一种单晶炉炉盖.pdf

本发明涉及一种单晶炉炉盖，包括炉盖本体，所述的炉盖本体包括外炉盖和内炉盖，炉盖上设有观察窗；在所述的外炉盖与内炉盖上以炉盖本体的中心为圆心开设有一个圆环开口，圆环开口处的内外炉盖之间焊接形成凹槽，圆环开口与凹槽组合形成十字形圆环滑道；在十字形圆环滑道上设置一个与之相应的十字形圆环，两者滑动连接；所述的观察窗包括有视窗和视窗筒体，所述十字形圆环的竖直方向上设有与视窗筒体大小一致的螺纹孔，所述视窗筒体螺旋连接在所述的十字形圆环上。观察窗设置在与T形圆环开口滑动连接的T形圆环上，使得观察窗可以以炉盖中心为圆心作360度的旋转，全方位地观察单晶炉内的晶体的生长情况。

权利要求书
1.  一种单晶炉炉盖，包括炉盖本体（1），所述的炉盖本体（1）包括外炉盖（2）和内炉盖（3），炉盖上设有观察窗（9），其特征在于：在所述的外炉盖（2）与内炉盖（3）上以炉盖本体（1）的中心为圆心开设有一个圆环开口，圆环开口处的内外炉盖之间焊接形成凹槽，圆环开口与凹槽组合形成十字形圆环滑道（4）；在十字形圆环滑道（4）上设置一个与之相应的十字形圆环（5），十字形圆环（5）与十字形圆环滑道（4）滑动连接，且在两者之间设有密封圈（6）；所述的观察窗（9）包括有视窗和视窗筒体（7），所述十字形圆环（5）的竖直方向上设有与视窗筒体（7）大小一致的螺纹孔，所述视窗筒体（7）螺旋连接在所述的十字形圆环（5）上，两者之间还设有密封垫圈（8）。

2.  根据要求1所述的一种单晶炉炉盖，其特征在于：所述的十字形圆环（5）与十字形圆环滑道（4）的上端与下端平齐。

3.  根据要求1所述的一种单晶炉炉盖，其特征在于：所述的视窗筒体（7）的直径小于或等于十字形圆环（5）的竖直部分的径向长度。

说明书一种单晶炉炉盖
技术领域
本发明涉及机械设备技术领域，特别涉及一种单晶炉炉盖。
背景技术
目前使用的单晶炉的炉盖基本都设有观察窗，但观察窗都是与炉盖固定在一起的，无法全方位地观察单晶炉内的单晶的生长情况，若无法及时调整相应的参数，将会影响晶体的生产质量。因此，如何能够全面的观察单晶炉内的单晶完整的生成情况是一个值得关注的问题。
发明内容
针对上述问题，本发明的目的是提供一种单晶炉炉盖，提供360度的全方位的观察视角。
实现本发明的技术方案如下：
一种单晶炉炉盖，包括炉盖本体，所述的炉盖本体包括外炉盖和内炉盖，炉盖上设有观察窗；在所述的外炉盖与内炉盖上以炉盖本体的中心为圆心开设有一个圆环开口，圆环开口处的内外炉盖之间焊接形成凹槽，圆环开口与凹槽组合形成十字形圆环滑道；十字形圆环滑道上设置一个与之相应的十字形圆环，十字形圆环与十字形圆环滑道滑动连接在，且在两者之间设有密封圈；所述的观察窗包括有视窗和视窗筒体，所述十字形圆环的竖直方向上设有与视窗筒体大小一致的螺纹孔，所述视窗筒体螺旋连接在所述的十字形圆环上，两者之间还设有密封垫圈。
所述的十字形圆环与十字形圆环滑道的上端与下端平齐。
所述的视窗筒体的直径小于或等于十字形圆环的竖直部分的径向长 度。
本发明的有益效果是：观察窗设置在与十字形圆环滑动连接的十字形圆环滑道上，使得观察窗可以以炉盖中心为圆心作360度的旋转，全方位地观察单晶炉内的晶体的生长情况；密封圈和密封垫圈增加炉盖的密封效果。
附图说明
图1为本发明的主视图；
图2为本发明的俯视图；
图3为本发明的剖视图；
附图中，1为炉盖本体，2为外炉盖，3为内炉盖，4为十字形圆环滑道，5为十字形圆环，6为密封圈，7为视窗筒体，8为密封垫圈，9为观察窗。
具体实施方式
下面结合附图对本发明进行进一步说明；
参见图1所示，一种单晶炉炉盖，包括炉盖本体1，所述的炉盖本体1包括外炉盖2和内炉盖3，炉盖上设有观察窗9；在所述的外炉盖2与内炉盖3上以炉盖本体1的中心为圆心开设有一个圆环开口，圆环开口处的内外炉盖之间焊接形成凹槽，圆环开口与凹槽组合形成十字形圆环滑道4；在十字形圆环滑道4上设置一个与之相应的十字形圆环5，十字形圆环5与十字形圆环滑道4滑动连接，且在两者之间设有密封圈6；所述的观察窗9包括有视窗和视窗筒体7，所述十字形圆环5的竖直方向上设有与视窗筒体7大小一致的螺纹孔，所述视窗筒体7螺旋连接在所述的十字形圆 环5上，两者之间还设有密封垫圈8。
所述的十字形圆环5与十字形圆环滑道4的上端与下端平齐。
所述的视窗筒体7的直径小于或等于十字形圆环5的竖直部分的径向长度。
安装时，先在筒体7上套上密封垫圈8，将观察窗9螺旋安装于十字形圆环5上；然后在十字形圆环5上套上密封圈6，旋紧旋钮。密封圈6和密封垫圈8增加炉盖的密封效果。观察窗9设置在与十字形圆环滑道4滑动连接的十字形圆环5上，使得观察窗9可以以炉盖中心为圆心作360度的旋转，全方位地观察单晶炉内的晶体的生长情况。
本发明并不局限于所述的实施例，本领域的技术人员在不脱离本发明的精神即公开范围内，仍可作一些修正或改变，故本发明的权利保护范围以权利要求书限定的范围为准。