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1、(10)申请公布号 CN 102950539 A(43)申请公布日 2013.03.06CN102950539A*CN102950539A*(21)申请号 201210499518.5(22)申请日 2012.11.28B24B 37/34(2012.01)(71)申请人天津市环欧半导体材料技术有限公司地址 300384 天津市滨海新区高新区华苑产业园区（环外）海泰东路12号(72)发明人李海龙 张雪囡 苏荣义 陈宗永郭红慧 陈强 邢玉军(74)专利代理机构天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211代理人李莉华(54) 发明名称磨片机研磨盘下砂口的改良构造(57) 摘要本发明提供一种磨片机研。
2、磨盘下砂口的改良构造，所述下砂口为垂直于水平面的通孔，位于所述研磨盘的上磨盘的磨盘基体内，所述上磨盘还包括位于所述磨盘基体下方且与所述磨盘基体下表面紧密贴合的磨盘面，所述磨盘面内部贯通有垂直于水平面的盘槽，所述下砂口的形状为圆锥形，且靠近所述磨盘面位置的内径小于远离所述磨盘面位置的内径，所述下砂口与所述磨盘面相贴处的内径与所述盘槽的宽度相等，所述下砂口正对所述盘槽。本发明的有益效果是：磨盘基体加固了原来的磨盘面易断位置，防止了质量隐患，延长了使用寿命，具有结构简单，加工成本低等优点。(51)Int.Cl.权利要求书1页 说明书2页 附图1页(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申。
3、请权利要求书 1 页 说明书 2 页 附图 1 页1/1页21.一种磨片机研磨盘下砂口的改良构造，所述下砂口为垂直于水平面的通孔，位于所述研磨盘的上磨盘的磨盘基体内，所述上磨盘还包括位于所述磨盘基体下方且与所述磨盘基体下表面紧密贴合的磨盘面，所述磨盘面内部贯通有垂直于水平面的盘槽，其特征在于：所述下砂口的形状为圆锥形，且靠近所述磨盘面位置的内径小于远离所述磨盘面位置的内径，所述下砂口与所述磨盘面相贴处的内径与所述盘槽的宽度相等，所述下砂口正对所述盘槽。2.根据权利要求1所述的改良构造，其特征在于：所述下砂口均匀排布于所述磨盘基体内。权 利 要 求 书CN 102950539 A1/2页3磨片机。
4、研磨盘下砂口的改良构造技术领域0001 本发明属于用于生产单晶硅片的研磨设备的主要磨具工件领域，尤其是涉及一种磨片机研磨盘下砂口的改良构造。背景技术0002 近年来，由于电子行业的飞速发展、产品需求的多元化，用于电子产品的最初原材料晶圆片也有新的提高，而硅片本身的技术参数，如表面粗糙度Ra/Rz、TTV、warp等，对硅片的要求也是越来越高。此外，用于硅片加工生产的原辅料的成本随着市场的发展呈递增趋势增长，研磨盘的消耗是生产成本的主要部分之一，为了最大限度地提高生产效率，降低生产成本，有必要对当前使用的设备部件进行结构改造。0003 研磨盘属于耗材类，其真正的使用寿命为一个随机出现的数值，生产。
5、中掌控难度很大，经过一段时间的研磨后带有盘槽的磨盘面厚度不断降低，当磨盘面与下砂口相接的位置磨至很薄时，由于下砂口处的磨盘面部分没有磨盘基体的支撑，磨盘面很容易断裂，存在质量隐患。为防止质量隐患，需提前停止使用仍可使用的研磨盘，从而造成了浪费。发明内容0004 本发明要解决的问题是提供一种磨片机研磨盘下砂口的改良构造，尤其适合用于提高硅片生产中研磨盘的寿命。0005 为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：一种磨片机研磨盘下砂口的改良构造，所述下砂口为垂直于水平面的通孔，位于所述研磨盘的上磨盘的磨盘基体内，所述上磨盘还包括位于所述磨盘基体下方且与所述磨盘基体下表面紧密贴合的磨盘面，所述磨盘。
6、面内部贯通有垂直于水平面的盘槽，所述下砂口的形状为圆锥形，且靠近所述磨盘面位置的内径小于远离所述磨盘面位置的内径，所述下砂口与所述磨盘面相贴处的内径与所述盘槽的宽度相等，所述下砂口正对所述盘槽。0006 本发明还可以采用以下技术措施：0007 所述下砂口均匀排布于所述磨盘基体内。0008 本发明具有的优点和积极效果是：上述技术方案将圆柱形的下砂口，更改成圆椎形，磨盘基体加固了原来的磨盘面易断位置，防止了质量隐患，延长了使用寿命，具有结构简单，加工成本低等优点。附图说明0009 图1是改良前上磨盘剖面图0010 图2是改良后上磨盘剖面图0011 图中：0012 1、改良前下砂口 2、磨盘基体 3。
7、、磨盘面0013 4、盘槽 5、磨盘面易断位置 6、下砂口说 明 书CN 102950539 A2/2页4具体实施方式0014 如图1所示，改良前下砂口1为垂直于水平面的圆柱形通孔，均匀排布于研磨盘的上磨盘的磨盘基体2内，上磨盘还包括位于磨盘基体2下方且与磨盘基体2下表面紧密贴合的磨盘面3，磨盘面3内部贯通有垂直于水平面的盘槽4，下砂口6的中心轴线与盘槽4的中心轴线重合。0015 如图2所示，本发明提供一种磨片机研磨盘下砂口的改良构造，下砂口6的形状为圆锥形，且靠近磨盘面3位置的内径小于远离磨盘面3位置的内径，下砂口6与磨盘面3相贴处的内径与盘槽4的宽度相等，下砂口6正对盘槽4。下砂口6均匀排。
8、布于磨盘基体2内。0016 本实例的工作过程：研磨时，不断有磨料由下砂口6注入至磨盘面3，经盘槽4流至上下磨盘之间，在上下磨盘相对运动的过程中，磨料微粒在工件表面靠磨盘带动滚动，依靠磨料对工件进行磨削以达到研磨目的。运用本发明的下砂口6的改良构造以后，磨盘面3完全紧贴磨盘基体2，即便达到使用极限，磨盘面3变薄，磨盘基体2能够加固改良前的磨盘面易断位置5，防止了质量隐患。因能够避免潜在的质量风险，故磨盘不必提前报废，延长了其使用寿命。0017 以上对本发明的一个实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本发明的较佳实施例，不能被认为用于限定本发明的实施范围。凡依本发明申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本发明的专利涵盖范围之内。说 明 书CN 102950539 A1/1页5图1图2说 明 书 附 图CN 102950539 A。