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蒸发设备包括坩埚体、加热部、喷嘴部和多个隔热板。在坩埚体中容纳沉积材料。加热部蒸发容纳于坩埚体中的沉积材料。喷嘴部具有至少一个喷孔，沉积材料通过该喷孔喷射。多个隔热板被设置在坩埚体内以将坩埚体划分为多个容纳空间，并且分隔板具有开口，容纳空间通过开口而彼此相通。

权利要求书
1.  一种蒸发设备，包括：
坩埚体，配置成在其中容纳沉积材料；
加热部，配置成蒸发容纳在所述坩埚体中的所述沉积材料；
喷嘴部，配置成具有至少一个喷孔，所述沉积材料通过所述喷嘴部喷射；以及
多个分隔板，设置在所述坩埚体内部以将所述坩埚体分为多个容纳空间，所述多个分隔板具有开口，所述容纳空间通过所述开口而彼此相通。

2.  如权利要求1所述的蒸发设备，其中，所述分隔板和所述坩埚体具有不同的热导率。

3.  如权利要求2所述的蒸发设备，其中，多个所述分隔板具有不同的热导率。

4.  如权利要求3所述的蒸发设备，其中，
多个所述分隔板包括第一分隔板和第二分隔板，所述第一分隔板具有低于所述坩埚体的第一热导率的第二热导率，所述第二分隔板具有高于所述第一热导率的第三热导率。

5.  如权利要求1所述的蒸发设备，其中，每个所述分隔板包括：
第一表面，配置成具有第一热导率；以及
第二表面，配置成具有与所述第一热导率不同的第二热导率，其中所述第二表面与所述第一表面相对。

6.  如权利要求1所述的蒸发设备，其中，每个所述分隔板具有的开口的大小或数量与其它分隔板不同。

7.  如权利要求1所述的蒸发设备，其中，所述分隔板被设置成可附接至所述坩埚体并与所述坩埚体可分开。

8.  如权利要求1所述的蒸发设备，其中，所述坩埚体包括钛，所述分隔板包括铜。

9.  如权利要求1所述的蒸发设备，还包括：
安装在所述坩埚体的侧部处的隔热板。

10.  如权利要求1所述的蒸发设备，其中，所述坩埚体的底部表面被形成为具有不同高度。

11.  如权利要求10所述的蒸发设备，其中，位于所述坩埚体的边缘部分的底部表面被形成为比位于所述坩埚体的中心部分的底部表面高。

说明书蒸发设备
技术领域
本发明的一个方面涉及蒸发设备。
背景技术
在显示装置中，有机发光显示器（OLED）使用通过电子和空穴的复合而生成光的有机发光二极管来显示图像。OLED具有快速响应速度且以低功耗驱动。因此，OLED作为下一代显示装置而备受瞩目。
通常，为了制造OLED，应执行在基板上形成由有机材料制成的薄膜的沉积工艺。如果装载于坩埚中的沉积材料被加热，则被蒸发的沉积材料的蒸汽穿过预定的掩模图案而安装在基板上。
发明内容
根据本发明的一个方面，提供了一种蒸发装置，其包括坩埚体、加热部、喷嘴部以及多个分隔板，其中坩埚体配置成在其中容纳沉积材料，加热部配置成蒸发容纳在坩埚体中的沉积材料，喷嘴部配置成具有至少一个喷孔，沉积材料通过喷嘴部喷射，以及多个分隔板设置在坩埚体内部以将坩埚体分为多个容纳空间，多个分隔板具有开口，容纳空间通过开口而彼此相通。
分隔板和坩埚体可以具有不同的热导率。
多个分隔板可以具有不同的热导率。
多个分隔板可以包括：第一分隔板和第二分隔板，第一分隔板具有低于坩埚体的第一热导率的第二热导率，第二分隔板具有高于第一热导率的第三热导率。
各个分隔板可以包括：配置成具有第一热导率的第一表面、以及配置成具有不同于第一热导率的第二热导率的第二表面，第二表面与第一表面相对。
每个分隔板具有的开口的大小或数量可与其它分隔板不同。
分隔板可以被设置成可附接至坩埚体/与坩埚体可分开。
坩埚体可以包括钛，分隔板可以包括铜。
蒸发设备还可以包括：安装在坩埚体的侧部处的隔热板。
坩埚体的底部表面可以形成为具有不同高度。
位于坩埚体的边缘部处的底部表面可以形成为比位于坩埚体的中心部处的底部表面高。
附图说明
将在下文参照附图更全面地描述示例性实施方式；然而，示例性实施方式可以以不同的形式实现并且不应被解释为限制于本文所提及的实施方式。相反，提供这些实施方式以使本公开是彻底和完整的，并且将示例性实施方式的范围充分传达给本领域技术人员。
在附图中，为了清楚地图示可放大尺寸。应该理解，当一个元件被称为位于两个元件“之间”时，该元件可以是两个元件之间的唯一元件，或者还可存在一个或多个中间元件。在全文中，相同的参考标记指示相同的元件。
图1是根据本发明的第一实施方式的蒸发设备的示意性截面图。
图2是图1的蒸发设备的平面图。
图3是示出设置在坩埚体内的分隔板的图。
图4A、图4B、图4C和图4D是示出分隔板的各实施方式的图。
图5是示出坩埚体的另一实施方式的截面图。
具体实施方式
在以下详细描述中，通过示例的方式仅示出并描述本发明的某些示例性实施方式。如本领域技术人员应理解，在不背离本发明的精神或范围的情况下可以以多种不同的方式修改所描述的实施方式。因此，附图和描述本质上被视为说明性的，而非限制性的。
图1是根据本发明的第一实施方式的蒸发设备的示意性截面图。图2是图1的蒸发设备的平面图。
该实施方式的蒸发设备例如可应用为用于制造其中的装置层通过沉积由液体或固体沉积材料所产生的蒸汽或蒸汽的反应产物而形成的半导体装置（诸如存储器或逻辑电路）的气相沉积设备，或者可应用为用于制造诸如有机发光二极管的显示装置的气相沉积设备。然而，这仅为示例性的，蒸发设备可根据沉积材料而应用为其他光电装置，例如电化学电池、光导电池、光电阻、光电开关、光电晶体管和光电管。
虽然在该实施方式中仅描述具有线性源结构的蒸发设备，但是本发明不限于此。在另一实施方式中，蒸发设备可具有点式源结构或区域式源结构。
参照图1和图2，蒸发设备可包括坩埚体10、加热部20、喷嘴部30、分隔板40以及隔热板50。
坩埚体10具有用于在其中容纳沉积材料SM的空间。该实施方式的坩埚体10为具有矩形容器形状的线性源，其中在一个方向上布置有多个单元容纳空间（或袋）。沉积材料SM可包括高分子有机材料、低分子有机材料、聚合物、有机材料等。沉积材料SM可以处于固态或液态。容纳在坩埚体10中的沉积材料SM可具有在不执行工艺的同时填充大量沉积材料SM的结构，以使该工艺可执行较长时间。在另一实施方式中，在执行工艺的同时可从坩埚体10的外部供给沉积材料SM。
一部分坩埚体10或整个坩埚体10的材料可选自诸如不锈钢、铝、钛或铜的金属材料、通过其可观察内部的诸如石英或玻璃的材料、以及具有热绝缘效果的诸如陶瓷的材料中的任一种，或者它们的组合。然而，本发明不限于此。
加热部20是用于蒸发容纳在坩埚体10中的沉积材料SM的加热装置。加热部20置于坩埚体10内部或者附接在坩埚体10的外表面。不特别限制加热部20的种类。例如，加热部20可以是加热线圈或加热片。可替换地，加热部20可以是另一种加热装置，诸如辐射加热器、循环流体加热器或感应加热器。
喷嘴部30具有至少一个喷孔NH，被蒸发的沉积材料SM穿过喷孔NH喷射。喷嘴部30可配置成附接至坩埚体10/从坩埚体10分开。喷嘴部30可具有以下结构，即，喷孔NH向上形成在覆盖坩埚体10的上端的板中以使 被蒸发的沉积材料SM穿过其喷出。喷孔NH可以设置有分别对应于容纳空间SA1至SA4的多个喷孔。可替换地，可以只形成一个喷孔NH。可以线性地布置所有喷孔NH。喷孔NH的尺寸和/或喷孔NH之间的间隔可以是均匀的，或者可根据喷孔NH的位置而改变。可通过考虑工艺的种类和沉积材料SM的性质适当地使用喷嘴部30。
分隔板40设置在坩埚体10的内部以将坩埚体10分为多个容纳空间SA1至SA4。分隔板40阻隔坩埚体10的内部空间而将坩埚体10划分为容纳空间SA1至SA4，并且可在坩埚体10的两个侧壁中分别形成沟槽，以使分隔板40通过沟槽插入坩埚体10中。可以对被划分的容纳空间SA1至SA4的尺寸和数量进行多种修改。例如，容纳空间SA1至SA4的尺寸可彼此相等或者彼此不同。
分隔板40包括开口OA以允许容纳空间SA1至SA4彼此相连。容纳空间SA1至SA4不是完全密封的，而是通过开口OA彼此相通。容纳于任一个容纳空间中的沉积材料SM可穿过开口OA移动至另一相邻的空间。在沉积工艺中，沉积材料SM不是均匀地消耗，而是可根据坩埚体10的内部位置不同地消耗。在这种情况下，沉积材料SM穿过开口OA移动至相对快速地消耗沉积材料SM的容纳空间中。
可以通过改变开口OA的尺寸或数量来控制沉积材料SM的移动量。为此，具有不同尺寸和数量的分隔板40可被预先设置成选择性地布置在坩埚体10中。例如，具有大尺寸开口OA或大量开口OA的分隔板可布置在具有相对较大消耗量的沉积材料SM的容纳空间中，而具有小尺寸开口OA或少量开口OA的分隔板可布置在具有相对较小消耗量的沉积材料SM的容纳空间中。
可通过在坩埚体10中设置具有不同热导率的分隔板40，来改进容纳空间SA1至SA4之间的沉积材料SM的不同消耗。此处，分隔板40和坩埚体10可以具有不同的热导率。例如，分隔板40可包括第一分隔板42以及第二分隔板41和43，其中，第一分隔板42具有低于坩埚体10的第一热导率的第二热导率，第二分隔板41和43具有高于第一热导率的第三热导率。因此，第一分隔板42可位于具有大消耗量的沉积材料SM的第二容纳空间SA2与第三容纳空间SA3之间，第二分隔板41可位于具有小消耗量的沉积 材料SM的第一容纳空间SA1与第二容纳空间SA2之间，第二分隔板43可位于第三容纳空间SA3与具有小消耗量的沉积材料SM的第四容纳空间SA4之间。坩埚体10可以包括钛，分隔板40可以包括具有高热导率的铜。
如此，具有不同开口OA或不同热导率的分隔板40被设置在坩埚体10中，以便能够改进容纳空间SA1至SA4之间的沉积材料SM的不同消耗。
隔热板50可设置在坩埚体10的侧部处。例如，当在检测到坩埚体10的温度均匀性后的坩埚体10的中心部的温度较高时，具有隔热板50形式的结构可安装在中心部的一侧表面上。在这种情况下，可以通过改变隔热板50的尺寸、材料、厚度和形状来改善坩埚体10的热梯度。
图3是示出设置在坩埚体内的分隔板的图。图4A、图4B、图4C和图4D是示出分隔板的实施方式的图。图5是示出坩埚体的另一实施方式的截面图。
参照图3，分隔板40可设置成可附接至坩埚体10/可从坩埚体10分开。在喷嘴部30与坩埚体10分离的情况下，分隔板40可穿过坩埚体10的开放的上端插入至坩埚体10中或者分离至坩埚体10的外部。在确认出容纳空间SA1至SA4之间的沉积材料SM的不同消耗后，具有大尺寸开口OA或大量开口OA的分隔板或者具有高热导率的分隔板设置在具有相对较大消耗量的沉积材料SM的容纳空间中，而具有小尺寸开口OA或少量开口OA的分隔板或者具有低热导率的分隔板设置在具有相对较小消耗量的沉积材料SM的容纳空间中。
参照图4A、图4B和图4C，形成在分隔板中的开口OA的数量和形状可具有多种实施方式。在图4A所示的分隔板40a的情况下，以开放的方式形成分隔板40a的上端的一部分，由此增加热扩散。在图4B所示的分隔板40b的情况下，除了形成在其下端处的开口OA之外，分隔板40b具有气密性形状，以使得容纳空间之间的热扩散相比于上述分隔板40a而缓慢地执行。在图4C所示的分隔板40c的情况下，开口OA可整体形成在分隔板40c中。在这种情况下，分隔板40c可以具有与上述分隔板40a和40b的热扩散的中间程度对应的热扩散度。
在图4D所示的分隔板40d的情况下，分隔板40d具有以下结构，即，具有不同热导率的材料彼此粘合。具体地，该实施方式的分隔板40d可以 配置成包括具有第一热导率的第一表面401和具有不同于第一热导率的第二热导率的第二表面402，第二表面402与第一表面401相对。例如，第一表面401可设置成面对具有大消耗量的沉积材料SM的容纳空间，热导率比第一表面401低的第二表面402可设置成面对具有相对较小消耗量的沉积材料SM的容纳空间。
参照图5，坩埚体10内的底部表面11可形成为具有不同高度。例如，当沉积材料SM在坩埚体10的中心部处的消耗量较大而沉积材料SM在坩埚体10的边缘部处的消耗量较小时，位于坩埚体10的边缘部处的底部表面11可形成得比位于坩埚体10的中心部处的底部表面11更高。因此，沉积材料SM主动地移动到具有较大消耗量的沉积材料SM的中心部，由此改善沉积材料SM的不同消耗。
通过总结和回顾的方式，沉积材料的蒸发优选在沉积工艺中完全均匀地在坩埚内进行。然而，存在可能出现不是均匀消耗而是根据坩埚的内部位置不同消耗沉积材料的情况。例如，当沉积材料堆积在坩埚的边缘部处时，该沉积材料在适当温度下没有耗尽。此外，当沉积材料的一部分在从气态改变至液态期间损失了能量时，沉积材料会进一步堆积。在这种情况下，会出现诸如沉积材料的变性、热损失、沉积效率恶化等问题。
根据本发明，蒸发设备具有多个分隔板，分隔板被设置在坩埚体内以将坩埚体分为多个容纳空间，并且分隔板具有开口，容纳空间通过开口而彼此相通，由此防止沉积材料的不同消耗。
本文中已公开了示例性实施方式，虽然采用了特定术语，但是特定术语仅被用于且被解释为通用和描述性含义，而不是限制的目的。在一些情况下，对提交本申请领域中的技术人员显而易见的是，除非另有明确说明，结合特定实施方式所描述的特征、特性和/或元件可单独使用，或者与结合其他实施方式所描述的特征、特性和/或元件一同使用。因此，本领域技术人员应理解，在不背离所附权利要求中阐述的本发明的精神和范围的情况下，可以对形式和细节进行各种改变。