感光性板状构件吸附机构和图像记录装置.pdf

在台架(152)内与各吸附孔(172)对应安装气缸构件(176)，收藏在其内部的活塞构件(178)通过压缩盘簧施力上。在安放面(152P)上不安方衬底(150)的状态下，活塞构件(178)由于压缩盘簧(182)的施力力，变为闭塞位置，闭塞吸附孔(172)。如果安放衬底(150)，则活塞构件(178)抵抗压缩盘簧(182)的施力力，变为开放位置，吸附孔(172)被开放，所以能用基于负压的吸引力吸引衬底(150)。用简单的构成，取得即使是尺寸不同的感光性板状构件，也能有效利用基于负压的吸引力，可靠吸附在台架上的感光性板状构件吸附机构和具有该感光性板状构件吸附机构的图像记录装置。

1.  一种感光性板状构件吸附机构，其特征在于：包括：
能把感光性板状构件安放在安放面上的台架；
形成在所述安放面上，用于吸附安放的感光性板状构件的多个吸附孔；
与所述多个吸附孔分别对应设置，能在开放吸附孔的开放位置和闭塞吸附孔的闭塞位置之间移动的开闭构件；
使所述各移动构件在所述安放面上安放了感光性板状构件的区域的吸附孔，为开放位置，在安放面上未安放感光性板状构件的区域的吸附孔，向闭塞位置移动的移动部件。

2.  根据权利要求1所述的感光性板状构件吸附机构，其特征在于：
所述移动部件包括：设置在所述开闭构件上，在开闭构件的闭塞位置从安放面突出，在开放位置由感光性板状构件按压，后退到吸附孔内的被按压部；
使所述开闭构件施力闭塞位置的施力部件。

3.  根据权利要求2所述的感光性板状构件吸附机构，其特征在于：
所述开闭构件的移动方向为与通过台架内的负压作用于开闭构件上的力正交的方向。

4.  一种图像记录装置，其特征在于：包括：
权利要求1～3中的任意一项所述的感光性板状构件吸附机构；
在通过所述感光性板状构件吸附机构吸附在安放面上的感光性板状构件上记录图像的图像记录部件。

5.  根据权利要求4所述的图像记录装置，其特征在于：
所述图像记录部件为对感光性板状构件照射激光，进行图像记录的激光记录部件。

感光性板状构件吸附机构和图像记录装置
技术领域
本发明涉及感光性板状构件吸附机构和图像记录装置。
背景技术
在把感光性板状构件安放在台架(stage)上，记录所需的图案等的图像记录装置中，有在台架的安放面上形成多个吸附孔，通过负压吸附保持安放在安方面上的感光性板状构件的构成。
可是，一般从安放在安放面上感光性板状构件的周围，存在所谓的空气泄漏，所以为了取得充分的吸附力，需要更大的真空泵或吹风机等装置。
此外，在该构成中，在成为图像记录的对象的多个尺寸的感光性板状构件中，配合最大尺寸的感光性板状构件，使多个吸附孔分散在安放面的宽阔范围中，所以当吸附更小尺寸的感光性板状构件时，位于感光性板状构件的外侧的吸附孔不被感光性板状构件堵塞，空气从这里流入，所以吸附台架内部的压力上升，有可能无法取得充分的吸附力。
为了消除这样的问题，考虑到用薄膜等覆盖位于感光性板状构件的外侧区域的未使用的吸附孔的方法。可是，在该方法中，有必要按照感光性板状构件尺寸不同，准备与此对应的形状的薄膜，贴在安放面上，花费工夫。
对此，例如在专利文献1中，描述了配合感光性板状构件即衬底(基板)的尺寸，把台架内划分为多个吸附区，分割管道，配合衬底尺寸切换吸引泵，用比衬底尺寸更小的吸附区吸附的构成的曝光装置。可是，在该构成中，台架内的结构变得复杂，并且限制了能对应的衬底尺寸。
此外，在专利文献2中，描述了通过隔膜或筒状弹性体的变形关闭而构成的吸附保持装置。可是，在该构成中，用台架内的负压使隔膜或筒状弹性体变形，所以为了关闭未使用的吸附孔，有必要作用吸引力，无法有效利用基于台架内的负压的吸引力。
[专利文献1]
特开平6-355279号公报
[专利文献2]
特开平3-73289号公报
发明内容
本发明考虑所述事实，其目的在于：用简单的构成，取得即使是不同尺寸的感光性板状构件，也能有效利用基于负压的吸引力，可靠地吸附在台架上的感光性板状构件吸附机构和具有该感光性板状构件吸附机构的图像记录装置。
在发明1中，其特征在于：包括：能把感光性板状构件安放在安放面上的台架；形成在所述安放面上，用于吸附安放的感光性板状构件的多个吸附孔；与所述多个吸附孔分别对应设置，能在开放吸附孔的开放位置和闭塞吸附孔的闭塞位置之间移动的开闭构件；使所述各移动构件在所述安放面上安放了感光性板状构件的区域的吸附孔，为开放位置，在安放面上未安放感光性板状构件的区域的吸附孔，向闭塞位置移动的移动部件。
在该感光性板状构件吸附机构中，台架的多个吸附孔中，在安放感光性板状构件的区域的吸附孔中，通过移动部件，开闭构件向开放位置移动，吸附孔开放。因此，通过台架内的负压能吸引感光性板状构件。而在未安放感光性板状构件的区域的吸附孔中，通过移动部件，开闭构件向闭塞位置移动，使吸附孔闭塞。因此，空气不会随意从感光性板状构件的外侧的未使用的吸附孔流入，例如即使使用小的吸引装置时，也能可靠吸附感光性板状构件。开闭构件根据感光性板状构件向安放面的安放或不安放，开闭该区域的吸附孔，所以没必要为了吸附孔的开闭而利用台架内的负压，能为了感光性板状构件的吸附，有效利用基于负压的吸引力。此外，开闭部件因为只开放安放感光性板状构件地区域的吸附孔，所以能与不同尺寸的感光性板状构件对应吸附。在台架内没必要设置与感光性板状构件尺寸匹配的吸附区或管道，所以结构不会变得复杂。
在发明2中，根据发明1，其特征在于：所述移动部件包括：设置在所述开闭构件上，在开闭构件的闭塞位置从安放面突出，在开放位置由感光性板状构件按压，后退到吸附孔内的被按压部；使所述开闭构件施力闭塞位置的施力部件。
因此，在不安放感光性板状构件的区域的吸附孔中，通过施力(赋能)构件，把开闭构件施力于闭塞位置，被按压部从安放面突出。如果安放感光性板状构件，则在该区域的吸附孔中，被突出部由感光性板状构件按压，抵抗施力构件的施力力，向吸附孔内后退，开闭构件变为开放位置。这样，通过施力构件使开闭构件施力开放位置，能把不吸附感光性板状构件的区域的吸附孔维持在闭塞位置。此外，用在闭塞构件上设置被按压部的简单构成，在安放感光性板状构件的状态下，能使闭塞构件向开放位置移动。
在发明3中，根据发明2，其特征在于：所述开闭构件的移动方向为与通过台架内的负压作用于开闭构件上的力正交的方向。
因此，当台架内为负压时，使开闭构件移动的力作用，开闭构件也不会随便移动，所以能把开闭构件可靠地维持在闭塞位置。
在发明4中，其特征在于：包括：发明1～3中的任意一项所述的感光性板状构件吸附机构；在通过所述感光性板状构件吸附机构吸附在安放面上的感光性板状构件上记录图像的图像记录部件。
因为具有发明1～3中的任意一项所述的感光性板状构件吸附机构，所以用简单的构成，并且无论感光性板状构件的尺寸，都能可靠吸附感光性板状构件。
在台架的安放面上吸附感光性板状构件的状态下，能通过图像记录部件记录图像。
在发明5中，根据发明4，其特征在于：所述图像记录部件为对感光性板状构件照射激光，进行图像记录的激光记录部件。
这样，通过激光记录部件对感光性板状构件照射激光，能以高速和高精度记录图像。
附图说明
图1是表示本发明实施方式1的图像记录装置的外观的立体图。
图2是表示本发明实施方式1的图像记录装置的扫描仪的构成的立体图。
图3(A)是表示形成在感光材料上的曝光完毕区域的平面图，(B)是表示基于各曝光头的曝光区的排列的图。
图4是表示本发明实施方式1的曝光头概略构成的立体图。
图5(A)是表示图4所示的曝光头的构成的沿着光轴的副扫描方向的剖面图，(B)是(A)的侧面图。
图6是表示本发明实施方式1的曝光头的数字微反射镜器件(DMD)的构成的局部放大图。
图7(A)和(B)是用于说明本发明实施方式1的曝光头的DMD动作的说明图。
图8是表示具有本发明实施方式1的衬底吸附机构的台架的剖面图。
图9是表示本发明实施方式1的衬底吸附机构的剖面图，(A)是未安放衬底的状态，(B)是安放衬底的状态。
图10是表示本发明实施方式2的衬底吸附机构的剖面图，(A)是未安放衬底的状态，(B)是安放衬底的状态。
图11是表示本发明实施方式3的衬底吸附机构的剖面图。
图12是为说明用基于扫描仪的一次扫描把感光材料曝光的曝光方式的平面图。
图13(A)和(B)是为说明用基于扫描仪的多次扫描把感光材料曝光的曝光方式的平面图。
图中，
LD1～LD7-GaN类半导体激光器；102-图像记录装置；104-衬底吸附机构(感光性板状构件吸附机构)；150-衬底(感光性板状构件)；152-台架；152P-安放面；166-曝光头；172-吸附孔；176-气缸构件(移动构件)；178-活塞构件(开闭构件)；178T-顶端部(被按压部，移动部件)；182-压缩盘簧(施力部件，移动部件)；188-牵线(卷出装置)；204-衬底吸附机构(感光性板状构件吸附机构)；304-衬底吸附机构(感光性板状构件吸附机构)。
具体实施方式
在图8和图9中表示本发明实施方式1的衬底吸附机构104。此外，图1表示具有该衬底吸附机构104的图像记录装置102。
该图像记录装置102是所谓的平头型的图像记录装置，如图1所示，备有把感光性板状构件的一例即衬底150吸附保持在表面(安放面152P)上的台架152。在由四个脚部154支撑的板状底板156的上表面上设置有沿着台架移动方向延伸的两条导轨158。台架152配置为其长度方向向着台架移动方向，并且被支撑为能通过导轨158往返移动。而且，在该图像记录装置中设置有用于沿着导轨158驱动台架152的未图示的驱动装置，如后所述，由未图示的控制器进行驱动控制，从而变为在扫描方向的所需的移动速度。
在底板156的中央部，跨台架152的移动路线设置门160。コ字状的门160的端部分别固定在底板156的两个侧面上。隔着门160，在一方一侧设置扫描仪162，在另一方一侧设有检测衬底150的顶端和后端的多个(例如2个)检测传感器164。扫描仪162和检测传感器164分别安装在门160上，固定在台架152的移动路线的上方。另外，扫描仪162和检测传感器164连接在控制它们的未图示的控制器上，如后所述，在由曝光头166曝光时，控制为在所定的定时曝光。
此外，检测传感器164具有1次的发光时间极短的闪光灯(省略图示)，设定感光灵敏度，从而只在该闪光灯的发光时能进行摄像。
检测传感器164在台架152通过其正下方的摄像位置时，在所定的定时使闪光灯发光，通过接收来自该闪光灯的光的反射光，分别拍摄包含形成在衬底150上的对准标记的摄像范围。此外，检测传感器164能按照对准标记的位置等调整沿着宽度方向的位置。
此外，扫描仪162被支撑为能通过门160沿着扫描方向调整位置。据此，能在所定的范围内调整基于检测传感器164的摄像位置和基于扫描仪162的曝光位置的距离。
扫描仪162如图2和图3(B)所示，具有排列为m行n列(例如，3行5列)的近似矩阵状的多个曝光头166。在本例子中，根据与衬底150的宽度的关系，在第一行和第二行配置5个曝光头166，在第三行配置4个曝光头166，全体为14个。而且，当表示配置在第m行的第n列的各曝光头时，表示为曝光头166_mn。
基于曝光头166的曝光区168在图2中是以扫描方向为短边的矩形，并且对于头排列方向，以所定的倾斜角倾斜。而且，伴随着台架152的移动，在衬底150上，按各曝光头166形成带状的曝光完毕区域170。另外，当表示基于配置在第m行的第n列的各曝光头的曝光区时，表示为曝光区168_mn。
此外，如图3(A)和(B)所示，排列为线状的各行的曝光头分别在头排列方向错开所定间隔配置，从而使带状的曝光完毕区域170分别与相邻的曝光完毕区域170局部重叠。因此，第一行的曝光区168₁₁和曝光区168₁₂之间的无法曝光的部分能通过第二行的曝光区168₂₁和第三行的曝光区168₃₁曝光。
曝光头166₁₁～166_mn如图4、图5(A)以及(B)所示，按照图像数据，作为按各像素调制入射的光束的空间光调制元件，具有数字微反射镜器件(DMD)50。该DMD50连接在具有数据处理部和反射镜驱动控制部的未图示的控制器上。在控制器的数据处理部中，根据输入的图像数据，为各曝光头166生成驱动控制DMD50的应该控制的区域内的各微反射镜的控制信号。
此外，在反射镜驱动控制部中，根据由图像数据处理部生成的控制信号，按各曝光头166控制DMD50的各微反射镜的反射面的角度。
在DMD50的光入射一侧，按顺序配置：光纤的出射端部(发光点)沿着与曝光区168的长边方向对应的方向排列为一列的具有激光出射部的光纤阵列光源66；修正从光纤阵列光源66出射的激光，聚光到DMD上的透镜组67；把透射透镜组67的激光向DMD50反射的反射镜69。
透镜组67由把从光纤阵列光源66出射的激光变为平行光的一对组合透镜71、把变为平行光的激光的光量分布修正为均匀的一对组合透镜73，把修正了光量分布的激光聚光到DMD上的聚光透镜75构成。组合透镜73具有对于激光出射端的排列方向，靠近透镜光轴的部分把光束扩展，并且远离光轴的部分把光束收缩，并且对于与排列方向正交的方向，使光原封不动地通过的功能，把激光修正为光量分布均匀。
此外，在DMD50的光反射一侧，配置把由DMD50反射的激光在衬底150的扫描面(被曝光面)上成像的透镜组54、58。
在本实施方式中，从光纤阵列光源66出射的激光实质上放大到5倍后，各像素通过这些透镜组54、58设定为收缩到约5μm。
DMD50如图6所示，在SRAM(存储单元)60上，微小反射镜(微反射镜)62由支柱支撑，是把构成像素的多个(例如间隔13.68μm，102个×768个)微小反射镜排列为格子状而构成的反射镜器件。在各像素中，在最上部设置由支柱支撑的微反射镜62，在微反射镜62的表面蒸镀铝等反射率高的材料。而且，微反射镜62的反射率为90％以上。此外，在微反射镜62的正下方通过包含铰链和轭的支柱配置由通常的半导体存储器的生产线制造的硅栅的CMOS的SRAM单元60，全体构成为单片(一体型)。
如果对DMD50的SRAM单元60写入数字信号，则由支柱支撑的微反射镜62以对角线为中心，对于配置DMD50的衬底一侧在±α度(例如±10度)的范围中倾斜。图7(A)表示微反射镜62倾斜为工作状态的+α度的状态，图7(B)表示微反射镜62倾斜为不工作状态的-α度的状态。因此，通过按照图像信号，如图6所示那样控制DMD50的各像素的微反射镜62的倾斜，入射到DMD50的光反射到各微反射镜62的倾斜方向。
而且，在图6中把DMD50的一部分放大，表示微反射镜62被控制在+α度或-α度的状态的一例。各微反射镜62的工作不工作控制由连接在DMD50上的未图示的控制器进行。在由不工作状态的微反射镜62反射光束的方向配置有光吸收体(未图示)。
图8表示本实施方式的台架152。该台架152形成为中空的扁平箱状，上表面为安放衬底150的安放面152P。安放面152P的尺寸为即使是成为图像记录装置102的图像记录对象的最大衬底，也能安放的尺寸。下面，把在本实施方式的图像记录装置102中成为图像记录对象的最大尺寸的衬底称为“最大尺寸衬底”，把最小尺寸的衬底称为“最小尺寸衬底”。
在安放面152P上形成有多个吸附孔172(在本实施方式中，在台架移动方向为7个，在与它正交的台架宽度方向为7个的矩阵状，合计49个)。在台架152上通过管路174连接未图示的吸引装置(例如真空泵)，使台架152内为负压，并且能从吸附孔172吸引空气。当由安放在安放面152P上的衬底150覆盖着吸附孔172时，吸附衬底150。吸附孔172配置为覆盖能可靠吸引最大尺寸衬底的宽阔范围，并且即使是最小尺寸衬底，也成为能可靠吸引的面密度。
如图9(A)和(B)所示，在台架152内，与各吸附孔172分别对应，安装有底圆筒状的气缸构件176。在气缸构件176的侧面形成连通孔176H，气缸构件176的内部和外部(台架152内)连通着。
在气缸构件176内收藏有活塞构件178，它能在轴向移动，进行密封，使它们之间空气不会随便流通。气缸构件176的底板176B和活塞构件178的底面178B之间为弹簧室179，在该弹簧室179内，固定在底板176B上的压缩盘簧182使活塞构件178施力从安放面152P突出的方向(向上)。
活塞构件178具有安放面152P一侧的小直径部178S和气缸构件176的底板176B一侧的大直径部178L，如图9(A)所示，通过压缩盘簧182的施力力，小直径部178S的一部分从安放面152P突出。而如图9(B)所示，决定活塞构件178的长度，如果对抗压缩盘簧182的施力力，活塞构件178向下方移动，则小直径部178S的顶端178T与安放面152P成为一个面(或比安放面152P更进入气缸构件176内)。而且，压缩盘簧182的施力力(弹力)为在安放面152P上安放了衬底152时，通过作用于一个活塞构件178的负载，能充分压缩的程度。
此外，小直径部178S和大直径部178L如图9(A)所示，决定各自的长度，从而在小直径部178S从安放面152P突出的状态下，大直径部178L闭塞连通孔176H，如图9(B)所示，在小直径部178S的顶端178T与安放面152P成为一个面的状态下，通过小直径部178S开放连通孔176H。因此，大直径部178L闭塞连通孔176H的状态为活塞构件的闭塞位置，通过小直径部178S开放连通孔176H的状态为活塞构件178的开放位置。
在活塞构件178的中心，沿着轴向形成通气孔180，在小直径部178S上形成与通气孔180正交的通气孔182。通过这些通气孔，活塞构件178的外部以及活塞构件178和气缸构件176之间连通着。
下面说明本实施方式的作用。
为了在衬底150上记录图像，首先在台架152的安放面152P上安放衬底150。按照衬底150的尺寸，在活塞构件178的一部分或全部上作用衬底150的负载。
衬底150的负载不作用的活塞构件178如图9(B)所示，通过压缩盘簧182的施力力变为闭塞位置。因此，空气不会通过吸附孔172在台架152的内部和外部流通。
与此相对，在安放了衬底150的活塞构件178中，通过衬底150的负载(或输送安放衬底150时的按压力)，如图9(A)所示，抵抗压缩盘簧182的施力力按压，到达开放位置。另外，这时通过通气孔180、182，弹簧室179内的空气排出到外部(可以是台架152的内部，也可以是外部)，所以在活塞构件178的移动中不产生基于弹簧室179的空气压的阻力。
在该状态下，驱动未图示的吸引装置，使台架152的内部为负压。因为安放衬底150的区域的吸附孔172开放，所以通过基于负压的吸引力吸引衬底150。而衬底150的外侧的区域的吸附孔172由活塞构件178闭塞，所以不会从活塞构件172随便吸引空气。因此，例如即使使用小型的吸引装置时，也能可靠吸引衬底150。
此外，因为只有安放了衬底150的区域的吸附孔172被开放，所以无论衬底150的尺寸如何，都能在台架152的安放面152P上吸附衬底150。在台架152内没必要设置与衬底尺寸对应的吸附区或管道，所以结构不会变得复杂。
另外，在使台架152内为负压的状态下，台架152内的负压作用于活塞构件178，但是连通孔176H形成在气缸构件176的侧面，所以该负压作用于与活塞构件178的移动方向(上下方向)正交的方向。因此，受到负压的活塞构件178不会抵抗压缩盘簧182的施力力，无准备地向开放位置移动，可靠地维持在闭塞位置。
此外，位于开放位置的活塞构件178的顶端178T并不一定与安放面152P变为齐平(同一水平)面，与衬底150接触，即使顶端178T与衬底150变为非接触，也能吸附。
这样把衬底150吸附在安放面152P上的台架152，通过未图示的驱动装置，以一定速度沿着导轨158，从门160的上游一侧向下游一侧移动。
如果对准标记到达检测传感器164的摄像位置，未图示的控制器就使闪光灯发光，通过检测传感器164拍摄包含对准标记的摄像区域。这时，由检测传感器164取得的摄像信息向图像处理部输出，图像处理部把摄像信息变换为与对准标记的沿着扫描方向和宽度方向的位置对应的位置信息，把该位置信息向控制器输出。
控制器根据来自图像处理部的对准标记的位置信息，分别判断与一个描画区域对应设置的多个对准标记的位置，从这些对准标记的位置分别判断描画区域的沿着扫描方向和宽度方向的位置和描画区域对于扫描方向的倾斜量。
然后，控制器根据描画区域的沿着扫描方向的位置，计算对于描画区域的曝光开始的定时，并且根据描画区域的沿着宽度方向的为和相对于扫描方向的倾斜量，执行相对于与描画图案对应的图像信息的变换处理，把变换处理的图像信息存储在帧存储器内。这里，作为变换处理的内容，包含：以坐标原点为中心，使图像信息旋转的坐标变换处理；沿着与宽度方向对应的坐标轴使图像信息平行移动的坐标变换处理。进而根据需要，控制器执行与扫描区域的沿着宽度方向和扫描方向伸长量和缩小量对应，使图像信息伸长或缩小的变换处理。
而且，控制器与描画区域的顶端到达曝光位置的定时同步，把曝光开始信号向扫描仪控制部输出。据此，扫描仪控制部按每次多行读出存储在帧存储器中的图像信息，根据由数据处理部读出的图像信息，为各曝光头166生成控制信号，根据由反射镜驱动控制部生成的控制信号，为各曝光头166控制DMD50的各微反射镜的工作和不工作。
如果从光纤阵列光源66对DMD50照射激光，则DMD50的微反射镜为工作状态时反射的激光通过透镜组54、58成像在衬底150的被曝光面上。这样，从光纤阵列光源66出射的激光按像素工作和不工作，衬底150的描画区域以与DMD50的使用像素数大致相同的像素单位曝光。此外，衬底150通过以一定速度与台架152一起移动，衬底150通过扫描仪162向与台架移动方向相反的方向副扫描，为按各曝光头166每一个形成带状的曝光完毕区域170(参照图2和图3(A))。
图像记录结束后，如果解除台架152内的负压，变为大气压，则弹簧室179的空气通过通气孔180、182流入，所以如果从安放面152P除去衬底150，则通过压缩盘簧182的施力力，活塞构件178向闭塞位置移动，闭塞吸附孔172。
图10表示本发明实施方式2的衬底吸附机构204。在实施方式2中，图像记录装置的基本构成与实施方式1相同，所以省略详细的说明。下面，对于与实施方式1相同的构成要素、构件等，付与相同的符号，省略详细的说明。
在实施方式2中，气缸构件176的底板176B与台架152的底板150B为同一面，露出到台架152的外部。而且，代替实施方式1的通气孔180、182，在底板176B上形成通气孔206。
因此，在实施方式2中，能使弹簧室179的空气通过通气孔206与外部流通。在实施方式1中，需要两个通气孔180、182，而在实施方式2中，只用一个通气孔206，能使结构单纯化。
图11表示本发明实施方式3的衬底吸附机构304。在实施方式3中，代替实施方式1的气缸构件176、活塞构件178等，设置能闭塞吸附孔172的形状的阀体306。
阀体306通过铰链308可转动地安装在台架152上，通过转动，在闭塞吸附孔172的闭塞位置(在图11中用实线表示)和开放吸附孔172的开放位置(在图11中用双点划线表示的位置)之间移动。在铰链308上缠绕受扭螺旋弹簧310，把阀体306施力闭塞位置。
在阀体306上形成突起312，通过把突起312压到安放在安放面152P上的衬底150，阀体306抵抗扭转螺旋弹簧310的施力力，向开放位置移动。
因此，在实施方式3中，不安放衬底150的区域的吸附孔172由阀体306闭塞，安放衬底150的区域的吸附孔172开放。
而且，在所述中，作为空间光调制元件，说明了具有DMD的曝光头，但是除了这样的反射型空间光调制元件，也能使用透射型空间光调制元件(LCD)。例如，也能使用MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)类型的空间光调制元件(SLM；Spacial Light Modulator)、通过电光效应调制透射光的光学元件(PLZT元件)或液晶光闸(FLC)等液晶光闸阵列等MEMS类型以外的空间光调制元件。另外，MEMS是基于以IC制造工艺为基础的显微机械加工技术的微尺寸的传感器、执行元件(actuator)、把控制电路集成化的微细系统的总称，MEMS类型的空间光调制元件意味着由利用静电力的电机械动作驱动的空间光调制元件。也能使用排列多个光栅光阀(GLV)，构成二维状的器件。在使用这些反射型空间光调制元件(GLV)或透射型空间光调制元件(LCD)的构成中，除了激光器，也能使用灯等作为光源。
此外，在所述实施方式中，说明使用具有多个合波激光光源的光纤阵列光源的例子，但是激光装置并不局限于把合波激光光源阵列化的光纤阵列光源。例如，能使用设置了把从具备一个发光点的单一半导体激光器入射的激光出射的一条光纤的光纤光源阵列化的光纤阵列光源。
进而，也能使用把多个发光点排列为二维状的光源(例如，LD阵列，有机EL阵列等)。在使用这些光源的构成中，通过使各发光点与像素对应，能省略所述空间调制措施。
在所述实施方式中，如图12所示，说明了用基于扫描仪162的向X方向的一次扫描把衬底150的全面曝光的例子，但是如图13(A)和(B)所示，也可以通过扫描仪162把衬底150向X方向扫描后，使扫描仪162在Y方向移动1步，向X方向进行扫描，重复扫描和移动，用多次扫描把衬底150的全面曝光。
此外，在所述实施方式中，以所谓的平头型的图像记录装置为例进行了说明，但是作为本发明的图像记录装置，也可以是具有盘绕感光材料的磁鼓的所谓的外部磁鼓类型的图像记录装置。
所述图像记录装置适合用于印刷电路板(PWB；Printed Wiring Board)的制造工序的干·膜·抗蚀剂(DFR；Dry Film Resist)的曝光、液晶显示装置(LCD)的制造工序中的彩色滤光器的形成、TFT制造工序中的DFR的曝光、等离子体显示器面板(PDP)的制造工序中的DFR的曝光等用途。
此外，在所述图像记录装置中，也能使用通过曝光直接记录信息的光子模式感光材料、通过由曝光产生的热记录信息的热模式感光材料。当使用光子模式感光材料时，对激光装置使用GaN类半导体激光器、波长变换固体激光器等，在使用热模式感光材料时，对激光装置使用AlGaAs类半导体激光器(红外激光器)、固体激光器。
本发明采用所述构成，所以用简单的构成，即使是尺寸不同的衬底，也能有效地利用基于负压的吸引力，可靠地吸附在台架上。