具有最优化离子释放的毛发护理装置.pdf

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摘要
申请专利号:

CN200880100748.1

申请日:

2008.07.25

公开号:

CN101765386A

公开日:

2010.06.30

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情:

授权|||实质审查的生效IPC(主分类):A45D 20/12申请日:20080725|||公开

IPC分类号:

A45D20/12; A45D20/50; A45D20/52; A46B15/00; A45D1/04; A45D20/10

主分类号:

A45D20/12

申请人:

博朗有限公司

发明人:

M·克勒佩尔-里希; T·哈森普夫卢格; K·洪纳费勒; N·斯梅塔纳; O·泽伦森; J·森

地址:

德国克龙贝格

优先权:

2007.07.27 DE 102007035247.8

专利代理机构:

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人:

蒋旭荣

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内容摘要

本发明涉及毛发护理装置(1),所述毛发护理装置具有柄部(3)、可连接到柄部(3)上的操作头、以及用于在毛发上产生离子的离子生成设备(9),所述操作头具有毛发处理设备(5),特别是刷毛区和/或梳齿区,所述离子生成设备具有至少一个离子出口(11)。根据本发明,毛发护理装置(1)的特征在于所述毛发护理装置具有背离毛发处理设备(5)的背面(8)的特征和用于在毛发上产生离子的离子生成设备(9),所述设备具有至少一个开关单元、离子源、离子出口(1)和围绕离子出口(11)的护套。此外,所述毛发护理装置(1)还具有用于去除/限制电子负载的接地表面,所述接地表面在离子出口的区域中布置在外壳的一部分上,其中离子源相对于接地表面的电位水平具有-10KV至-3KV的电位水平,护套相对于接地表面的电位水平具有-2.5KV至-1KV的电位水平或为离子源的电位水平的20%至50%,并且装置的背面(8)相对于接地表面的电位水平具有-500V至-100V的电位水平或为离子源的电位水平的2%至10%。

权利要求书

1.  一种毛发护理装置,所述毛发护理装置具有柄部(3)、可连结到所述柄部(3)上的操作头(4)、以及背离所述毛发处理设备(5)的所述装置的背面(8),此外还具有用于在所述毛发上产生离子的离子生成设备(9),所述操作头(4)具有毛发处理设备(5),特别是刷毛区和/或梳齿区(6),所述离子生成设备具有至少一个开关单元、离子源、离子出口(11)、和围绕所述离子出口(11)的护套,其中所述毛发护理装置附加地具有用于去除/限制电荷的接地表面(22),所述接地表面在所述离子出口(11)的附近布置在外壳组件(13)上,其特征在于所述离子源相对于所述接地表面的电位水平具有-10KV至-3KV的电位水平,
所述护套(13、170)相对于所述接地表面的电位水平具有-2.5KV至-1KV的电位水平或为所述离子源的电位水平的20%至50%,并且
所述装置的背面(8)相对于所述接地表面的电位水平具有-500V至-100V的电位水平或为所述离子源的电位水平的2%至10%。

2.
  如前述权利要求所述的毛发护理装置,其中所述开关单元具有与所述接地表面相同的电位水平。

3.
  如前述任一项权利要求所述的毛发护理装置,其中所述装置的所述背面(8)在所述离子出口(11)的附近具有至少一个优选位于组件部件的内侧上的附加接地表面(122)。

4.
  如前述权利要求所述的毛发护理装置,其中所述附加接地表面(122)布置在外壳组件(108)上,所述接地表面相对于发射所述离子的方向邻近所述离子出口(11)设置在其下游。

5.
  如前述任一项权利要求所述的毛发护理装置,其中至少一个接地表面(22、122)包括金属表面,所述金属表面施加到优选由塑料制成的所述操作头(4)的非导电主体组件或外壳组件上,和/或在所述离子出口(11)的附近施加到所述外壳组件(13)的非导电主体组件或外壳组件上。

6.
  如前述任一项权利要求所述的毛发护理装置,其中附加接地表面(21)布置在所述操作头(4)上。

7.
  如前述权利要求所述的毛发护理装置,其中所述操作头(4)上的接地表面(21)至少以分段方式,优选呈环的形式包围所述毛发处理设备(5),和/或布置成直接邻近所述毛发处理设备(5)。

8.
  如前述任一项权利要求所述的毛发护理装置,其中所述接地表面(22)布置在所述外壳组件(13)上,所述外壳组件包围所述离子出口(11)并且形成所述离子出口(11)的外壳表面,所述外壳表面包围用于排放离子的高电压元件(12)。

9.
  如前述权利要求所述的毛发护理装置,其中所述包围离子出口(11)的外壳组件(13)具有孔口(14),其中设有排放口(17)以用于排放离子,并且具有至少一个附加的封闭外壳侧面(16),其中所述接地表面(22)设置在所述封闭的外壳侧面上。

10.
  如前述两项权利要求中的一项所述的毛发护理装置,其中包围离子出口(11)的所述外壳组件(13)被设计为护套。

11.
  如前述任一项权利要求所述的毛发护理装置,其中所述离子出口(11)的孔口(14)被设计成不含反电极。

12.
  如权利要求1的前序或前述任一项权利要求所述的毛发护理装置,其中所述单一离子出口(11)或全部离子出口(11)均布置在背离所述毛发处理设备(5)的所述装置的背面(8)上。

13.
  如前述任一项权利要求所述的毛发护理装置,其中所述至少一个离子出口(11)或全部所述离子出口(11)均布置在所述操作头(4)的背面的边缘周围,使得离子云可在所述操作头的背面上生成。

14.
  如前述权利要求所述的毛发护理装置,其中设有优选呈电池和/或可再充电电池形式的能量存储装置以便为所述离子排放装置(9)供电。

15.
  如前述权利要求所述的毛发护理装置,其中所述操作头(4)和/或所述毛发处理设备(5)可拆卸地连结到形成柄部(3)的所述装置的接地体(2)上。

说明书

具有最优化离子释放的毛发护理装置
技术领域
本发明涉及毛发护理装置,所述毛发护理装置具有柄部、可连接到柄部上的操作头、以及用于在毛发上产生离子的离子生成设备,所述操作头具有毛发处理设备,特别是刷毛区和/或梳齿区,所述离子生成设备具有至少一个离子出口。
背景技术
近来,已知毛发护理装置,尤其是毛发刷,作为除了它们的主要功能(即在毛发刷的情况下梳理、刷涂和定型毛发)之外的补充应用,它们还可产生离子。这种离子通常为用负电子充电的分子。借助于这种离子应用,可改善毛发和对毛发的护理;特别是可避免毛发上的静电荷导致毛发竖起。
发明内容
一种具有集成的刷连结件的毛发刷或毛发烘干机可见于US2005/284495,其在装置的背面(背离刷毛区)上和装置的正面(其承载刷毛区)上均具有离子出口,所述离子出口在操作头的方向上释放离子。
对于这些类型的具有离子应用的毛发护理装置,一方面,离子当然应被定向到毛发上,并且另一方面,它们不应被选择性地施加在某些点位中,而是应尽可能均匀地施加到毛发上。在这一方面,离子排放不仅受到直接的机械障碍诸如进入到离子出口前面的使用者的手或毛发的阻碍,而且还受到静电反向场的阻碍(所述反向场可由强烈带负电的会排斥例如带负电的离子的组件产生),或受到具有强正电荷的对离子具有吸引场效应的组件的阻碍。这种电荷甚至可产生自刷毛区自身,例如当用刷毛区来刷理毛发时。此外,在离子排放区域中也可产生静电场,所述静电场会阻碍离子的出射。
上述类型的先前已知的毛发护理装置的另一需要改善的方面是使用安全性,该使用安全性可因上述的强电荷而受到损害。
因此,本发明的目的基于创制一种所述类型的毛发护理装置,该毛发护理装置可避免现有技术的缺点并且以有利的方式发展现有技术。特别是,将会通过简单的部件以均匀且有效的方式将离子递送到毛发上而不会损害使用该装置的安全性。
根据本发明,此目的通过如权利要求1所述的毛发护理装置来实现。本发明的优选实施方案是从属权利要求的主题。
因此,建议通过适当的对策来消除静电荷和反向场,至少在毛发护理装置的部分上消除,所述部分会阻碍将离子递送到毛发上或会妨碍离子的排放。在没有此类静电反向场所造成的妨碍的情况下,可用简单设计的离子排放装置将均匀的但仍为定向且有效分布的离子施加到毛发上,这在本发明的一种简单设计的情况下可仅用单一离子出口来实现。根据本发明,该毛发护理装置的特征在于其具有背离毛发处理设备的装置的背面、以及用于将离子排放在毛发上的离子生成设备,所述离子生成设备具有至少一个开关单元、离子源、离子出口和围绕离子出口的护套,其中毛发护理装置另外还具有用于去除/限制电子电荷的接地表面,所述接地表面在离子出口附近布置在外壳的一部分上,其中离子源相对于接地表面的电位水平具有-10KV至-3KV的电位水平,护套相对于接地表面的电位水平具有-2.5KV至-1KV的电位水平或为离子源的电位水平的20%至50%,并且该装置的背面相对于接地表面的电位水平具有-500V至-100V的电位水平或为离子源的电位水平的2%至10%。
取决于毛发护理装置的类型,离子源相对于接地源的电位水平可具有选自下列范围内的电位水平:负(-)10千伏(KV)至-8KV或-8KV至-6KV或-6KV至-3KV。
包围离子出口的护套可以各种形式设计。例如,其可为圆柱形的或圆锥形的。其可为优良电导体以便护套可呈现为几乎是相邻接地表面的电位水平,或其可为不良导体以便其可部分地带电(尽管存在相邻接地件)。然而,电荷将被相邻接地件所限制。护套相对于接地表面的电位水平可具有选自下列范围内的电位水平:-2.5KV至-2KV或-2KV至-1.5KV或-1.5KV至-1KV。护套的电位水平应根据离子源的电位水平来调整。护套的电位水平可选自下列范围:离子源的电位水平的50%至40%或40%至30%或30%至20%。
装置的背面也可同样以各种形式来设计。其可为优良电导体以便装置的背面呈现至少接近于相邻接地表面的电位水平,或其可为不良导体以便其可部分地带电(尽管存在相邻接地件)。然而,电荷将被相邻接地件所限制。装置的背面相对于接地表面的电位水平可具有选自下列范围的电位水平:-500V至-300V或-300V至-200V或-200V至-100V。装置的背面的电位水平应根据离子源的电位水平来调整。装置的背面的电位水平可选自下列范围:离子源的电位水平的10%至8%或8%至5%或5%至2%。
在非导电或至少导电不良的外壳组件(如外壳背面或护套)的情况下,外壳组件的电位水平在各种部位中可以不同。在这些情况下,电位水平最佳地在组件的外侧上测量。在本发明的范围内,如果面向离子流的组件的外侧上的多个点中的一个处的电位水平处在上述范围内就足够了。该电位水平可被认为是组件的电位水平。
最优电位分布可受到毛发护理装置上的接地表面的分布的影响并且可受到所选择的材料的影响,尤其是与它们的导电性有关。
接地表面,即,在每种情况下的第一接地表面和第二接地表面以及更多的接地表面,可单独地或一起以任何方式来配置。它们可具有用来去除/限制电子电荷的平面区域或点接触区域。此外,它们还可具有连结到另一个表面例如连结到塑料组件的内表面或外表面上的接触板,例如通过粘附力来连结。接触表面可被设计为刚性的或挠性的。此外,接地表面可包括电接触螺杆,该电接触螺杆被螺纹连结到塑料组件中的螺杆毂中。
如果接地表面可影响另一个组件,换句话讲,如果其能够去除/限制另一个组件的电子电荷,则其被认为是位于另一个的“附近”。该组件可与接地表面直接接触或仅间接接触。即使间接接触,与该组件相距的距离也不应大于1毫米或5毫米或10毫米。间隔可取决于该组件或其所跨越的组件的电导率而定。
此外,操作头和/或离子出口附近的外壳组件还可具有至少一个用于去除/限制静电荷的附加接地表面(“第三接地表面”)。操作头和/或封装离子出口的外壳组件中的一个上的这种接地表面可防止或限制过多的电荷,并且可相应地防止或限制操作头区域中和离子出口区域中的静电场,所述静电场会阻碍将离子施加到毛发上。特别是,此类接地表面可存在于操作头上,并且同时也可在离子出口的附近存在于外壳组件上。
接地表面可以完全不同的方式设计。特别是,接地表面可被设计为金属表面,所述金属表面可安装在非导电的、优选由塑料制成的操作头和/或离子出口的主体或外壳组件上。操作组件或离子出口的主体自身还可被设计为注塑塑料组件或以某种其它方式制造的塑料组件。呈金属表面形式的接地表面有利地连结到所述主体组件的外表面上并且可形成其外表面;这不仅可防止由离子排放所产生的场,而且还可增强毛发护理装置的操作安全性。
在本发明的另一个有利实施方案中,作为另外一种选择或除了主体组件外侧上的接地表面以外,还可将接地表面设置在主体组件的内表面上。以此方式,取决于组件的情况,在内表面或外表面上的布置可有变化。尽管所述操作头上和/或封装离子出口的出口外壳中的一个上的接地表面可有利地处在对应的主体组件的外表面上,但另一方面,某些优点与在离子出口附近在另一个对应的主体组件的内表面上提供接地表面有关,尤其是在主体组件上(离子云扩散在该主体组件上)提供,在排放方向上设置在出口的后面。
关于接地表面的布置,各种实施方案可为有利的。在操作头上,一种有利的布置可以是将接地表面连结到毛发处理设备上,特别是连结到刷毛区和/或梳齿区上。例如,接地表面可形成例如床,所述床承载刷毛区的刷毛或梳齿,或任选地也承载用于毛发处理设备的其它不同设计的处理工具。作为另外一种选择或除了上述刷毛区和/或梳齿区以外,毛发处理设备还可具有由合适的材料例如陶瓷制成的毛发护理表面。作为另外一种选择或除此之外,还可提供加热表面,所述加热表面具有合适的形状,特别是平坦的、凹的、或圆凸的施用表面。
同样关于离子出口(“第一接地表面”)以及其附近的布置,各种构型可为有利的。根据本发明的一个有利实施方案,离子出口包括优选独立的成型为箱或盒的外壳模组,所述外壳模组封装了可产生离子的高电压元件并且具有孔口,其中设有出口孔以用于排放由高电压元件所产生的离子。有利的是,上述接地表面布置在背离上述外壳模组的孔口的侧面上。特别是,外壳模组的孔口可被设计成完全不含反电极。以此方式,接地表面可邻近孔口布置在出口外壳的侧面上,所述孔口周向包围上述高电压元件,所述元件优选为棒形、销形或尖的。作为另外一种选择或除此之外,接地表面也可设置在与孔口相对的出口外壳的背部表面上。
作为另外一种选择或除了出口外壳上的这种接地表面以外,邻近离子出口的外壳模组和/或离子出口附近的外壳表面也可具有接地表面(“第二接地表面”)。特别是,外壳模组可在离子出口(离子云扩散或应扩散在该离子出口之上)的下游接地,其中此外壳模组有利地以上述方式由非导电材料制成并且可具有安装在其上的接地表面。在此方面,在最简单的实施方案中,外壳模组在离子出口附近的电接地可通过电接触螺杆来实现,所述螺杆螺纹连结到塑料组件中的螺杆毂中。作为另外一种选择或除此之外,电接地还可通过源自金属电极的接触压力来实现,所述电极形成上述类型的接地表面。以此方式,所述外壳组件可通过接触装置的电路的接地件来接地,从而静电荷(尽管不是完全不可能的)会受到足够的限制以保持由电荷产生的反向电场很小,以致它们不会阻碍离子从离子出口的分散。
外壳组件(离子云分散在该外壳组件之上)的电接地有利地不在离子云的视场中实现,而是在背离离子出口的外壳组件的侧面之一上实现,特别是是在外壳组件的内表面之一上实现。
根据本发明的一个有利实施方案并且特别是第二接地表面的一个有利实施方案,装置的外壳在从离子出口排放出的离子云所分散的区域中和/或在离子出口附近具有离子导向机构或离子控制装置。对离子的控制可有利地以此方式来实现。换句话讲,在离子出口附近提供若干个独立的外壳组件,它们中的至少一个为接地的,并且至少另一个为未接地的。尽管未接地的外壳组件会变得带电荷并且因此可偏移离子,但离子可无阻碍地展开在接地的外壳组件上,以便(用合适模式的接地和未接地的外壳组件)适当地控制所排放的离子的分布。
取决于应用,这种离子导向装置可以不同的方式来设计以便产生不同的分布模式。在本发明的一个优选的实施方案中,接地和未接地的外壳组件的对称模式是可能的,所述组件围绕装置的纵向平面对称地布置在离子出口附近,从而导致完全对称的离子分布。然而,作为另外一种选择,为了产生特别地针对例如惯用右手的使用者或惯用左手的使用者的装置,不同于围绕纵向平面的对称布置的构型也是可能的。
作为另外一种选择或除了上述的实施方案以外,为了将接地表面直接连结到毛发处理设备上,操作头上的接地表面(“第三接地表面”)也可周向地至少以分段方式包围毛发处理设备,优选布置成环的形式和/或直接邻近毛发处理设备。特别是,可在操作头上围绕毛发处理设备提供金属条作为接地表面。以此方式,毛发处理设备自身,换句话讲例如刷毛区和/或梳齿区、或操作头的外壳主体自身,应由非导电材料制成。有利的是,操作头上的接地表面不紧邻至少一个离子出口。有利的是,接地表面可在包含毛发处理设备的操作头中紧接毛发处理设备设置在边缘上。
在本发明的另一个实施方案中,外壳电位也与使用者的身体电接触。在本发明的另一个实施方案中,毛发护理装置的柄部可具有导电的接触表面以去除毛发护理装置使用者身上的正电荷。以此方式,可防止使用者带上静电荷。负离子的排放甚至可使得使用者带上负电荷。另一方面,正电荷可通过柄部上的接触表面转移到使用者身上,从而补偿负离子的充电效应。这在不连接到电网上的毛发护理装置的设计中是尤其有利的,所述电网特别是是电池和/或可再充电电池装置。对于这种非网络装置,负离子的生成通常会在装置上产生等同量的正电荷,因为电池装置或可再充电电池装置缺乏基准电位。通过装置上的这种正电荷,使用者所带的负电荷可由上述柄部上的电活性接触表面抵消。
通过大体上无妨碍地将离子递送到毛发上(通过可消除或减小装置上的电荷场的接地表面来实现),一种尤其简单的离子递送装置的设计成为可能的,特别是是关于离子释放构型的设计。在本发明的另一个实施方案中,特别是,离子递送可只发生在装置的背面上,所述背面背离执行毛发护理装置的主要功能的毛发处理设备。令人惊讶的是,可以此方式将均匀分布的且仍为定向递送的离子导向到毛发上。迄今为止,为了将离子直接提供在要处理的区域中,已普遍尝试将离子的至少一部分在毛发处理工具附近递送到装置的正面上,因为据信从装置的背面排放的离子会或多或少地偏离目标,即要处理的毛发。特别是,结合上述的接地表面和对破坏性电荷场的消除或限制,在装置的背面上排放离子可导致离子尤其均匀的分布并且几乎完全地排放到毛发上,因为毛发通常具有正电荷,所述正电荷会吸引离子以补偿所排放的离子。如果没有更强的干扰场存在而阻碍离子的排放,则该效应是足够的。通过将离子出口或全部的离子出口布置在装置的背面上,离子可在没有由使用者的手或由靠近离子出口的毛发束所造成的机械干扰的情况下发射。
原则上,单一离子出口可以是足够的。任选地,可将若干个离子出口布置在装置的背面上。在这两种情况下,所述布置均有利地围绕毛发护理装置的纵向平面对称。优选地,可产生所述至少一个离子出口或所述若干个离子出口以便离子发射的主方向或离子发射的主方向的总体朝背部表面的平面定向,或对称于纵向平面定向在背部表面的平面上。以此方式,从离子出口开始的离子发射的主方向有利地基本上平行于背部表面对齐,以便离子基本平行于装置的背面在此背部表面上发射出来。作为另外一种选择或除此之外,离子还可以很小的锐角(向上)释放。在这种情况下,离子可释放成朝背面的表面倾斜优选0°至45°,优选0°至30°的角度。
为了获得毛发上的均匀的离子分布,将所述至少一个离子出口布置在与毛发处理设备相对定位的装置的背部表面的边缘上,以便在操作头的背面上形成离子云。
在仅布置单一离子出口时,将其有利地放置在纵向平面自身中。在将两个离子出口布置在装置的背面上时,可将它们布置成使得它们在纵向部位上以相同的高度伸出,优选朝中心平面成很小的角度。作为另外一种选择,在将两个离子出口定位在装置的背面上时,可使用相对的构型以便将这两个离子出口设置在操作头的背部表面的相对边缘上,并且以一个处在另一个上面的方式对齐以致允许离子例如在彼此的上面排放。
毛发处理设备可牢固地安装到操作头上,并且也可永久性地集成到操作头中。作为另外一种选择,毛发处理设备可有利地以可互换的方式连结到操作头上,以便各种毛发处理设备均可连结到操作头上并且可用于操作头。除了刷毛区或梳齿区以外,还可考虑其它毛发处理设备,例如:用于热处理的设备、可加热的毛发拉直器、或许呈毛发烘干机或热空气刷形式的热空气装置。一般来讲,此类各种毛发处理设备要求不同类型的对装置的操纵和抓持,以便其有利地提供所公开的类型的导电表面。此外,离子流应以如下方式递送:其强度和其几何分布均非常相容于多种操作头。
附图说明
本发明的这些和其它特征是基于权利要求,并且也基于以下的说明和/或附图,其中所述特征可以彼此的各种组合和子组合的方式以及单独的方式构成本发明的主题,而不考虑它们在权利要求中的概述。本发明将根据优选的实施方案和相关的附图来说明。在附图中:
图1显示了根据本发明的一个有利实施方案的呈毛发刷形式的毛发护理装置的背面的顶视图,其显示了操作头的背面的边缘处的处在纵向平面中的离子出口;
图2显示了沿图1中所示的线A-A的图1的毛发刷的纵截面,其中接地表面设置在操作头上,位于提供在那里的齿区的下方;
图3显示了根据本发明的另一个有利实施方案的毛发刷的正面的顶视图,其中接地表面设置在操作头上作为梳齿区的边缘上的围绕的金属条;
图4显示了根据本发明的另一个有利实施方案的毛发刷的背面的顶视图,其显示了对称于纵向轴线而布置在操作头的背面的边缘上的两个离子出口;
图5显示了图4中的毛发刷的正视图,其显示了离子出口的主排放方向,所述出口成角度地彼此背离并且基本平行于刷的背部表面;
图6显示了根据本发明的另一个有利实施方案的毛发刷的背面的顶视图,其中两个离子出口彼此相对地布置在毛发刷的纵向轴线上;
图7显示了沿图6中所示的线AA的毛发刷的纵截面,其显示了毛发刷的背面上的离子出口的各种倾斜度;
图8显示了根据本发明的另一个有利实施方案的离子出口和其出口外壳的示意性透视图,其中出口外壳的底部表面被设计为接地表面;
图9显示了图8中的离子出口的孔口的正面顶视图;
图10显示了穿过前述两个图的离子出口的示意纵截面;
图11显示了根据本发明的一个可供选择的有利实施方案的离子出口的透视示意图,其中出口外壳的底侧的仅局部区域被设计为接地表面;
图12显示了根据本发明的另一个有利实施方案的离子出口的示意性透视图,其中出口外壳的一个侧面的一部分被设计为接地表面;
图13显示了根据本发明的另一个有利实施方案的离子出口的示意性透视图,其中出口外壳的与孔口相对的背面被设计为接地表面;
图14显示了根据本发明的另一个有利实施方案的离子出口的示意性透视图,其中出口外壳的彼此相对设置的两个侧面每个均被设计为局部的接地表面;
图15显示了根据本发明的另一个有利实施方案的呈毛发刷形式的在毛发刷的背面上具有离子出口的毛发护理装置的示意性透视图,其中装置的外壳组件在离子出口附近接地;并且
图16显示了类似于图15的毛发护理装置的示意性透视图,其中将若干个独立的组件提供在装置的背面上的离子出口附近,所述组件中的仅一个为接地的并且其它组件为未接地的。
具体实施方式
图1和2所示的毛发护理装置1包括装置接地体2,所述接地体具有柄部3并且在其内部中或在其外壳上具有下述的电子机构。所述柄部3支撑操作头4,所述头部在装置的正面7上承载作为毛发处理设备5的刷区6。然而应当了解,如果毛发护理装置被设计为毛发定型装置和/或毛发烘干机,则可提供其它毛发处理工具例如加热元件或毛发定型元件或甚至可能提供鼓风机出口。所述毛发处理工具也可任选地彼此组合。
所述毛发处理设备5可永久性地集成到操作头4中。作为另外一种选择,毛发处理设备5可有利地安装以致以可互换的方式安装在操作头4上,以便一个操作头4可装备有并可用于各种毛发处理设备5。
有利的是,毛发护理装置1可具有包括若干个可互换的组件的模组化设计,其中特别是,整个操作头4和/或毛发处理设备5可独立地由装置的接地体2以上述的方式形成。在此方面,可有利地在各种组件之间提供呈扣合销轴和承窝形式的型面配合扣件,从而使各组件可被移除和重新安装而无需使用工具。
如图1和2所示,离子释放装置9附加地设置在装置的接地体2上,即,设置在背离毛发处理设备5的装置的背面8上,所述释放装置包括离子发射器,所述离子发射器可具有布置在装置的接地体2的内部中和/或离子出口11中的用于释放离子的高电压元件12。所述高电压元件12可布置在箱状或壳状的出口外壳13中,所述外壳的壁在孔口侧面14上具有出口孔17,所生成的离子可通过该出口孔排出。
在所示的实施方案中,离子出口11被设计为喷嘴或扩散器因而产生定向离子排放;参见图2。有利的是,离子出口11布置在装置的背面8上,所述背面与刷毛区6相对和/或背离它并且形成例如毛发刷的背面。有利的是,离子出口11布置在纵向平面18中,所述平面形成图2的投影面,其中离子出口11的主出口方向19有利地与装置的背部表面倾斜成很小的锐角并且定向成与其背离;参见图2,其中倾斜角可有利地介于0°和45°之间,并且在所示的实施方案中可有利地大约介于20°和30°之间。特别是,如图1和2所示,离子出口11布置在操作头的与刷毛区6相对的背部表面的边缘上,以便从离子出口11排放的离子在操作头4的背面上形成离子云。特别是,离子出口11(例如,如图1所示)可粗略地讲大约设置在柄部3和操作头4之间的过渡区域中。
将电源单元(未具体示出)封装在装置的接地体2内,所述单元可被优选地设计成电池或可再充电电池装置的形式。有利的是,毛发护理装置1被设计成为能量自给自足的,即,其不具有可从电源插座递送电力的永久电源适配器。当然,可插接电源线以对装置的接地体2内的可再充电电池进行充电。通过所述电源单元向离子排放装置9供电以便生成离子。
如图2所示,毛发护理装置1有利地具有接地装置20以防止不希望发生的对装置的充电,从而可防止妨碍离子排放并且改善装置的操作安全性。在根据图2所示的实施方案中,操作头4中的接地装置20可具有接地表面21(“第三接地表面”),所述接地表面可防止强电荷场在操作头4的附近生成,尤其是在毛发处理设备5的附近生成。在根据图2的实施方案中,接地表面21直接连结到毛发处理设备5上,其中其被设计为载体并且设置在毛发处理设备5的下方并连结到其上;参见图2。接地表面21有利地由施加到操作头的主体上的金属表面和/或金属涂层制成,所述主体通常是由塑料制成的。接地表面21可连接到电路的地电位上,例如通过布置在装置内的惯例组件来连结。
作为另外一种选择,或除此之外,操作头侧面上的接地表面21也可具有包括金属表面的主体,所述主体处在刷毛区6的边缘上,优选呈环形地围绕刷毛区6或如图3所示以U形在三个侧面上围绕刷毛区的金属条的形式。刷毛区6和操作头4的主体的其余部分可被设计为非导电的,特别是由塑料制成。在根据图3的刷毛区6的边缘处的接地表面21的情况下,接地表面21围绕刷毛区6的足够大的部分以足够地补偿在那里产生的电荷。有利的是,金属条将在毛发处理设备5的区域的至少50%上延伸。
如图4和5所示,毛发护理装置1的背面8也可具有若干个离子出口11,其中在根据图4和5所示的实施方案中,提供了两个离子出口。当从装置的纵向轴线观察时,它们处在相同的高度并且相对于纵向平面18彼此对称地设置。有利的是,离子出口11设置在操作头的背面的边缘上,其中它们彼此倾斜成60°至120°,优选大约90°大小的角度以产生均匀地分布的离子云。在所示的实施方案中,具有主出口方向18的离子出口11平行于背面8的表面,以便离子基本上平行于操作头的背面排放。在所示的实施方案中,离子可在发散的方向上从离子出口11排放,以便在操作头4上或在其背面上均匀地分布离子云。
作为根据图4和5的实施方案的供选择的替代方案,可将若干个离子出口11布置在纵向平面18中;参见图6和7。有利的是,这两个离子出口11彼此相对设置,其中将它们沿操作头的背面的相对侧上的边缘布置,以便允许离子云分散在操作头的背面上;参见图6和7。
因而有利地的是,这两个离子出口11可相对于装置的背面的表面以各种方式倾斜。尽管一个离子出口的主出口方向18基本上平行于装置的背面8的表面,但另一个离子出口11略微朝装置的背面8的所述表面倾斜成优选0°至40°,特别是10°至30°的角度。如图6和7所示,如果布置在柄部3和操作头4之间的过渡区域中的离子出口11略微倾斜,则可为尤其有利的,而布置在远离柄部3的操作头的背面末端上的离子出口11可布置成平行于装置的背面8。
如图8至10所示,上述接地装置20也有利地包括连结到离子出口11的接地表面22(“第一接地表面”)。特别是,此接地表面22设置在出口外壳13的外表面上,所述外壳包围离子发射器或其高电压元件12。如图8最佳所示,大致盒形的出口外壳13包围形成正面的孔口14,其中设有出口孔17以用于排放所发射的离子。高电压元件12布置在出口外壳13的中心,并且在出口外壳13内在所述出口孔17之前不远处终止;参见图10。通常,高电压元件12包括线材或由线材组成,所述线材一般被导向在隔离的护套内,而出口外壳一般由不同的第三材料制成,例如由塑料制成(示意图图10未明显示出材料的差别)。
在根据图8至10的实施方案中,基于高电压元件12的圆周,侧面16具有接地表面22。根据图8至10,这可为面对接地体2的出口外壳13的底侧。作为另外一种选择或除此之外,这也可为出口外壳13的侧壁表面16,如图12所示。
根据图8至10,出口外壳13的整个底侧被设计为接地表面22,特别是呈金属表面的形式,其中外壳的其余部分为非导电的,并且特别是可由塑料制成。如图11所示,出口外壳13的对应的表面-在图11的情况下为侧面的底侧-也可仅以分段方式具有接地表面22,即,接地表面22不必一定覆盖整个侧面;参见图11。
同样在根据图12的实施方案中,侧面16的仅约一半被设计为接地表面22。
如图13所示,出口外壳13的与孔口14相对的背面也可被设计为接地表面22。
另一个实施方案显示于图14中。在这种情况下,出口外壳13的相对的侧面16每一个均具有接地表面22,其中在所示的实施方案中,它们被设计成仅呈局部地覆盖侧面16的条的形式。
图15显示了根据本发明的另一个实施方案的毛发护理装置1。除非另外指明,此毛发护理装置可对应于前述实施方案,其中对应的附图标号用于图15中的对应的组件。根据图15的毛发护理装置与前述装置的基本不同之处在于操作头的整个背面均为接地的。外壳组件108(其形成操作头4的背面并且包围离子出口11)自身由非导电材料、特别是塑料组成,以便外壳组件108可因此而带静电。然而,所述外壳组件108通过接触高电压电路的地电位来接地,从而静电荷(尽管不是不可能的)会受到足够的限制使得由电荷产生的反向电场很小以致不会阻碍离子从离子出口的分布。以此方式,电接地可在接地表面122(“第二接地平面”)上发生。以此方式,接地表面122也可被设计为外壳组件108中的螺杆毂中的电接触螺杆。作为另外一种选择或除此之外,可将压力从金属电极施加到外壳组件108上,优选施加在内侧上。因此,在这两种情况下,设置在外壳组件108上的连结到地电位上的接地表面可防止或抑制静电充电。
如图15所示,接地的外壳组件108延伸至离子出口11的附近,基本遍及装置主体的背部表面的整个表面或其如下的分段:发生自离子出口11的离子云在所述分段上分散。接地的外壳组件108从背离离子出口11的孔口14的离子出口11的背面延伸,初始时遍及直至离子出口11的大部分表面,即在从所述离子出11排放的离子的方向上处在所述离子出口11的下游;参见图15。离子出口11在接地的外壳组件108的表面中形成(例如)一个岛,其中外壳组件108的大部分(在所示的实施方案中为外壳组件108的三分之二以上)位于离子出口11的排放侧面上;参见图15。
以此方式,所述离子出口11集成到所述外壳组件108中,特别是,后者拱起成穹顶形状以便为离子出口11的出口孔17留出空间,所述离子出口在所示的实施方案中优选地由塑料套管170形成,所述套管在出口侧上包纳离子发射器;参见图15。
替代在图15所示的整个表面上将外壳组件在离子发射器的排出区域中接地,可在离子出口附近提供若干个独立的外壳组件108a和108b,如图16所示,所述组件中的至少一个为接地的,同时至少一个其它组件为不接地的。非接地的部件可带静电,从而离子会被偏转。与此形成对比的是,离子可不受影响地在接地的部件上展开,以便实现对离子云的总体控制。以此方式,离子出口11的附近的接地和未接地的外壳部件的模式形成离子控制机构。
如图16所示,此离子控制机构或接地的和未接地的外壳组件108a和108b的模式可被有利地布置或设计成对称于毛发护理装置1的纵向轴线18。特别是,图16示出了呈梯形形状的从离子出口11延伸的中心外壳组件108a,其以前述方式接地。此中心条外壳组件108a在左侧和右侧上与两个侧部外壳组件108b相接,所述侧部外壳组件保持为未接地的,因此可带静电。在此实施方案中,离子控制机构形成例如排出通道或槽,所述通道或槽允许形成定向离子排放并且抑制过度的侧向展开。然而,取决于应用,也可提供其它模式的接地或未接地的外壳组件,以便根据该应用实现对分布的离子云的合适的控制。

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本发明涉及毛发护理装置(1),所述毛发护理装置具有柄部(3)、可连接到柄部(3)上的操作头、以及用于在毛发上产生离子的离子生成设备(9),所述操作头具有毛发处理设备(5),特别是刷毛区和/或梳齿区,所述离子生成设备具有至少一个离子出口(11)。根据本发明,毛发护理装置(1)的特征在于所述毛发护理装置具有背离毛发处理设备(5)的背面(8)的特征和用于在毛发上产生离子的离子生成设备(9),所述设备具有。

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