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1、(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201410846601.4(22)申请日 2014.12.31C11D 1/831(2006.01)C11D 3/60(2006.01)(71)申请人 镇江市港南电子有限公司地址 212132 江苏省镇江市新区大港机电工业园东方路(72)发明人 聂金根(74)专利代理机构 上海海颂知识产权代理事务所 ( 普通合伙 ) 31258代理人 季萍(54) 发明名称一种新型特效硅片清洗液制备方法(57) 摘要本发明提供的一种新型特效硅片清洗液制备方法制备的清洗剂，配方简单易于操作在清洗后，会在硅片表面生成一层保护膜，可提高硅片的抗污能力，同时去。
2、污力强，硅片的清洗速度快，提高了硅片清洗的清洁率，并且对环境无污染。(51)Int.Cl.(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请权利要求书1页 说明书3页(10)申请公布号 CN 104498208 A(43)申请公布日 2015.04.08CN 104498208 A1/1 页21.一种新型特效硅片清洗液制备方法制备方法，其特征在于，所述制备方法如下 ：1. 按重量分数称取原材料如下 ：氟化铵 7-10 份、三羟乙基胺 7-12 份、阴离子活性剂 5-8 份、非离子表面活性剂 3-5 份、盐酸 3-4 份、葡萄糖酸钠 1015 份和助洗剂 1517 份 ；2. 将三羟乙基胺。
3、加入到重量分数为 80% 的温度为 33的水中，得到基础液 ；3. 用搅拌机搅拌基础液，同时依次缓慢加入氟化铵、阴离子活性剂和非离子表面活性剂，随后再搅拌 20 分钟，并过滤，得混合液 A ；4.继续搅拌混合液A，同时依次缓慢加入盐酸、葡萄糖酸钠和助洗剂，随后再搅拌25分钟，并过滤，得混合液 B ；5. 将混合液 B 放入蒸发器中，回转蒸馏 20 分钟，提取上清液 B ；6. 将上清液 B 放入过滤离心机中在 1750r/s 下进行离心，时间为 15 分钟，最终得到清洗液。2.如权利要求 1 所述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特征在于，所述阴离子活性剂为十二烷基磺酸钠和十二烷基硫酸钠按 。
4、1-1.2:1.4-1.5 比例混合而成。3.如权利要求 1 所述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特征在于，所述非离子活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按 1-1.7:1.3-1.5 比例混合而成。4.如权利要求 1 所述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特征在于，所述助洗剂为氢氧化钠。5.如权利要求 1 所述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特征在于，所述的盐酸为工业盐酸。6.如权利要求 1 所述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特征在于，所述搅拌机为 KD-20 搅拌机。权 利 要 求 书CN 104498208 A1/3 页3一种新型特效硅片清洗液制备方法技术领域000。
5、1 本发明涉及一种清洗液，特别涉及一种新型特效硅片清洗液制备方法。背景技术0002 清洗最为硅片的一个生产工序之一，清洗的好坏程度对硅片的使用性能有着很大的影响。清洗的主要目的是为了清洗掉切割过程中产生的沙粒，残留的切削磨料、金属离子及指纹等，使硅片表面达到无腐蚀、无氧化、无残留等技术指标。传统的硅片清洗，由于各个方法不一样，采用的清洗液也不一样。现有技术中的清洗液清洗效果较差，对于硅片表面的污渍难以做到更好的去除，降低了硅片的使用效果。发明内容0003 针对上述问题，本发明提出了一种新型特效硅片清洗液制备方法。0004 为解决以上技术问题，本发明提供的技术方案是 :一种新型特效硅片清洗液制备。
6、方法，其特征在于，所述制备方法如下 ：1. 按重量分数称取原材料如下 ：氟化铵 7-10 份、三羟乙基胺 7-12 份、阴离子活性剂 5-8 份、非离子表面活性剂 3-5 份、盐酸 3-4 份、葡萄糖酸钠 1015 份和助洗剂 1517 份 ；2. 将三羟乙基胺加入到重量分数为 80% 的温度为 33的水中，得到基础液 ；3. 用搅拌机搅拌基础液，同时依次缓慢加入氟化铵、阴离子活性剂和非离子表面活性剂，随后再搅拌 20 分钟，并过滤，得混合液 A ；4.继续搅拌混合液A，同时依次缓慢加入盐酸、葡萄糖酸钠和助洗剂，随后再搅拌25分钟，并过滤，得混合液 B ；5. 将混合液 B 放入蒸发器中，回转。
7、蒸馏 20 分钟，提取上清液 B ；6. 将上清液 B 放入过滤离心机中在 1750r/s 下进行离心，时间为 15 分钟，最终得到清洗液。0005 上述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其中，所述阴离子活性剂为十二烷基磺酸钠和十二烷基硫酸钠按 1-1.2:1.4-1.5 比例混合而成。0006 上述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其中，所述非离子活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按 1-1.7:1.3-1.5 比例混合而成。0007 上述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其中，所述助洗剂为氢氧化钠。0008 上述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其中，所述的盐酸为工业盐酸。0009。
8、 上述的一种新型特效硅片清洗液制备方法，其中，所述搅拌机为 KD-20 搅拌机。0010 本发明的有益效果为 ：本发明提供的一种新型特效硅片清洗液制备方法制备的清洗剂，配方简单易于操作，在清洗后，会在硅片表面生成一层保护膜，可提高硅片的抗污能力，同时去污力强，硅片的清洗速度快，提高了硅片清洗的清洁率，并且对环境无污染。说 明 书CN 104498208 A2/3 页4具体实施方式0011 实施例一一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特征在于，所述制备方法如下 ：1. 按重量分数称取原材料如下 ：氟化铵 9 份、三羟乙基胺 10 份、阴离子活性剂 6 份、非离子表面活性剂 4 份、盐酸 3 份、葡。
9、萄糖酸钠 12 份和助洗剂 15 份 ;2. 将三羟乙基胺加入到重量分数为 80% 的温度为 33的水中，得到基础液 ；3. 用搅拌机搅拌基础液，同时依次缓慢加入氟化铵、阴离子活性剂和非离子表面活性剂，随后再搅拌 20 分钟，并过滤，得混合液 A ；4.继续搅拌混合液A，同时依次缓慢加入盐酸、葡萄糖酸钠和助洗剂，随后再搅拌25分钟，并过滤，得混合液 B ；5. 将混合液 B 放入蒸发器中，回转蒸馏 20 分钟，提取上清液 B ；6. 将上清液 B 放入过滤离心机中在 1750r/s 下进行离心，时间为 15 分钟，最终得到清洗液。0012 其中，所述阴离子活性剂为十二烷基磺酸钠和十二烷基硫酸钠。
10、按 1.2:1.45 比例混合而成，所述非离子活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按 1.5:1.4 比例混合而成，所述助洗剂为氢氧化钠，所述的盐酸为工业盐酸。0013 实施例二一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特征在于，所述制备方法如下 ：1. 按重量分数称取原材料如下 ：氟化铵 7 份、三羟乙基胺 8 份、阴离子活性剂 6 份、非离子表面活性剂 3 份、盐酸 4 份、葡萄糖酸钠 15 份和助洗剂 16 份 ；2. 将三羟乙基胺加入到重量分数为 80% 的温度为 33的水中，得到基础液 ；3. 用搅拌机搅拌基础液，同时依次缓慢加入氟化铵、阴离子活性剂和非离子表面活性剂，随后再搅拌 20。
11、 分钟，并过滤，得混合液 A ；4.继续搅拌混合液A，同时依次缓慢加入盐酸、葡萄糖酸钠和助洗剂，随后再搅拌25分钟，并过滤，得混合液 B ；5. 将混合液 B 放入蒸发器中，回转蒸馏 20 分钟，提取上清液 B ；6. 将上清液 B 放入过滤离心机中在 1750r/s 下进行离心，时间为 15 分钟，最终得到清洗液。0014 其中，所述阴离子活性剂为十二烷基磺酸钠和十二烷基硫酸钠按 1.1:1.4 比例混合而成，所述非离子活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按 1.7:1.3 比例混合而成，所述助洗剂为氢氧化钠，所述的盐酸为工业盐酸。0015 实施例三一种新型特效硅片清洗液制备方法，其特。
12、征在于，所述制备方法如下 ：1. 按重量分数称取原材料如下 ：氟化铵 9 份、三羟乙基胺 11 份、阴离子活性剂 7 份、非离子表面活性剂 5 份、盐酸 3 份、葡萄糖酸钠 11 份和助洗剂 17 份 ；说 明 书CN 104498208 A3/3 页52. 将三羟乙基胺加入到重量分数为 80% 的温度为 33的水中，得到基础液 ；3. 用搅拌机搅拌基础液，同时依次缓慢加入氟化铵、阴离子活性剂和非离子表面活性剂，随后再搅拌 20 分钟，并过滤，得混合液 A ；4.继续搅拌混合液A，同时依次缓慢加入盐酸、葡萄糖酸钠和助洗剂，随后再搅拌25分钟，并过滤，得混合液 B ；5. 将混合液 B 放入蒸发。
13、器中，回转蒸馏 20 分钟，提取上清液 B ；6. 将上清液 B 放入过滤离心机中在 1750r/s 下进行离心，时间为 15 分钟，最终得到清洗液。0016 其中，所述阴离子活性剂为十二烷基磺酸钠和十二烷基硫酸钠按 1.2:1. 比例混合而成，所述非离子活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按 1.4-1.5 比例混合而成，所述助洗剂为氢氧化钠 , 所述的盐酸为工业盐酸。0017 一种新型特效硅片清洗液制备方法制备的清洗剂，配方简单易于操作，在清洗后，会在硅片表面生成一层保护膜，可提高硅片的抗污能力，同时去污力强，硅片的清洗速度快，提高了硅片清洗的清洁率，并且对环境无污染。0018 一种。
14、新型特效硅片清洗液制备方法，可以极大降低了切削液的表面张力，大大提高了切削液的流动性和渗透性，同时在保证了切削液对磨料的润湿性的同时，大幅度提高了磨料的分散性，避免磨料团聚结成块对硅片造成损坏，不仅有利于提高硅片切割的成品率，同时使硅片切割成品率达到 99，而且可在硅片表面形成保护膜，使硅片更容易被清洗，总体上大大提高了切削液的润滑效果、耐磨特性及冷却特性。0019 以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。说 明 书CN 104498208 A。