一种利用回收废铜砂料生产低松装比铜粉的方法.pdf

本发明一种利用回收废铜砂料生产低松装比铜粉的方法涉及废铜利用的方法，尤其是利用回收废铜砂料生产铜粉的方法；以废水处理回收的高纯电解铜颗粒为原料，经分选除杂→对辊压片→氧化→研磨→还原→破碎筛分，制得低松装比铜粉成品；本发明工艺简单、操作方便，设备简易，工艺流程短，生产过程无污染，制得的铜粉纯度高，性能与电解铜粉相近的低松装比铜粉，且符合节能环保、循环经济、变废为宝的环保政策。

权利要求书
1.  一种利用回收废铜砂料生产低松装比铜粉的方法，其特征在于：以废水处理回收的高纯电解铜颗粒为原料，经分选除杂→对辊压片→氧化→研磨→还原→破碎筛分，制得低松装比铜粉。

2.  如权利要求1所述的一种利用回收废铜砂料生产低松装比铜粉的方法，其特征在于：分选除杂：分检高纯电解铜颗粒中的可见杂物。

3.  如权利要求1所述的一种利用回收废铜砂料生产低松装比铜粉的方法，其特征在于: 对辊压片：采用多级对辊研压机将高纯电解铜颗粒进行研压，使其成为厚度200um左右的薄片。

4.  如权利要求1所述的一种利用回收废铜砂料生产低松装比铜粉的方法，其特征在于：氧化：是将高纯电解铜颗粒进行研压至200um左右的薄片后送到氧化设备加氧气或H2O2通过氧化炉加热至500-700℃氧化，按照材料厚薄，经2-4小时充分氧化后，制得疏松且易破碎的氧化铜。

5.  如权利要求1所述的一种利用回收废铜砂料生产低松装比铜粉的方法，其特征在于：研磨：将氧化反应所得到结构疏松且易粉碎的氧化铜冷却后进行破碎研磨。

6.  如权利要求1所述的一种利用回收废铜砂料生产低松装比铜粉的方法，其特征在于:还原：按不同粒度的氧化铜粉末后经500℃左右3-4小时的氢还原，使其还原后的铜松装度小于2.0。

7.  如权利要求1所述的一种利用回收废铜砂料生产低松装比铜粉的方法，其特征在于:破碎筛分：将还原得到的低松装比铜粉，经多级筛分机分筛得到各种目数的低松装比成品铜粉。

说明书一种利用回收废铜砂料生产低松装比铜粉的方法
技术领域
本发明涉及废铜利用的方法，尤其是利用回收废铜砂料生产铜粉的方法。
背景技术
金属铜粉在金刚石工具、电碳制品，磨擦材料，含油轴承，导电油墨及其他粉末冶金制品工业中用途广泛，松装密度的越低铜粉，压缩性、成形填充性和烧结活性越好。目前国内现有铜粉的生产方法主要有以下两种：电解法、水雾化还原法。电解法：电解法得到的铜粉的颗粒呈树枝状，比表面发达，因而压缩性与烧结活性优异，但流动性差，尤其是生产中采用的硫酸盐溶液会严重污染环境，生产电耗大，是于高污染、高能耗行业，也是国家限制发展的行业，目前已逐步淘汰。水雾化法还原法：将电解铜块及其它原料按比例熔炼、水雾化、离心脱水、干燥、氧化、破碎、还原、粉碎、筛分获得低松比铜粉。这种方法的优点是铜粉的流动性好、松装密度在2.8-3.6g/cm3左右，可用在一般粉末冶金工业。但工艺流程长、复杂，能耗大，生产成本高，尤其是熔炼和水雾化工艺电耗大，且颗粒树枝状差，比面积不发达，压缩性与烧结活性能也差。
发明内容
本发明的目在于：提供一种利用回收废铜砂料生产低松装比铜粉的方法。
以废水处理回收的高纯电解铜颗粒为原料，经分选除杂→对辊压片→氧化→研磨→还原→破碎筛分，制得低松装比铜粉。
分选除杂：分检高纯电解铜颗粒中的可见杂物。
对辊压片：采用多级对辊研压机将高纯电解铜颗粒进行研压，使其成为厚度200um左右的薄片。
氧化：是将高纯电解铜颗粒进行研压至200um左右的薄片后送到氧化设备加氧气或H2O2通过氧化炉加热至500-700℃氧化，按照材料厚薄，经2-4小时充分氧化后，制得疏松且易破碎的氧化铜。
研磨：将氧化反应所得到结构疏松且易粉碎的氧化铜冷却后进行破碎研磨。
还原：按不同粒度的氧化铜粉末后经500℃左右3-4小时的氢还原，使其还原后的铜松装度小于2.0。
破碎筛分：将还原得到的低松装比铜粉，经多级筛分机分筛得到各种目数的低松装比成品铜粉。
本发明工艺简单、操作方便，设备简易,工艺流程短，生产过程无污染，制得的铜粉纯度高，性能与电解铜粉相近的低松装比铜粉，且符合节能环保、循环经济、变废为宝的环保政策。
具体实施方式：
工艺过程：以废水处理回收的高纯电解铜颗粒为原料，经分选除杂→对辊压片→氧化→研磨→还原→破碎筛分，制得低松装比铜粉。
实施例1：
原料：铜制品企业生产过程中电解回收产生的高纯铜颗粒废料。粒度5-10mm之间，纯度要求99.95%。
分选除杂：分检高纯电解铜颗粒中的可见杂物，如包装线等。
对辊压片：将高纯电解铜颗粒经40吨多级对辊机对物料进行研压至200um左右的薄片。
氧化：将高纯电解铜颗粒进行研压至200um左右的薄片后送到氧化设备加氧气或H2O2通过氧化炉加热至500℃氧化。按照材料厚薄，经2小时充分氧化后，制得疏松且易破碎的氧化铜片。
研磨：将氧化反应所得到的氧化铜片冷却后，用破碎机研磨至粒度达到10-200um。
还原：将粒度10-200um的氧化铜粉末后经500℃左右3小时的氢还原，使还原后的铜松装度小于2.0。
破碎筛分：用100目筛分机筛分。筛上物及大颗粒粉末，经再次研磨后重新筛分获得成品。
实施例2：
原料：铜制品企业生产过程中电解回收产生的高纯铜颗粒废料。
粒度5-10mm，纯度要求99.95%以上。
分选除杂：分检高纯电解铜颗粒中的可见杂物，如包装线等。
对辊压片：将高纯电解铜颗粒经40吨多级对辊机对物料进行研压至200um左右的薄片。
氧化：将高纯电解铜颗粒进行研压至200um左右的薄片后送到氧化设备加氧气或H2O2通过氧化炉加热至700℃氧化。按照材料厚薄，经4小时充分氧化后，制得疏松且易破碎的氧化铜片。
研磨：将氧化反应所得到的氧化铜片冷却后，用破碎机研磨至粒度10-200um，100-1000目之间。
还原：将粒度10-200um，100-1000目之间的氧化铜粉末后经500℃左右3小时的氢还原，使还原后的铜松装度小于2.0。
破碎筛分：用325目的筛分机筛分。筛上物及大颗粒粉末，经再次研磨后重新筛分获得成品。
也可用采用100目或200目325目多级筛分机进行分筛，筛上物及大颗粒粉末，经再次研磨后重新筛分获得成品。