像和所述参考焦点图像中的每一者具有线形，并且当所述激光束穿透图像具有小于所述参考焦点图像的厚度时，所述控制单元使所述掩模固持器的所述第一顶点、所述第二顶点和所述第三顶点中的至少一者能够降低。12.一种基质处理设备，其特征在于，包括：腔室，所述腔室具有基质在其中图案化的内部空间；基质支撑件，所述基质支撑件设置在所述内。
8、部空间中以支撑所述基质；激光源，所述激光源经配置以产生激光束；掩模支撑主体，所述掩模支撑主体设置在所述激光源与所述基质支撑件之间，以支撑其上形成有图案的掩模；掩模支撑主体移动单元，所述掩模支撑主体移动单元经配置以改变所述掩模支撑主体的XY平面的倾角；照相机单元，所述照相机单元经配置以为穿过设置在所述基质支撑件上的所述基质的所述激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及控制单元，所述控制单元经配置以控制所述掩模支撑主体移动单元，由此改变所述掩模的所述XY平面的所述倾角，以使得当所述激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，所述激光束穿透图像与所述参考焦点图像匹配。13.根据权利要求12所述的基质处理设备，其。
9、特征在于，所述掩模支撑主体移动单元在X轴和Y轴方向上移动所述掩模支撑主体并且使掩模支撑件旋转。权 利 要 求 书CN 104423146 A1/7页4用于修正掩模的倾角的设备以及基质处理设备技术领域0001 本发明涉及一种用于修正掩模的倾角的设备，所述掩模用于通过使用激光束使基质图案化，所述用于修正掩模的倾角的设备应用于基质处理设备。背景技术0002 根据有机电致发光装置的材料和工艺，有机电致发光显示装置可以分为使用湿法工艺的高分子装置和使用沉积工艺的低分子装置。在使高分子发光层或低分子发光层图案化的方法之中的喷墨印刷方法的情况下，除了发光层之外的有机层在材料上受到限制，并且不便于在基质上形成。
10、用于喷墨印刷的结构。而且，当发光层通过沉积工艺得到图案化时，由于金属掩模的使用而难以制造大型装置。0003 作为图案化方法的替代技术，使用激光诱导热成像(laser induced thermal imaging，LITI)方法。LITI方法被定义为这样一种方法，其中从光源产生的激光束被转换成热能，并且随后用于形成图案的材料由于热能而传递到基质上以在基质上形成图案。为此，施体薄膜具有这样一种结构，其中作为受体的基质完全由施体薄膜覆盖，并且施体薄膜和基质被固定到载物台上。施体薄膜和基质通过层压工艺进一步彼此附接，并且随后通过使用激光束传递到基质上以使基质完全图案化。也就是说，当激光被照射到发光层。
11、先前形成于其上的施体薄膜或施体基质上时，发光层与施体薄膜或施体基质分离并且随后被传递到受体基质上以形成像素。0004 图1是使用激光束的基质处理设备的视图。0005 使用激光束的基质处理设备10包含激光源300，所述激光源300用于产生激光束；投影透镜400，所述投影透镜400设置在激光源300的下方；以及掩模M，所述掩模M设置在激光源300与投影透镜400之间并且通过使用激光束L传递图案。然而，当掩模M由新的掩模替换时，激光束在基质上的焦点和位置方面有所变化。当替换掩模时，掩模可以在高度、倾角、位置等等方面有所变化，并且因此激光束也可以在基质上的焦点和位置方面有所变化。由于激光束的焦点和位置。
12、因掩模的替换而变化，因此基质处理过程可能无法顺利地执行基质处理过程。0006 【现有技术文献】0007 【专利文献】0008 第2012-0042144号韩国专利公开案发明内容0009 本发明提供一种用于修正倾角的设备，以在即使替换掩模的情况下也能防止激光束的焦点和位置发生变化。0010 本发明还提供一种基质处理设备，以在即使替换掩模的情况下也能稳定地处理基质。0011 根据一个示例性实施例，用于修正掩模的倾角的设备包含：掩模支撑主体，所述掩说 明 书CN 104423146 A2/7页5模支撑主体经配置以支撑其上形成有图案的掩模；掩模支撑主体移动单元，所述掩模支撑主体移动单元经配置以改变掩模。
13、支撑主体的XY平面的倾角；照相机单元，所述照相机单元为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及控制单元，所述控制单元经配置以控制掩模支撑主体移动单元，由此改变掩模的XY平面的倾角，以使得当激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，所述激光束穿透图像与所述参考焦点图像匹配。0012 所述掩模支撑主体可以包含：掩模固持器，所述掩模固持器具有中心部分穿透的框架形状，所述掩模固持器具有第一、第二、第三和第四顶点，其中掩模被放置在掩模固持器上，并且掩模固持器的XY平面在倾角方面有所变化；掩模状态，所述掩模状态经配置以支撑其顶部表面上的掩模固持器；以及倾角变化模块，所述倾角变化模块经配。
14、置以单独地调节掩模固持器的顶点的Z轴高度，从而改变XY平面的倾角。0013 所述倾角变化模块可以包含：高度调节部分，所述高度调节部分经配置以使掩模固持器的第一、第二、和第三顶点的Z轴高度能够单独地升高或降低；以及支撑主体，所述支撑主体经配置以将掩模固持器的第四顶点连接到掩模载物台上。0014 所述高度调节部分可以包含：第一高度调节部分，所述第一高度调节部分经配置以使掩模固持器的第一顶点的Z轴高度能够升高或降低；第二高度调节部分，所述第二高度调节部分经配置以使掩模固持器的第二顶点的Z轴高度能够升高或降低；以及第三高度调节部分，所述第三高度调节部分经配置以使掩模固持器的第三顶点的Z轴高度能够升高或。
15、降低。0015 根据另一示例性实施例，基质处理设备包含：腔室，所述腔室具有基质在其中图案化的内部空间；基质支撑件，所述基质支撑件设置在所述内部空间中以支撑基质；激光源，所述激光源经配置以产生激光束；掩模支撑主体，所述掩模支撑主体设置在激光源与基质支撑件之间，以支撑其上形成有图案的掩模；掩模支撑主体移动单元，所述掩模支撑主体移动单元经配置以改变掩模支撑主体的XY平面的倾角；照相机单元，所述照相机单元经配置以为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及控制单元，所述控制单元经配置以控制掩模支撑主体移动单元，由此改变掩模的XY平面的倾角，以使得当激光束穿透图像偏离参考焦点图。
16、像时，所述激光束穿透图像与所述参考焦点图像匹配。附图说明0016 可以从结合附图所作的以下描述中更详细地理解示例性实施例，其中：0017 图1是使用激光束的基质处理设备的视图。0018 图2是说明根据一个示例性实施例的基质处理设备的构成的视图。0019 图3是根据一个示例性实施例的掩模支撑主体的耦合图。0020 图4是根据一个示例性实施例的掩模支撑主体的分解图。0021 图5是根据一个示例性实施例的说明其中掩模载物台移动部分被实现为线性电动机(linear motor，LM)引导件的实例的视图。0022 图6(a)、(b)是说明其中高度调节部分在Z轴长度上进行调节，以使得掩模固持器的第一顶点能。
17、够在Z轴方向上升高的状态的视图。说 明 书CN 104423146 A3/7页60023 图7(a)、(b)是说明其中高度调节部分在Z轴长度上进行调节，以使得掩模固持器的第三顶点能够在Z轴方向上升高的状态的视图。0024 主要元件标号说明：0025 1：导轨0026 2：平台0027 10：基质处理设备0028 100：腔室0029 200：基质支撑件0030 300：激光源0031 350：反射镜0032 400：投影透镜0033 500：掩模支撑主体0034 510：掩模固持器0035 510a：边缘0036 520：倾角变化模块0037 521：支撑主体0038 522、522a、522。
18、b、522c：高度调节部分0039 530：掩模载物台0040 600：控制单元0041 700：掩模支撑主体移动单元0042 800：照相机单元0043 M：掩模0044 L激光束0045 W：基质具体实施方式0046 下文中将参考附图详细描述特定实施例。然而，本发明可以以不同的形式来体现，且不应解释为限于本文所陈述的实施例。相反，提供这些实施例是为了使本发明透彻和完整，且将本发明的范围完整地传达给所属领域的技术人员。全文中相同的参考编号指代相同的元件。0047 图2是说明根据一个示例性实施例的基质处理设备的构成的视图。0048 在基质处理设备10中，从激光源300中产生的激光束穿过掩模M并。
19、且被照射到基质W上。此处，形成于基质W上的施体薄膜的发光层被分离且随后基质W经图案化以形成像素。为此，基质处理设备10包含腔室100、基质支撑件200、激光源300、掩模支撑主体500、掩模支撑主体移动单元700、照相机单元800以及控制单元600。0049 尽管腔室100具有带有内部空间的矩形盒形状，但是本发明不限于此。举例来说，腔室可以具有多种容器形状。也就是说，腔室100可以具有圆柱体形状或多边形盒形状。设置在内部空间中的基质经图案化以形成像素。用于加载/卸载基质的入口被界定在腔室的一个侧表面和另一侧表面的每一者中。此处，至少一个入口连接到基质传递模块上。说 明 书CN 10442314。
20、6 A4/7页70050 投影透镜400设置在腔室100的顶部表面上，以捕获从激光源300照射的激光束，由此将激光束发射到基质支撑件上的基质上。尽管投影透镜400设置在腔室100的顶部表面上，但是本发明不限于此。举例来说，投影透镜400可以设置在激光束照射通道中，所述激光束照射通道具有穿透腔室100的外部或内部的上部部分。0051 基质支撑件200设置在腔室100的内部空间中以支撑基质W，以使得基质W的像素区域面向上侧。而且，基质支撑件200水平地移动且抬高基质W。基质支撑件200可以连接到作为用于提供抬高力的单元的圆柱体上。基质W放置在基质支撑件200上。此处，施体薄膜被层压在基质的顶部表面。
21、(即，待图案化的表面)(下文称为“图案化表面”)上。0052 激光源300通过图案化掩模M的开口将激光束照射到基质W的图案表面上。基质处理设备可以进一步包含反射镜350。从激光源300中发射的激光束由反射镜350反射并且随后被照射到掩模M上。激光束可以部分地加热比掩模M的开口区域小的区域。气体激光器，例如氩激光器、氪激光器、准分子激光器等等，即，使用媒介的激光器，其中钕、镱、铬、钛、钬、铒、铥和钽中的至少一者被添加到单晶钇铝石榴石、钒酸钇、硅酸镁石(Mg2SiO4)、YAlO3、GdVO4或多晶(陶瓷)钇铝石榴石、氧化钇、钒酸钇、YAlO3、GdVO4中作为掺杂剂，或者玻璃激光器、红宝石激光器。
22、、紫翠玉激光器、钛蓝宝石激光器、铜蒸气激光器和金蒸气激光器中的至少一者可以用作激光源300。激光束可以被提供为线形束，所述线形束与具有相对较宽区域的平面形束相比能够容易地得到收集到并且立即被照射到基质的整个表面上。0053 掩模M可以是用于选择性地阻挡或反射从激光源300照射的激光束的光控制单元。掩模M具有图案，所述图案具有激光束穿过其中的开口；以及用于阻挡或反射激光束的阻挡部分。由于沉积材料并不穿过掩模M的开口，因此与沉积掩模不同，掩模M可以具有相对较厚的厚度。因此，由于掩模M具有相对较厚的厚度，因此所述掩模在不会轻易受到热量影响的情况下可以防止激光束衍射。而且，掩模M可以由能够经受激光束的。
23、照射的材料形成，例如，高熔点材料，例如钨、钽、铬、镍或钼，以上各项的合金；或具有低热膨胀系数的金属材料，所述金属材料不会由于热量而轻易地变形，例如，不锈钢、铬镍铁合金、哈氏合金等等。而且，掩模M可以由具有与用于附接到基质W上的施体薄膜的材料相同的热膨胀系数的材料形成。这是为了防止掩模M和施体薄膜通过以相同热膨胀系数使掩模M和施体薄膜膨胀而彼此不对齐，即使掩模M被加热。0054 基质处理设备10包含掩模倾角修正装置，用于在替换掩模M时将掩模M的焦点和位置修正到参考值。用于将掩模M的焦点和位置修正到参考值的掩模倾角修正装置包含掩模支撑主体500、掩模支撑主体移动单元700、照相机单元800和控制单。
24、元600。0055 掩模支撑主体500设置在激光源300与基质支撑件200之间，以支撑图案化掩模M。掩模支撑主体500可以在X轴、Y轴和Z轴方向上移动并且通过使用包含倾角变化模块520和掩模载物台移动部分的掩模支撑主体移动单元700而旋转。将参考图3、图4和图5描述掩模支撑主体500和掩模载物台移动部分。0056 图3是根据一个示例性实施例的掩模支撑主体的耦合图，图4是根据一个示例性实施例的掩模支撑主体的分解图，以及图5是根据一个示例性实施例的说明其中掩模载物台移动部分被实现为线性电动机(liner motor，LM)引导件的实例的视图。0057 掩模支撑主体500包含支撑掩模M的掩模固持器5。
25、10；用于支撑掩模固持器510的掩模载物台530；以及倾角变化模块520，所述倾角变化模块520单独地调节掩模固持器的说 明 书CN 104423146 A5/7页8顶点中每一者的Z轴高度以改变XY平面的倾角。0058 掩模载物台530在X轴和Y轴方向上移动并且通过使用掩模载物台移动部分旋转。举例来说，掩模载物台移动部分可以实现掩模载物台530在X轴和Y轴方向上的移动以及掩模载物台530的旋转。举例来说，线性电动机(liner motor，LM)引导件可以被实现为掩模载物台移动部分。图5中说明其中LM引导件被实现为掩模载物台移动部分的一个实例。在LM引导件中，Y轴传送平台2沿着LM导轨1移动，。
26、并且掩模载物台530沿着Y轴传送平台2在X轴方向上移动。因此，当执行过程时，掩模载物台530通过在X轴和Y轴方向上的移动设置在适当位置。此处，X轴和Y轴是形成二维平面的轴。而且，掩模载物台530可以包含单独的旋转电动机，以除了X轴和Y轴的移动之外水平地旋转。0059 图3和图4中说明的掩模固持器510具有框架形状，所述框架形状的中心部分是穿透的。此处，掩模M的边缘位于掩模固持器510的边缘510a上并且由所述边缘510a支撑。穿过掩模M的激光束可以穿过掩模固持器的区域，所述掩模固持器的中心部分是穿透的。当然，在一些情况下，用于支撑和固定掩模M的单独固定单元可以进一步提供于掩模固持器510中。掩。
27、模固持器510可以被实现为具有四个顶点的矩形框架形状，所述四个顶点为第一顶点、第二顶点、第三顶点和第四顶点。或者，掩模固持器510可以被实现为具有三个顶点、五个顶点或六个顶点的框架形状。在下文中，将作为实例描述具有四个顶点的框架形状。然而，可以提供具有少于或多于四个顶点的顶点的数目的掩模固持器。0060 在示例性实施例中，掩模固持器510的XY平面的倾角可以发生变化。掩模固持器的顶点的Z轴高度可以单独地经调节以改变XY平面的倾角。因此，提供倾角变化模块520以单独地调节顶点中每一者的Z轴高度，从而改变XY平面。倾角变化模块520包含高度调节部分522、522a、522b和522c，用于使掩模固。
28、持器510的第一顶点、第二顶点和第三顶点的Z轴高度能够单独地升高或降低；以及支撑主体521，所述支撑主体521将掩模固持器510的第四顶点连接到掩模载物台530上。高度调节部分522中的每一者是电动机，该电动机的高度根据电动机的伸展操作沿着Z轴在纵向方向上得到可变的调节。掩模载物台530和掩模固持器510的顶点分别在纵向方向上连接到高度调节部分的两端。长度可调节的高度调节部分522可以通过各种长度调节单元(例如，线性电动机)来实现。0061 高度调节部分522包含第一高度调节部分522a，掩模固持器510的第一顶点的高度通过所述第一高度调节部分在Z轴方向上升高或降低；第二高度调节部分522b，。
29、掩模固持器510的第二顶点的高度通过所述第二高度调节部分522b在Z轴方向上升高或降低；以及第三高度调节部分522c，掩模固持器510的第三顶点的Z轴高度通过所述第三高度调节部分升高或降低。高度调节部分522中的每一者是在纵向方向上长度可变地可调节的电动机。高度调节部分522中的每一者具有这样一种结构，其中掩模载物台530和掩模固持器510的顶点中的每一者在纵向方向上连接到高度调节部分522中的每一者的两端上。0062 支撑主体521设置在第四顶点上，以将掩模固持器510的第四顶点支撑在掩模载物台530上。支撑主体521可以通过具有弹力的弹簧或不具有弹力的金属棒来实现。0063 因此，当某一顶。
30、点的高度在Z轴上升高或降低时，掩模固持器510的XY平面的倾角可以发生变化。举例来说，如图6(a)、(b)所示，当设置在第一顶点上的第一高度调节部分522a在Z轴长度上延伸，以在Z轴方向上提升掩模固持器510的第一顶点时，掩模固持器510的XY平面具有某一倾角，所述第一顶点以该倾角设置在相对高于其他顶点的高度说 明 书CN 104423146 A6/7页9处。此处，设置在第四顶点上的支撑主体521(例如，弹簧)延伸，并且因此设置在第二顶点上的第二高度调节部分522b也可以在与第四顶点的高度相对应的高度上延伸。而且，如图7(a)、(b)所示，当设置在第三顶点上的第三高度调节部分522a在Z轴长度。
31、上延伸，以在Z轴方向上提升掩模固持器510的第三顶点时，掩模固持器510的XY平面具有某一倾角，所述第三顶点以该倾角设置在相对高于其他顶点的高度处。此处，作为设置在第四顶点上的支撑主体521的弹簧可以延伸，并且因此设置在第二顶点上的第二高度调节部分522b也可以在与第四顶点的高度相对应的高度上延伸。0064 因此，当替换掩模M之后激光束的焦点变化时，设置在第一、第二和第三顶点上的高度调节部分522可以经控制以调节掩模固持器510的XY平面的倾角，由此将激光束的焦点恢复到其原始状态。由于掩模固持器510的XY平面的倾角变化意味着掩模M的XY平面的变化，因此穿过掩模M的激光束的焦点可以通过掩模M的。
32、倾角的变化得到修正。因此，即使替换掩模，掩模也可以被加载到与掩模先前所设置的位置最大程度地接近的位置上。0065 如图2所示，照相机单元800提供于示例性实施例中，以便在替换掩模之后检测激光束的焦点的变化。照相机单元800为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像。照相机单元800设置在某一区域中的基质支撑件200中，在所述区域中，激光束经照射以通过使用照相机成像传感器捕获穿过基质的激光束的图像。因此，照相机单元800可以捕获穿过基质W的经照射的激光束的图像，以产生激光束穿透图像。红外线(infrared，IR)照相机、近红外线(Near-infrared，NIR)照相机。
33、可以被实现为照相机单元800。此处，10倍透镜、滤光镜等等可以应用于照相机单元800。0066 当激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，控制单元600控制掩模支撑主体移动单元700以改变掩模固持器510的XY平面的倾角，以使得激光束穿透图像与参考焦点图像匹配。在替换掩模之前，控制单元600存储集中在存储器中的参考焦点图像。由于激光束以线形照射，因此其中激光束的外形具有良好对比度的状态可以通过参考焦点图像来确定。当在替换掩模固持器510后通过捕获穿过基质的激光束的图像获取的激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，掩模固持器510的XY平面的倾角发生变化以使焦点与参考焦点匹配。参考焦点图像的对比度可以通过多。
34、种方法进行比较，例如，比较线的厚度的方法以及比较对比度的方法。比较线的厚度的方法是确定成像的激光束穿透图像的线的厚度和参考焦点图像的线的厚度是否超过临界值的方法。而且，比较对比度的方法是确定成像的激光束穿透图像的线的对比度是否超过参考焦点图像的临界值的方法。0067 当确定偏离临界值时，控制单元600可以相对于掩模固持器修正XY平面的倾角。举例来说，在激光束穿透图像和参考焦点图像中(其中每一者具有线形)，当激光束穿透图像具有大于参考焦点图像的厚度时，控制单元600提升掩模固持器510的第一、第二和第三顶点中的至少一者，以改变掩模固持器510的XY平面的倾度。类似地，当激光束穿透图像具有小于参考。
35、焦点图像的厚度时，控制单元600使掩模固持器510的第一、第二和第三顶点中的至少一者能够降低，由此改变掩模固持器510的XY平面的倾角。0068 当在照相机单元800中成像的激光束穿透图像偏离参考位置时，控制单元600可以在X轴和Y轴方向上移动支撑掩模固持器的掩模载物台530，并且使掩模载物台530旋转。也就是说，当激光束穿透图像偏离先前存储的参考位置时，控制单元600控制掩模载物台移动部分，以在X轴和Y轴方向上移动掩模载物台530并且使掩模载物台530旋转，以使说 明 书CN 104423146 A7/7页10得激光束穿透图像与参考位置匹配。参考位置表示基于基质支撑件的平面坐标的参考焦点图像。
36、的位置信息。当聚焦时，照射到基质上的具有线形的激光束的位置信息被注册为参考位置。随后，当激光束的位置由于掩模固持器的替换而偏离参考位置处的临界值时，控制单元在X轴和Y轴方向上移动掩模载物台530并且使掩模载物台530旋转，以调节激光束的位置。0069 在示例性实施例中，可以对掩模支撑主体的倾角进行调节，以在即使替换掩模的情况下也能防止激光束的焦点和位置发生变化。0070 尽管已参考具体实施例描述了用于修正倾角的设备以及基质处理设备，但是它们不限于此。因此，所属领域的技术人员将容易理解，在不脱离由所附权利要求书界定的本发明的精神和范围的情况下，可以对其做出各种修改和改变。说 明 书CN 104423146 A10。