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本发明涉及一种高比表面基底负载的Bi2WO6光催化膜、方法及应用。首先,在60300下制备Bi2WO6纳米粉体,再将洁净的高比表面基底浸入Bi2WO6悬浮液中制得Bi2WO6膜,最后经100950热处理,制得高比表面基底负载的Bi2WO6光催化膜。所述的高比表面基底为金属网、泡沫金属或多孔陶瓷。所制备的Bi2WO6膜具有Bi2WO6颗粒尺寸小、光催化活性高、循环性能好、制备工艺简单及生产成本低等特。