用于位置测量系统的计量器.pdf

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摘要
申请专利号:

CN03106373.X

申请日:

2003.02.26

公开号:

CN1525141A

公开日:

2004.09.01

当前法律状态:

撤回

有效性:

无权

法律详情:

发明专利申请公布后的视为撤回|||公开

IPC分类号:

G01B11/00; G02B5/18

主分类号:

G01B11/00; G02B5/18

申请人:

奥普特莱博许可有限公司;

发明人:

汉斯·约阿希姆·弗赖塔格; 海因茨·京特·弗朗茨; 安德烈亚斯·施密特

地址:

联邦德国汉堡

优先权:

专利代理机构:

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人:

武玉琴;顾红霞

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内容摘要

本发明描述了一种用于位置测量系统的计量器(1),将计量器设置为一个振幅光栅并具有一个齿距结构(3),该结构包括入射到计量器(1)的辐射(5)出射的亮场(8)和不出射入射的辐射的暗场(11),所述的亮场(8)和暗场(11)分布在一个平面中,其特征在于入射到两个区域中至少一个的辐射(5)被至少一个设置在计量器(1)上并向所述平面倾斜的表面(9或10)反射。

权利要求书

1: 一种用于位置测量系统的计量器(1),其被提供作为一个振 幅光栅并具有一个齿距结构(3),该结构包括入射到计量器(1)的 辐射(5)出射的亮场(8)和不出射入射的辐射(5)的暗场(11), 所述的亮场(8)或暗场(11)分布在一个平面中,其特征在于入射 到所述两个区域中至少一个的辐射(5)被至少一个设置在计量器(1) 上并向所述平面倾斜的表面(9或10)反射。
2: 如权利要求1所述的计量器(1),其特征在于将倾斜面(9或 10)设计用于辐射(5)的全反射。
3: 如上述任一权利要求所述的计量器(1),其特征在于在所述 计量器(1)的V形凹陷界面处形成倾斜面(9或10)。
4: 如上述任一权利要求所述的计量器(1),其特征在于在计量 器(1)的具有棱镜结构的凹陷界面处形成倾斜面(9或10)。
5: 如权利要求3或4任一所述的计量器(1),其特征在于所述 凹陷的深度在它们之间和/或在它们本身之中变化。
6: 如权利要求3至5任一所述的计量器(1),其特征在于为了 创建参考标记结构,彼此直接相邻地布置几个凹陷,从而形成计量器 (1)表面上从辐射方向的横向看时在纵向上的Z字形轮廓。
7: 如权利要求3至6任一所述的计量器(1),其特征在于将计 量器(1)的表面设计为用配件填充凹陷,配件的折射率与计量器(1) 材料的折射率有很大的不同。
8: 如权利要求3至7任一所述的计量器(1),其特征在于凹陷 的倾斜面(9或10)设置有一个涂层。
9: 如权利要求3至8任一所述的计量器(1),其特征在于为了 产生绝对编码,彼此相邻地布置具有亮场和暗场的几条轨迹。
10: 如上述任一权利要求所述的计量器(1),其特征在于它包括 一种形成主体并连接其上的齿距载体材料,和一种具有齿距结构的塑 料齿距体。
11: 如权利要求1或2所述的用在入射光法中的计量器(1),其 特征在于它包括一个为入射辐射(42)设置的光入射面和一个为探测 入射的辐射设置的探测面,所述的光入射面和探测面布置在计量器彼 此不相对的侧面上,并且设置的倾斜面(32,33)用于将光束从光入 射面偏转到探测面。
12: 如权利要求11所述的计量器(1),其特征在于在探测面上 布置一个包括齿距结构的齿距体(37)。
13: 如权利要求12所述的计量器(1),其特征在于在包括光学 透明塑料材料、优选为聚酰胺的齿距载体(31)中形成光入射面、探 测面和倾斜面(32,33),并且齿距体(37)包括玻璃。
14: 如权利要求13所述的计量器(1),其特征在于齿距载体(39) 粘结到钢制的接收型材(47)上。
15: 如权利要求13或14所述的计量器(1),其特征在于齿距体 (43)插入到包含不挥发的浸没液体(46)的齿距载体(39)的凹槽 中,用于增进齿距载体(39)和齿距体(43)之间的光通过。
16: 一种制造上述任一权利要求所述的计量器(1)的方法,其 特征在于通过注模、模压、热或冷压型或铸造技术制造计量器。
17: 如权利要求10所述的制造计量器(1)的方法,其特征在于 通过权利要求16中所述的方法之一制造齿距体并稳固地连接到齿距 载体上。

说明书


用于位置测量系统的计量器

    本发明涉及一种用于位置测量系统的计量器,该计量器设置为一个振幅光栅并具有一种齿距结构,该结构包括发出输入到计量器的辐射的亮场,和不发出输入辐射的暗场,所述的亮场或暗场分布在一个平面中。本发明还涉及这种计量器的制造。

    用于光电位置测量装置、如用于长度和角度测量的标尺和指标盘的计量器最好由一个形成主体的齿距载体组成,主体具有齿距结构。所述的齿距结构由合适的扫描单元扫描,从而产生依据位移的调制信号。依据光学扫描原理,可以根据透射光法或入射光法进行扫描。技术杂志“F & M Feinwerktechnik und Messtechnik,jg.88,Heft 7,S.333-388”描述了入射光测量系统的众多优点。与透射光测量系统相比,它们的主要优点最重要地在于安装简易、价廉且坚固。

    根据获得的信息,人们可以区分多种结构类型或多类编码。典型的结构是带有或不带有参考标记的单纯的递增结构,或者是平行或串联分布的绝对编码结构。

    另外,已知有不同设计的齿距。可以采用振幅齿距结构、相位齿距结构、光衍射齿距结构或是它们的组合形式。DE19,639,499A1和DE19,502,727A1报道,与振幅光栅相比,相位光栅允许较高的调制。传统地相位光栅包括一个阶跃格栅。很清楚,这些参考文献还讨论了阶跃格栅的不同制造方法。很显然,所有这些方法都牵涉到非常复杂且昂贵的制造。

    因此,多半采用技术上较简单的振幅光栅。EP0,160,784描述了一种光刻制造振幅光栅的方法。虽然花费比相位光栅的少,但也需要大量非常昂贵的特殊技术和特殊的设备。另外,所述的光栅只适于利用入射光使用。

    利用光刻构成的薄膜金属层系统、优选在玻璃齿距载体上产生齿距的技术基础被广泛地用于当今透射光法中的精密齿距,并且如在1997年9月的Heidenhain公司的“Winkelmesssysteme”商品销售说明书中所述,该技术追溯到六七十年代并且只有很小的变化。在这种情况下,这些制造方法非常复杂和昂贵也是事实。

    稍稍简单一些的是振幅光栅形式的齿距,它们的制作是基于聚酯薄膜上的照相乳胶,如PWB技术的Product Overview 2001中所述。但是,如果将片状形式的常规薄膜材料用作基材(齿距载体),所述的齿距既只适用于低精度的需求,而如果将玻璃照相底片用作基材也是非常昂贵的。

    从上面来看,本发明的目的在于提供一种上述类型的计量器及其制造方法,使得在制造成本低廉的同时具备精确应用的适用性。

    根据本发明,通过上述类型的计量器实现上述目的,其中,入射到暗场或亮场的辐射被至少一个设置在计量器上并相对于亮场或暗场的平面倾斜的表面反射。因而,本发明的原理提供了至少一个倾斜表面,该表面偏转入射到亮场或暗场上的辐射。根据本发明的计量器因此可以用于入射光法和透射光法。

    在透射光法中,入射到计量器的辐射在亮场透射,使得在发射亮光时该辐射导致可被相应的探测器探测到的区域。但是,在暗场不发生透射,使得对探测器显示暗态。在入射光法中情形正好相反:辐射只在亮场被反射回到探测器,而在暗场不发生回射,但发生例如辐射光透射。

    就其应用而言透射光法是有利的,因为亮场和暗场之间的对比度较大,按照惯例,这样给出较大的调制深度。但透射光法的不利之处是需要可从反面利用位置测量系统中的计量器。在此方面,入射光法易于应用。根据本发明的计量器等同地适用于两种方法,因此具备对于各种应用要求有良好的适应性的优点。

    在本发明及其优点的下列描述中,参考透射光法中的计量器的使用,除非另有声明。

    本发明提供两种不同工作原理的倾斜面:根据第一种可能性,倾斜面用于产生一个或多个暗场,这些暗场与其它的亮场一起形成计量器的齿距结构。根据第二种可能性,倾斜面导致指向计量器光入射侧的辐射在计量器之内偏转。因此,辐射不能输出到布置在与光入射侧相反的光输出侧。第二种可能性在后面描述。

    根据倾斜面的第一工作原理,所述的面用于通过如此偏转指向计量器光入射侧的辐射,即使得辐射不会在面对探测装置的光输出侧上出射,从而在透射光法中的计量器中产生暗场。因此,在此区域中没有辐射透射,并且形成一个暗场。但是,在计量器上不设置倾斜面的地方,辐射透射到光输出侧,并且亮场存在于计量器的光输出侧。

    用在入射光法中的计量器可以采用相同的原理:因为在入射光法中,如上所述,辐射源和探测单元分布在计量器的同一侧,所以那些辐射不导向探测方但通过计量器的区域此时充当暗场。在入射光法中,亮场形成在与倾斜面协同工作的地方,以致于它们将导向计量器的辐射偏转回到探测单元。因此,与透射光法的原理相反,在入射光法中,倾斜面具有产生亮场的作用。

    在倾斜面的反射可以以不同的方式实现。因此可以提供带有反射涂层、如薄铬膜涂层的倾斜面。但是利用计量器的材料和包围其的空气之间的折射率之差进行反射并以适于辐射全反射的方式提供倾斜面是相当简单的。因此,可以省去施加薄膜涂层的操作,降低所述计量器的制造成本。

    为了易于制造计量器的不同尺寸的亮场和暗场,提供倾斜面作为计量器中凹陷的界面变得有利。在此方式中,可以通过简单的方式实现齿距结构的高精确度,因为利用机械工具易于掌握计量器的高精度加工。可以省去复杂的光刻步骤。

    因此,可以想象计量器中不同形式的凹陷,只要倾斜面可以执行前述功能既可。用V形凹陷形成倾斜面很有利,因为这是一种为两种折射率差别很大的材料提供界面的简单方法,因而能够全反射,在亮场和暗场之间产生特别好的对比度。

    在本发明的另一实施例中,上述V形凹陷的配置还允许在一次操作中产生成对的倾斜面,可用于反射并用作棱镜结构。因此,从制造的观点看,优选在计量器中V形凹陷的界面处形成具有棱镜结构的倾斜面。

    在递增系统中包含倾斜面的区域和分布在一个平面中的视场区域串联分布,形成计量器的齿距结构,它们一般具有一致的尺寸。但是,它们也可以有不同的尺寸,如为了建立参考标记。可以通过将V形凹陷切割到计量器材料中的对应深度来获得由倾斜面限定的区域的尺寸变化。或者,可以通过彼此直接相邻地布置几个V形凹陷来扩大包含倾斜面的区域,在计量器的表面上形成Z字形轮廓,如横向于辐射方向在纵向所见。

    在计量器中切割出恒定深度的V形凹陷会产生计量器表面上平行的边界线,该边界线位于倾斜面区域和位于一个平面上的相邻场之间。但是,在用于角度测量的盘状计量器中,为了以与半径无关的方式获得亮场和暗场之间一致的扫描状态,需要具有径向延伸边界的亮场和暗场。这通过结合深度朝着盘状计量器的中心减小的V形凹陷来实现。

    通过这种方式,可以在盘状和线性计量器中建立作为亮场和暗场的参考标记,其中亮场和暗场具有不同于其它区域的尺寸和绝对编码,具有例如亮场和暗场彼此相邻分布的几条轨迹。

    为了避免弄脏计量器的结构表面,优选用一个附加层覆盖该表面。这样防止污物颗粒,如水或油或液滴沉积到表面上。这种保护是有利的,因为它避免了倾斜面的表面上折射条件的变化,而这种变化将会干扰全反射。

    在另一实施例中,可以形成这样的表面,即获得的平面表面比一个结构面的污染迅速减少,并且还易于清洁。这种表面设计通过用配件填充计量器凹陷而很方便地实现,其中配件的折射率可以与计量器材料的折射率有很大的不同。这种方式中,一方面提供一个平面表面,另一方面它确保总是保持计量器中凹陷的倾斜面处的全反射。或者,可以给倾斜面提供一个涂层,如不透光的光学清漆或铬涂层,或者可以在配件插入之前在倾斜面之间确保一个空气间隙,从而无论配件的材料如何都可以保证全反射。

    为了计量器的长工作寿命,希望计量器材料尽可能地稳定和坚固。同样还要求尺寸的稳定性。另一方面,利用易于操作以及柔软的材料进行机械处理是很有利的。这些固有的相互矛盾的要求可以通过由一个齿距载体和一个包括齿距结构的塑料齿距体组成的计量器实现,而齿距载体由一种热和/或机械稳定的材料如玻璃形成。由此形成一个复合计量器。

    因为一方面,由于亮场和暗场之间较强的对比度而允许透射光法中齿距结构有较高的读取精度,并且另一方面,由于可以从两侧接近计量器,采用透射光法不如入射光法的位置测量装置,所以希望合并上述两种方法的优点。为此,利用计量器上倾斜面的上述第二作用原理。此计量器包括一个为入射辐射而设置的光入射面和一个为探测入射的辐射而设置的探测面,所述的光入射面和探测面位于计量器不相对的侧面上,并且为将辐射从光入射面偏转到探测面而设置倾斜面。

    这样允许有一种这样的配置,其中齿距结构工作在透射光模式,但不需要将光入射面和探测面布置在计量器的相对面上。例如,光入射到倾斜面或从倾斜面出射的角度可以选为45度,使得辐射源和探测单元布置成彼此成90度。

    在以此方式构成的计量器中,透射光法中的照明单元和探测单元有利地布置成不彼此相对。不再需要从两侧接近计量器。

    如果方便应用,齿距结构可以分布在光入射面的区域中。但是,有利的做法是将齿距结构布置在探测面的区域中。由此实现更精确的读取,因为齿距结构布置得更接近探测单元,并且在辐射的偏转中避免了散射。

    对于随长度的变化机械性能的变化及基于温度的变化都很小的高尺寸精度的要求、尤其是对于非常长的标尺,要求选取用于标尺的材料有较高的机械弹性模量。另一方面,为了易于制造计量器,希望一种具有低机械弹性模量的易于加工的材料,例如塑料。为了达到这些对比的要求,由玻璃制造一种高精度齿距结构,并且由一种光学透明塑料材料、优选聚酰胺制造齿距载体。为此,可以采用一种长的不贵的、低重量的挤压型材。但是,为了使标尺较少地随温度变化并赋予其较大的机械强度,齿距载体可以额外的粘结到接收型材如钢材上。另外,为了实现齿距载体和齿距主体之间光通过的改善,齿距主体可以插入到齿距载体的凹槽中,凹槽中被引入不挥发的浸入液体。

    本发明的问题还可以通过制造用于位置测量系统的计量器的方法解决,该方法提供一个振幅光栅并有一个齿距结构,该结构包括入射到计量器的辐射出射的亮场和不出射入射的辐射的暗场,所述的亮场和暗场分布在一个平面中,并且入射到亮场和暗场的辐射被至少一个设置在计量器上并向亮场或暗场倾斜的表面反射,所述的计量器通过注模、模压、热或冷压型或铸造技术制造。所有的这些制造方法提供了一种不昂贵的形成计量器上倾斜面的方法,因为这些既可以设置在计量器的铸造模具中,也可以通过易于把握的机械加工高精度地形成在计量器上。

    一种不昂贵的制造模式由下面的步骤组成:通过上述其中一种制造方法首先制造齿距主体,并再将齿距主体稳固地连接到由机械和/或热稳定材料制成的齿距载体上。例如,为了受益于两种材料的优点,计量器的这种复合结构允许易于制造的齿距结构与显示出特别大的抵抗性和尺寸稳定性的齿距载体结合。

    下面通过实例并参考附图对本发明给予更详细的解释,其中:

    图1表示根据本发明利用计量器测量透射光位置的测量布局的截面图;

    图2表示根据包括递增齿距的本发明的标尺的截面图;

    图3表示包括递增齿距的标尺的顶视图;

    图4表示根据包括参考标记结构的本发明的标尺的截面图;

    图5表示包括参考标记结构的标尺的顶视图;

    图6表示在几个测量轨迹中包括一个绝对齿距的标尺的详细顶视图;

    图7a和7b表示包括楔形齿距标记的指标盘的截面图和顶视图;

    图8表示由一种固体玻璃-塑料复合物组成的标尺的截面图;

    图9表示一个标尺的截面图,其中标尺中设计了梯形齿距标记结构;

    图10表示一种包括本发明标尺的位置测量装置的示意图,该装置的齿距结构被透射光扫描,照明和扫描从一侧进行;

    图11表示一种带有光束偏转的模压齿距载体和玻璃载体的截面图,和

    图12表示带有集成的安装元件的透明齿距载体的截面图。

    在附图中,图1表示根据透射光原理操作的位置测量装置,就表示本发明的需要而言,它包括一个标尺形式的计量器。位置测量装置包括一个具有透明齿距载体的标尺1,标尺包括一个利用透射光法由扫描头2扫描的齿距结构3。齿距结构3有亮场和暗场,其结构在后面解释。

    扫描头2包括一个照明单元4和一个探测单元6,在透射光法中,照明单元4从照明侧向标尺1发射通常为平行的光5,探测单元扫描标尺1的与照明侧相对的一侧上的齿距结构3。齿距结构3设置成一个递增的格栅齿距。

    用在透射光法中的齿距结构3的详情示于图2。在也为格栅结构的递增的齿距结构3中,由分布在一个平面中并水平表示的场7形成的亮场8具有与暗场11近似相等的大小。暗场11由全反射面9和10产生,它们相对于水平场7的平面倾斜。从照明侧入射到亮场8水平场7上的光5可以无障碍地通过。因此,亮场8向探测器的远离照明侧发光。但是,在倾斜面9和10的区域中,从照明侧入射的光被全反射并因而防止了通过标尺1。两个相邻的倾斜面9和10由此形成一个棱镜结构,其尺寸做成在每个倾斜面9和10处入射光被偏转90°。

    入射到照明侧上的平行光5在齿距结构3内的棱镜结构的各个相应倾斜面9或10处以90°被反射两次,并由此返回到照明侧。不通到探测器一侧。这样在与照明光相对的探测器一侧产生暗场11,不发射光,如图3所示。

    一系列亮场和暗场形成齿距结构3。图3表示从探测器一侧看去的透射光法中所述的递增齿距结构3,该结构带有发射光的亮场8和不发射光并因而表现为阴影的暗场11。可以从探测器一侧获得的光学扫描信号以传统的方式(未示出)由光电二极管和其它电学元件转变成电信号,所述的信号被馈送到控制单元或计数器用于评估。

    如果把聚酰胺用作标尺1的材料,则以45度角相对于水平场7的平面倾斜的表面9和10将确保在材料内全反射所需的光路。然后,不需要额外地提供带有反射层的棱镜结构。通过所述的全反射,可以实现良好的反射条件,使得得到齿距结构的亮场8和暗场11之间很强的对比度。该布局的另一实质上的优点在于可以以极低的成本制造带有齿距结构3的标尺1,例如通过注模或压型制造标尺。

    图4表示带有参考标记的齿距结构的截面图。这种参考标记的特点在于亮场12和暗场13的在其它情况下恒定的长度被改变。与其它的暗场相比,图4实施例中由双倍长度的暗场表示的参考标记通过为暗场彼此直接相邻地布置两倍数量的棱镜结构而产生。

    图5表示从包括发射光的亮场12和不发射光的暗场13的探测器看去,透射光模式中的图4所示的齿距结构,其中探测器带有形成参考标记的较长的暗场13(图5中的右侧)。

    图6表示透射光模式中带有绝对编码的标尺的齿距结构。绝对轨迹14~15和15~16每个以1∶2的桥/间隙比实施。这些轨迹导致二进制编码,它提供绝对位置信息。

    暗场17通过对应于图2的棱镜结构实现。象亮场18一样,它们有20μm的基础长度。带有亮场19和暗场18的绝对轨迹15通过40μm长的每个亮场19形成,所有的亮场19和暗场18是绝对轨迹14的那些亮场和暗场的两倍。对于每个暗场20,有两个串连分布的相同的45°棱镜结构,使得暗场20也有40μm的长度。

    对于绝对轨迹16,布置长度为80μm的亮场21,在其间串连分布基底长度为20μm的四个棱镜结构,使得暗场22也有80μm的长度。

    图7a和7b表示用于角度测量的标码盘23形式的计量器,其中标码盘包括圆环片段形式的齿距结构。图7a是由透光的塑料材料、如聚酰胺制成的编码盘23的顶视图,该编码盘带有亮场24和暗场25。为了实现亮场24和暗场25之间与半径无关的同一的扫描条件,这些区域设置成小圆片的形状。为此,图7b所示的棱镜结构26以连续增大的深度从中心到边缘地组合进材料,使得它们的径向宽度向着标码盘23的中心减小。

    图8表示包括固体玻璃塑料复合物的标尺的截面图。尤其在线性测量装置中,待测量的物体和计量器之间的热膨胀系数之差具有一种不良的效果。因为计量器的膨胀系数由齿距载体的材料决定,所以采用由石英玻璃或Zerodur制成的齿距载体以获得非常小的热膨胀系数,或采用由特定类型的火石玻璃制成的齿距载体以实现对钢材的良好适应性。

    一方面,为了能够用光学塑料材料廉价地制造根据本发明的齿距结构,同时,另一方面还实现低热膨胀系数的计量器,把由廉价的2mm厚度的Borofloat玻璃制成的齿距载体27和0.3mm厚的聚碳酸酯层制成的齿距主体28的固体复合材料组成的标尺用在图8的实施例中。利用一种特殊制备的热压型工具,在市场上可得到的压型机械中制造齿距载体27中的结构29,这种压型机械例如由Jenoptik AG,Jena,Germany提供,由此形成上述暗场。因此,可以通过简单的并且主要是不昂贵的技术生产复合标尺或精密的复合角齿距形式的大尺寸精度的计量器。

    图9表示一种受到防污染保护的计量器的实施例。如果透明的污物颗粒、如蒸汽或油滴等沉积在棱镜结构中,则这将干扰棱镜结构界面处的全反射条件,并且光将不能在标尺中以限定的方式偏转。这将在暗场中产生干扰的杂散光。为此,给棱镜结构覆盖一个涂层,如市场上可以获得的不透光光学清漆,并且通过在其上施加配件30来设计齿距载体的表面。例如可以通过刀具涂覆来简单地施用高粘稠的光学清漆。或者,清漆可以是反射型的。它确保全反射的条件得到维持。通过设计表面,可以有利地实现较大程度地减少或很容易地去除有碍的污物颗粒。

    在很多应用中,尤其在线性测量系统中,标尺的自由布置、正如透射光法所要求的那样,通常是有干扰的。图10表示按照透射光原理操作的位置测量装置,但其中的照明单元和扫描头的布置可以在标尺的同一侧上进行,类似于入射光的原理。

    作为齿距载体31,可以用一种光学透明的聚酰胺注模部分,在整个纵向延伸上有两个光学反射面32和33,它们布置成彼此成90°的棱镜角。扫描单元36的照明单元34发出的平行光以45°角入射到反射面32上并被偏转90°,且在齿距载体内全反射到反射面33。然后,此光又以45°角入射到反射面33上,再被偏转90°并在齿距载体中通过,到达齿距结构37,如图2和图3中的实施例所述。包括光电二极管阵列38的探测单元36探测齿距结构透射的辐射并发出依赖于位置的测量信号。计量器的齿距载体31由此产生光束偏转。

    可选择地,也可以是单光束偏转,探测单元36和光电二极管阵列38彼此以90°分布。

    图11表示根据图10的位置测量方法中使用的计量器的截面图。一方面,尤其对于长度很大的计量器,利用光学透明的塑料材料很难实现所需的测量精度,因为测量中依赖于温度的误差难以控制,尤其是由于塑料材料的较高的热膨胀系数。另一方面,由于较低的机械弹性模量,在直接模压于计量器中的齿距结构中获得的测量精度不会非常高。这可以通过采用如同齿距载体39的单独的支撑元件得到改进,其中单独的支撑元件由光学透明的聚酰胺挤压型材制成,有两个延伸到整个纵向延伸上的抛光的反射面40和41。由于挤压型材也很长制造齿距载体39尤其价廉。

    所述齿距载体39的反射面40和41还彼此以90°倾斜。由图中未示出的照明单元发出的光42以45°角入射到反射面40上,被偏转90°,并在齿距载体中全反射到反射面41。因此,光42又以45°角入射到其上,被偏转90°并通向包括薄铬层齿距结构44的玻璃体43。为了增进聚酰胺齿距载体39和玻璃体43之间的光通过,设置一种薄的不挥发的硅油层作为凹槽45中的浸没液体46,凹槽45特别用于容纳玻璃体43。

    为了提高其稳定性并减小其热膨胀,齿距载体39通过固化粘结剂48粘结到钢制的特殊接收型材47上。

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本发明描述了一种用于位置测量系统的计量器(1),将计量器设置为一个振幅光栅并具有一个齿距结构(3),该结构包括入射到计量器(1)的辐射(5)出射的亮场(8)和不出射入射的辐射的暗场(11),所述的亮场(8)和暗场(11)分布在一个平面中,其特征在于入射到两个区域中至少一个的辐射(5)被至少一个设置在计量器(1)上并向所述平面倾斜的表面(9或10)反射。 。

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