光学膜.pdf

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1、10申请公布号CN104284923A43申请公布日20150114CN104284923A21申请号201380024318722申请日20130507102012004788020120507KRC08J5/18200601C08K5/00200601G02B5/02200601G02F1/1336320060171申请人SK新技术株式会社地址韩国首尔72发明人金源晔金明来金奕钱赵容均林珉贞曹永民李承彦郭孝信74专利代理机构北京路浩知识产权代理有限公司11002代理人谢顺星张晶54发明名称光学膜57摘要本发明提供一种用于光学补偿的光学膜，其中加入添加剂，使其具有在高温和高湿度下的良好稳定性。

2、、更好的色度、更高的雾度和更好的耐湿性以及小厚度方向相位差RTH。30优先权数据85PCT国际申请进入国家阶段日2014110786PCT国际申请的申请数据PCT/KR2013/0039322013050787PCT国际申请的公布数据WO2013/168950KO2013111451INTCL权利要求书3页说明书12页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书3页说明书12页10申请公布号CN104284923ACN104284923A1/3页21一种光学膜，其包含选自由下面的化学式1表示的化合物中的至少一种，用作添加剂,化学式1在化学式1中，X表示O、S或NR5，Y表示O、S。

3、、NR25或化学键，R1、R3、R5和R25各自独立地选自氢、C1C10烷基、C6C20芳基、C1C20烷氧基、C3C20环烷基、C2C7烯基、C1C10烷氧基羰基C1C10烷基、羰基C1C10烷基、C3C20杂环烷基和C4C20杂芳基，R2和R4各自独立地选自氢、C1C10烷基、C6C20芳基、C3C20环烷基、羰基C1C10烷基、C3C20杂环烷基和C4C20杂芳基，R1、R2、R3和R4不同时是氢，以及R1、R2、R3、R4、R5和R25的烷基、芳基、烷氧基、环烷基、烯基、烷氧基羰基、羰基芳基、杂环烷基和杂芳基可进一步由选自C1C7烷基、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基C6C20芳基、C2C。

4、7烯基、C3C20环烷基、C3C20杂环烷基或C4C20杂芳基中的至少一种来取代。2如权利要求1所述的一种光学膜，其中由化学式1表示的所述化合物选自下面的化学式2、3或4,化学式2化学式3化学式4权利要求书CN104284923A2/3页3在化学式中，R11和R21各自独立的选自氢、C1C5烷基、C6C10芳基、C3C20杂芳基、C3C10杂环芳基和C4C10杂芳基，R31选自氢、C1C5烷基，C6C10芳基，和C1C10烷氧基，R41选自氢，C1C5烷基，羰基C1C5烷基和C6C10芳基，以及R11、R21、R31和R41的烷基，芳基，杂芳基，烷氧基，羰基烷基，杂环芳基和杂芳基可进一步被选自。

5、C1C7烷基，卤素，硝基、氰基、羟基和氨基中的至少一种取代。3如权利要求2所述的一种光学膜，其中化学式2或3中的R11、R21和R31各自独立的选自氢、C1C5烷基、C3C20环烷基、C3C20杂环烷基、C6C10芳基和C6C10杂芳基，R11、R21和R31的烷基、环烷基、杂环烷基、芳基和杂芳基进一步被选自C1C7烷基，卤素，硝基、氰基、羟基和氨基中的至少一种取代，R11、R21和R31中的至少两种包括选自C3C20杂芳基、C6C20芳基、C3C20杂环芳基和C4C20杂芳基中的环形取代基。4如权利要求2所述的一种光学膜，其中由化学式2或3表示的所述化合物选自下面的化学式，5如权利要求2所述。

6、的一种光学膜，其中由化学式2、3或4表示的所述化合物选自下面的化学式，6如权利要求1所述的一种光学膜，其中，其中RE和RTH满足下式I和II，I0RE58710II10RTH58710在式中，RE表示波长NM下的面内相位差单位NM，RTH表示波长NM下的厚度方向相位差单位NM。7如权利要求1所述的一种光学膜，其中所述光学膜是乙酸纤维素膜，其按照ASTMD81791测定的取代度为2730。权利要求书CN104284923A3/3页48一种光学膜组合物，其包含以基体树脂100重量份计为120重量份的用作添加剂的选自由下面的化学式1表示的化合物中的至少一种，化学式1在化学式1中，X是O、S或NR5，。

7、Y是O、S、NR25或化学键，R1、R3、R5和R25各独立地选自氢、C1C10烷基、C6C20芳基、C1C20烷氧基、C3C20环烷基、C2C7烯基、C1C10烷氧基羰基C1C10烷基、羰基C1C10烷基、C3C20杂环烷基和C4C20杂芳基，R2和R4各独立地选自氢、C1C10烷基、C6C20芳基、C3C20环烷基、羰基C1C10烷基、C3C20杂环烷基和C4C20杂芳基，R1、R2、R3和R4不同时是氢，以及R1、R2、R3、R4、R5和R25的烷基、芳基、烷氧基、环烷基、烯基、烷氧基羰基、羰基芳基、杂环烷基和杂芳基可进一步由选自C1C7烷基、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基C6C20芳基、。

8、C2C7烯基、C3C20环烷基、C3C20杂环烷基或C4C20杂芳基取代。9如权利要求8所述的一种光学膜组合物，其还包含作为添加剂的，选自抗紫外线剂、微粒、增塑剂、劣化抑制剂、剥离剂、红外吸收剂和光学各异向性控制中的至少一种或两种。10一种光学结构，其采用如权利要求17中任一项所述的光学膜的光学结构。11如权利要求10所述的光学结构，其中所述光学结构是光学补偿压膜、硬涂层膜、防眩光膜、低反射膜、抗反射膜、用于立体图像的滤光器或偏振片。12一种采用权利要求17中任一项所述的光学膜制造的显示装置。13一种采用权利要求1011所述的光学结构制造的显示装置。权利要求书CN104284923A1/12页。

9、5光学膜技术领域0001本发明涉及一种用于光学补偿的光学膜，更具体而言，涉及厚度方向相位差RTH小的光学膜。0002此外，本发明涉及使用该光学膜的光学结构和显示装置。背景技术0003已广泛用作光学膜的乙酸纤维素膜，由于其高强度和阻燃性，已用于各种各样的照片或光学材料中。该乙酸纤维素膜的光学各向异性低于其它聚合物膜，因此具有相对低的相位差。因此这种乙酸纤维素膜已用于极化板等。0004最近，对具有更高功能如图像质量改善的液晶显示装置的需求增加，而且还需要用于作为形成液晶显示装置的材料的极化板的乙酸纤维素膜以满足更高的功能。具体而言，需要在面内切换IPS模式液晶显示装置中，确定通过改善色偏和对比率的。

10、方法提供低光学各向异性的乙酸纤维素膜RE膜面内相位差，RTH膜厚度方向相位差。0005韩国专利特开申请号20080106109专利文献1公开了允许减小厚度方向相位差的化合物，但主要公开异丁烯酸基聚合物的加入和波长色散调节器。日本专利特开申请号2011089005专利文献2公开了通过加入柠檬酸衍生物改善耐湿性的技术，但是没有公开减小厚度方向相位差。0006因此，需要研发一种乙酸纤维素膜，使其在厚度方向相位差充分减小的同时，改善膜的雾度HAZE、耐热性和耐湿性。0007相关技术文献0008专利文献1韩国专利特开申请号200801061090009专利文献2日本专利特开申请号2011089005发明。

11、内容0010技术问题0011本发明的一个目的是提供光学膜，具体地，提供一种厚度方向相位差小的光学膜。更具体而言，本发明是要提供可用于IPS模式液晶显示装置且其中IPS模式液晶显示装置的色偏和对比率改善的光学补偿膜。0012此外，本发明的另一个目的是提供满足这种光学特征的添加剂。0013此外，本发明的另一个目的是提供使用该光学膜的光学结构和显示装置。0014技术方案0015在一个一般方面，提供一种光学膜，包括0016选自由下面的化学式1表示的化合物中的至少一种，用作添加剂。0017化学式10018说明书CN104284923A2/12页60019在化学式1中，X表示O、S或NR5，Y表示O、S、。

12、NR25或化学键，R1、R3、R5和R25各自独立地选自氢、C1C10烷基、C6C20芳基、C1C20烷氧基、C3C20环烷基、C2C7烯基、C1C10烷氧基羰基C1C10烷基、羰基C1C10烷基、C3C20杂环烷基和C4C20杂芳基，R2和R4各自独立地选自氢、C1C10烷基、C6C20芳基、C3C20环烷基、羰基C1C10烷基、C3C20杂环烷基和C4C20杂芳基，R1、R2、R3和R4不同时是氢，以及0020R1、R2、R3、R4、R5和R25的烷基、芳基、烷氧基、环烷基、烯基、烷氧基羰基、羰基芳基、杂环烷基和杂芳基可进一步由选自C1C7烷基、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基C6C20芳基、。

13、C2C7烯基、C3C20环烷基、C3C20杂环烷基或C4C20杂芳基中的至少一种来取代。0021在另一一般方面，提供一种光学膜组合物，包含以基体树脂100重量份计为120重量份的用作添加剂的选自由下面的化学式1表示的化合物中的至少一种。0022化学式100230024在化学式1中，X表示O、S或NR5，Y表示O、S、NR25或化学键，R1、R3、R5和R25各自独立地选自氢、C1C10烷基、C6C20芳基、C1C20烷氧基、C3C20环烷基、C2C7烯基、C1C10烷氧基羰基C1C10烷基、羰基C1C10烷基、C3C20杂环烷基和C4C20杂芳基，R2和R4各自独立地选自氢、C1C10烷基、C。

14、6C20芳基、C3C20环烷基、羰基C1C10烷基、C3C20杂环烷基和C4C20杂芳基，R1、R2、R3和R4不同时是氢，以及0025R1、R2、R3、R4、R5和R25的烷基、芳基、烷氧基、环烷基、烯基、烷氧基羰基、羰基芳基、杂环烷基和杂芳基可进一步由选自C1C7烷基、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基C6C20芳基、C2C7烯基、C3C20环烷基、C3C20杂环烷基或C4C20杂芳基中的至少一种来取代。0026在另一一般方面，提供使用该光学膜的光学结构和显示装置。0027有益效果0028本发明的光学膜可具有小厚度方向相位差。0029另外，在本发明的光学膜中，由于小相位差可在IPS模式显示装置中。

15、改善视角、对比率和色偏。说明书CN104284923A3/12页70030最佳模式0031本发明涉及具有良好光学性质的光学膜，具体的，涉及具有良好光学性质的光学膜，该光学膜的对比率的面内相位差为010NM并且厚度方向相位差为1010NM，并且色偏改善。0032更具体而言，本发明涉及一种光学膜，其中RE和RTH满足以下公式I和II。0033I0RE587100034II10RTH587100035在上述公式中，RE表示波长NM下的面内相位差单位NM，RTH表示波长NM下的厚度方向相位差单位NM。0036优选地，本发明包含作为满足这些条件的添加剂的由下面的化学式1表示的至少一种化合物。0037化学。

16、式100380039在化学式1中，X表示O、S或NR5，Y表示O、S、NR25或化学键，R1、R3、R5和R25各自独立地选自氢、C1C10烷基、C6C20芳基、C1C20烷氧基、C3C20环烷基、C2C7烯基、C1C10烷氧基羰基C1C10烷基、羰基C1C10烷基、C3C20杂环烷基和C4C20杂芳基，0040R2和R4各自独立地选自氢、C1C10烷基、C6C20芳基、C3C20环烷基、羰基C1C10烷基、C3C20杂环烷基和C4C20杂芳基，0041R1、R2、R3和R4不同时是氢，以及0042R1、R2、R3、R4、R5和R25的烷基、芳基、烷氧基、环烷基、烯基、烷氧基羰基、羰基芳基、杂。

17、环烷基和杂芳基可进一步由选自C1C7烷基、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基C6C20芳基、C2C7烯基、C3C20环烷基、C3C20杂环烷基或C4C20杂芳基中的至少一种来取代。具体实施方式0043下面将详细说明本发明的每个结构。0044首先，对于光学膜，其密度是但不限于12135。0045只要膜是常用的聚合物膜，该光学膜的基膜并没有特别限制。用于可使用的光学膜的基膜的示例包括乙酸纤维素膜、聚碳酸酯膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、聚酯膜、聚酰亚胺膜、聚苯乙烯膜或这些聚合物材料的共聚物膜。至于更具体的示例，光学结构和显示装置优选地使用乙酸纤维素膜作为基膜。0046用于本发明的光学膜基膜的乙酸纤维素指由纤维素。

18、和乙酸形成的酯，其中在组成说明书CN104284923A4/12页8纤维素的葡萄糖单位的2、3和6位的各羟基的所有或部分的氢原子被乙酰基取代。可按ASTMD81791测量取代度。乙酸纤维素的取代度是但不限于，优选27或更高，更优选有效降低乙酸纤维素相位差的2730。0047用于本发明的光学膜基膜的乙酸纤维素的分子量是但不限于，作为重量平均分子量的范围为200000350000。此外，乙酸纤维素的分子量分布MW/MNMW指的是重量平均分子量，MN指的是数量平均分子量优选是1418。优选分子量分布为1517，以实现适于光学膜的透光率和机械物理性质。0048下面将描述用于光学膜的其它添加剂。0049。

19、向要用于溶剂浇铸方法的溶液掺杂剂中，根据在各制备方法中的用途可加入各种其它添加剂如增塑剂、抗紫外线剂、劣化抑制剂、微粒、剥离剂、红外吸收剂、光学各异向性控制剂等。只要添加剂是有关领域中常用的，具体类型的添加剂使用没有限制。优选地，添加剂的使用量在不降低光学膜的物理性质的范围内。根据添加剂类型确定加入其它添加剂的时间。可在掺杂剂制备的最后进行添加剂加入工序。0050使用增塑剂改善膜的机械强度。当使用增塑剂时，膜干燥工序时间缩短。只要其是常用的，增塑剂的使用没有限制。增塑剂的示例包括磷酸酯和邻苯二甲酸酯或选自柠檬酸的羧酸酯等。磷酸酯的示例包括磷酸三苯酯TPP、磷酸联苯二苯酯、磷酸三甲苯酯TCP等。。

20、邻苯二甲酸酯的示例包括邻苯二甲酸二甲酯DMP、邻苯二甲酸二乙酯DEP、邻苯二甲酸二丁酯DBP、邻苯二甲酸二辛酯DOP、邻苯二甲酸二苯酯DPP、邻苯二甲酸二乙基己基酯DEHP等。柠檬酸的示例包括邻乙酰柠檬酸三乙酯OACTE、邻乙酰柠檬酸三丁酯OACTB等。其它羧酸酯的示例包括油酸丁酯、甲基乙酰赖氨酸油酯、癸二酸二丁酯及各种偏苯三酸酯。优选地，可使用邻苯二甲酸酯DMP、DEP、DBP、DOP、DPP和DEHP增塑剂。增塑剂的使用量以用于光学膜的基体树脂100重量份计为220重量份，更优选地为515重量份。0051要使用的抗紫外线剂的示例包括羟基二苯甲酮类苯并三唑类化合物、水杨酸酯类化合物及氰基丙烯。

21、酸酯类化合物等。紫外线抑制剂的使用量以用于光学膜的基体树脂100重量份计为013重量份，更优选为052重量份。0052可使用的劣化抑制剂的示例包括抗氧化剂、过氧化物分解剂、自由基抑制剂、金属钝化剂、脱氧剂及光稳定剂受阻胺等。优选的劣化抑制剂的示例包括丁基羟基甲苯BHT、三苯甲基胺TBA等。劣化抑制剂的使用量以用于光学膜的基体树脂100重量份计为0015重量份，更优选为011重量份。0053加入微粒使得膜良好的保持卷边抑制性、运输性、卷曲形状下的防粘性或耐损伤性，且所述微粒可使用选自无机化合物和有机化合物中的任一种。无机化合物的优选示例包括含硅化合物、二氧化硅、二氧化钛、氧化锌、氧化铝、氧化钡、。

22、氧化锆、氧化锶、氧化锑、氧化锡、氧化锡锑、碳酸钙、滑石、粘土、煅烧高岭土、煅烧硅酸钙、硅酸钙水合物、硅酸铝、硅酸镁及磷酸钙等。更优选地，可使用含硅无机化合物或氧化锆。所述微粒的平均一级粒径为80NM或以下，优选为580NM，更优选为560NM，尤其优选为850NM。当所述微粒的平均一级粒径大于80NM时，膜的表面平滑度会受损。0054下面将详细说明本发明使用的添加剂。加入所述添加剂以降低光学膜以及优选的由下面化学式1表示的化合物的厚度方向相位差RTH说明书CN104284923A5/12页90055化学式100560057在化学式1中，X表示O、S或NR5，Y表示O、S、NR25或化学键，R1。

23、、R3、R5和R25各自独立地选自氢、C1C10烷基、C6C20芳基、C1C20烷氧基、C3C20环烷基、C2C7烯基、C1C10烷氧基羰基C1C10烷基、羰基C1C10烷基、C3C20杂环烷基和C4C20杂芳基，0058R2和R4各自独立地选自氢、C1C10烷基、C6C20芳基、C3C20环烷基、羰基C1C10烷基、C3C20杂环烷基和C4C20杂芳基，0059R1、R2、R3和R4不同时是氢，以及0060R1、R2、R3、R4、R5和R25的烷基、芳基、烷氧基、环烷基、烯基、烷氧基羰基、羰基芳基、杂环烷基和杂芳基可进一步由选自C1C7烷基、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基C6C20芳基、C2C。

24、7烯基、C3C20环烷基、C3C20杂环烷基或C4C20杂芳基中的至少一种来取代。0061包含术语“烷基”、“烷氧基”和本文中所述的其它术语“烷基”部分的取代基包含直链或支链形式，术语“烯基”包括具有至少一个双键和28个碳原子的直链或支链形式。0062本文中描述的术语“C3C20环烷基”是具有320个碳原子的饱和单环结构形式或饱和双环结构形式。0063本文中描述的术语“芳基”是通过除去一个氢原子由芳香烃衍生的有机基团，包含单环或每个环包括47个环原子优选56个环原子的稠环体系。其具体示例包括苯基、萘基、联苯基、甲苯基等，但不限于此。0064本文中描述的术语“杂环烷基”指的是环烷基基团，其中饱和。

25、环烃骨架原子是选自N、O和S的13个杂原子，且剩余的饱和单环或双环骨架原子是碳。杂环烷基的实例包括吡咯烷基、氮杂啶基、吡唑烷基、噁唑烷基、哌啶基、哌嗪基、吗啉基、三吗啉基、四氢噻唑基、乙内酰脲基、戊丙酰胺基、环氧乙烷基、氧杂环丁烷基OXETANYL、二氧戊环基DIOXOLANYL、二氧己环基DIOXANY、氧硫戊环基OXATHIOLANYL、噁噻烷基、二噻烷基、二氢呋喃基、四氢呋喃基、二氢吡喃基、四氢吡喃基、四氢吡啶基、四氢嘧啶基、四氢噻吩基、四氢噻喃基、二氮杂环庚烷基DIAZEPANYL、氮杂环庚烷基AZEPANYL等。0065本文中描述的术语“杂芳基”指的是芳基，其中芳香环骨架原子是选自N。

26、、O和S的13个杂原子，且剩余的芳香环骨架原子是碳。所述杂芳基包括环中杂原子被氧化或季铵化QUATERNARIZED形成例如N氧化物或季盐的二价芳基。其具体示例包括呋喃基、苯硫基、吡咯基、吡喃基、咪唑基、吡唑基、噻唑基、噻二唑基、异噻唑基、异噁唑基、噁唑基、噁二唑基、三嗪基、四嗪基、三唑基、四唑基、呋咕基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基等，但不限于此。0066更具体而言，化学式1可由下面的化学式2、3或4表示。说明书CN104284923A6/12页100067化学式200680069化学式300700071化学式400720073R11和R21各自独立的选自氢、C1C5烷基、C6C10芳基、。

27、C3C20杂芳基、C3C10杂环芳基和C4C10杂芳基，0074R31选自氢、C1C5烷基，C6C10芳基，和C1C10烷氧基，R41选自氢，C1C5烷基，羰基C1C5烷基，和C6C10芳基，以及0075R11、R21、R31和R41的烷基，芳基，杂芳基，烷氧基，羰基烷基，杂环芳基和杂芳基可进一步被选自C1C7烷基，卤素，硝基、氰基、羟基和氨基中的至少一种取代。0076然而，化学式2和3中的R11、R21和R31中的至少两种包括选自C3C20杂芳基、C6C20芳基、C3C20杂环芳基和C4C20杂芳基中的环形取代基。0077更具体而言，由化学式1表示的化合物包括由下面的化学式表示的化合物，但并。

28、不限于此。0078说明书CN104284923A107/12页110079与加入现有塑化剂的相比，通过包括这种添加剂，可表现出降低厚度方向相位差的良好效果，并且可显著改善光学性质如在高温和高湿度中的稳定性和耐湿性。0080必要时，还可加入其它光学各向异性抑制剂、波长色散调节剂等，并且只要是在相关领域中经常使用的其它添加剂，其使用没有限制。0081下面将说明生产本发明的光学膜的方法。制备下面的光学膜组合物，即掺杂溶液，从而生产本发明中的光学膜。0082优选地，所述光学膜组合物包含以基体树脂100重量份计为120重量份的作为添加剂的选自下面的化学式1的至少一种。0083化学式100840085在化。

29、学式1中，X表示O、S或NR5，Y表示O、S、NR25或化学键，R1、R3、R5和R25各自独立地选自氢、C1C10烷基、C6C20芳基、C1C20烷氧基、C3C20环烷基、C2C7烯基、C1C10烷氧基羰基C1C10烷基、羰基C1C10烷基、C3C20杂环烷基和C4C20杂芳基，0086R2和R4各自独立地选自氢、C1C10烷基、C6C20芳基、C3C20环烷基、羰基C1C10烷基、C3C20杂环烷基和C4C20杂芳基，R1、R2、R3和R4不同时是氢，以及0087R1、R2、R3、R4、R5和R25的烷基、芳基、烷氧基、环烷基、烯基、烷氧基羰基、羰基芳基、杂环烷基和杂芳基可进一步由选自C1。

30、C7烷基、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基C6C20芳基、C2C7烯基、C3C20环烷基、C3C20杂环烷基或C4C20杂芳基中的至少一种来取代。说明书CN104284923A118/12页120088优选地，本文掺杂剂中的固体浓度为1525WT，优选为1623WT。当掺杂剂中的固体浓度少于15WT时，由于高流动性很难形成均匀膜。当掺杂剂中的固体浓度大于25WT时，光学膜组合物几乎不溶解，因此很难形成均匀膜。0089光学膜基体树脂的乙酸纤维素的使用量基于固体的总含量为70WT或更高，优选为7090WT，更优选为8085WT。此外，对于乙酸纤维素，可混合和使用其取代度、聚合度或分子分布互不相同的至少。

31、两种乙酸纤维素。0090此外，优选地，用于光学膜基体树脂的乙酸纤维素形成为颗粒。此时优选90WT的乙酸纤维素颗粒的平均粒度为055MM。而且50WT的乙酸纤维素颗粒的平均粒度为14MM是有效的。0091优选地，乙酸纤维素颗粒具有与球形尽可能相似的形状。干燥乙酸纤维素颗粒，使得含水量为2WT或更少，更优选的为1WT或更少，然后产生当形成膜时有效展现物理性质的掺杂溶液。0092优选地，以光学膜基体树脂100重量份计，所述添加剂的使用范围为120重量份。当在所述范围内使用添加剂时，可实现目标相位差。少于1重量份的添加剂降低相位差的效果小。大于20重量份的添加剂会导致成本增加和渗出BLEEDOUT。0。

32、093优选地，通过其中使用掺杂溶液的溶剂浇铸方法形成光学膜。在所述溶剂浇铸方法中，光学膜组合物溶于溶剂中，所述溶解的溶液掺杂剂浇铸在支架上，然后蒸发溶剂形成膜。0094当通过所述方法形成膜时，制备用于光学膜的组合物掺杂剂的溶剂优选是有机溶剂。要使用的有机溶剂的优选示例包括卤代烃。所述卤代烃的示例包括氯代烃、亚甲基氯和氯仿。其中最优选使用亚甲基氯。0095此外必要时，可混合和使用除卤代烃之外的有机溶剂。除卤代烃之外的有机溶剂的示例包括酯类、酮类、醚类、醇类和烃类。可使用的酯类的示例包括甲酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸戊酯等。可使用的酮类的示例包括丙酮、甲。

33、基乙基酮、二乙基酮、二异丁基酮、环戊酮、环己酮、甲基环己酮。可使用的醚类的示例包括二异丙醚、甲撑二甲醚、乙二醇二甲醚、1,4二氧六环、1,3二氧戊环、四氢呋喃、苯甲醚、苯乙醚等。可使用的醇类的示例包括甲醇、乙醇、1丙醇、2丙醇、1丁醇、2丁醇、叔丁醇、1戊醇、2甲基2丁醇、环己醇、2氟乙醇、2,2,2三氟乙醇、2,2,3,3四氟1丙醇等。0096更优选地，亚甲基氯可用作主要溶剂，醇可用作共溶剂。具体地，亚甲基氯和醇可按重量比8020955混合，其能有效均匀地将光学膜的基体树脂溶于溶剂中。0097光学膜组合物可通过在常温、高温或低温下溶解而制备。0098优选地，40时该光学膜组合物的粘度为140。

34、0PAS，更优选的为10200PAS。0099该光学膜可按照普通溶剂浇铸方法制备。更具体而言，制备的掺杂溶液光学膜组合物首先储存在储存器RESERVOIR中，并将掺杂溶液中的泡沫除去。通过根据旋转速度能高精度地泵送恒定量流体的泵将所述去除泡沫的掺杂溶液从掺杂溶液出口供应至冲压模具。将该掺杂溶液从冲压模具的缝隙均匀浇铸到循环行进的金属支架上。在金属支架几乎形成一个圆的剥落点PEELPOINT时，仍然湿的掺杂膜又称为网从金属支架剥落。所制备的网的两端用夹子夹紧，然后用张布钩TENTER将该网转移，同时保持宽度，并说明书CN104284923A129/12页13将其干燥。之后，将该网转移至干燥器的辊。

35、并干燥，用卷线机将其卷成给定的长度。0100在浇铸溶液期间，空间温度优选为5050，更优选为3040，最优选为2030。由于在低空间温度时该光学膜溶液浇铸物立即在支架上冷却，从而改善了凝胶强度，因此形成保留许多有机溶剂的膜。因此，所述膜可迅速地从支架剥落，而无需从光学膜溶液蒸发该有机溶剂。通常用的冷却空间的气体的示例包括空气、氮气、氩气或氦气。优选地，相对湿度为070，更优选地的为050。0101优选地，其上浇铸光学膜溶液的支架浇铸部分的温度为50130，更优选的为3025，最优选的为2015。为了冷却该浇铸部分，可将冷却的气体引至浇铸部分。可替换地，可在浇铸部分设置冷却装置以冷却空间。冷却期。

36、间，水不附在浇铸部分是很重要的。在使用气体冷却的浇铸中，优选地，该气体是干燥的。0102并且如有必要，可对光学膜进行表面处理。一般进行表面处理来改善光学膜的粘附性。所述表面处理可包括辉光放电处理、UV处理、电晕处理、火焰处理、皂化处理等。0103可将光学膜延伸以控制相位差程度，优选地，延伸度为10100，更优选的为1050，最优选的为530。0104优选地，光学膜厚度为20140M，更优选的为40100M。0105本发明的光学膜可用作光学结构如光学补偿压膜、硬涂层膜、防眩光膜、低反射膜、抗反射膜、用于立体图像的滤光器或偏振片，并且可用作单个片材或层压为两个或多个片材。0106此外，这种光学膜或。

37、光学结构可用于生产液晶显示装置。0107下文中，将通过示例详细说明本发明，然而，本发明并不限于以下示例。0108下文中，可按以下测量该膜的特征性质。01091光学各向异性0110用双折射分析器KOBRAWPR，由OJISCIENTICINSTRUMENT制造通过用波长为587NM的光在垂直膜的方向照射膜测量RE。在RE面中，通过用波长为587NM的光从与垂直于膜的40度的方向向慢轴由KOBRAWPR测定照射该膜测量RTH，由KOBRAWPR测定。01112雾度测量0112按照ASTMD1003透明塑料透光率和雾度标准用雾度分析仪雾度分析仪HM150，由MURAKAMICOLORRESEARCH。

38、LABORATORY制造测量雾度。01133色度测量0114可按照ASTMD1209标准通过用色度计COLORQUESTXE，由HUNTERASSOCIATESLABORATORY制造测量由光源的吸收、反向和透过示出的膜的吸光率，将色度表示为分数。01154耐湿性测量0116用透湿性测试仪PERMATRANWMODEL3/33，由MOCON制造测量膜的耐湿性。在施加在膜样品上的压力为760MMHG，温度为378，外部单元相对湿度RH为100以及N2载气的条件下，测量通过膜从外部单元渗入内部单元的水分。01175高温和高湿度稳定性0118将膜样品在相对湿度RH为90和温度为60的条件下，在恒温恒。

39、湿器KCL2000，由EYELA制造中停留150小时，之后室温下退火，然后通过上述方法测量厚度方向相位差RTH、雾度、色度，将其与初始值比较。说明书CN104284923A1310/12页140119示例10120光学膜组合物掺杂剂的制备0121将下面表1中的组合物加入搅拌器中，然后在30的温度下溶解。0122将22H苯并三唑2基61甲基1苯乙基41,1,3,3四甲基丁基苯酚用作下面组合物的抗紫外线剂。0123表10124组分含量重量份取代度为287的乙酸纤维素粉末100重量份添加剂2甲氧基2苯基乙酮10重量份抗紫外线剂2重量份二氧化硅，平均粒度为16NM05重量份亚甲基氯440重量份甲醇50。

40、重量份0125将由此获得的掺杂剂加热至30，泵送至齿轮泵、用绝对过滤精度为001MM的过滤纸过滤，然后用绝对过滤精度为5M的筒式过滤器过滤。0126光学膜的制备0127将由过滤工序获得的掺杂溶液浇铸在使用铸造模具CASTINGDIE倾斜的不锈钢支架，然后剥落。将剥落时剩余溶剂的含量控制在25WT。与张布钩连接后，将膜在宽度方向上延伸105表示长度百分比。将膜从张布钩取下之后，将膜在左边和右边的两个端部分切除150MM。然后，使用干燥器将膜干燥。将该膜从干燥器取出之后，将膜的两端部切除30MM。然后，在从端部分宽度为10MM和高度为68M处进行滚花加工，将膜卷成卷曲形状。由此获得的膜厚度为60M。

41、，并通过上述方法测量该光学膜的厚度方向相位差RTH。0128示例280129光学膜的制备0130除了将示例1组合物中的2甲氧基2苯基乙酮变为下面表2中的每种添加剂之外，按照示例1中一样的方式生产光学膜。0131表20132说明书CN104284923A1411/12页150133比较例10134光学膜组合物掺杂剂的制备0135将下面的组合物加入搅拌器中，然后在30的温度下溶解。0136在下面表3的每种组合物中，使用由FUJILM公司制造的2,2乙烷1,2二基双氧双乙烷2,1二基二戊酸盐作为添加剂，并使用22H苯并三唑2基61甲基1苯乙基41,1,3,3四甲基丁基苯酚作为抗紫外线剂。0137表3。

42、0138组分含量重量份取代度为287的乙酸纤维素粉末100重量份添加剂10重量份抗紫外线剂2重量份二氧化硅，平均粒度为16NM05重量份亚甲基氯440重量份甲醇50重量份0139说明书CN104284923A1512/12页160140将由此获得的掺杂剂加热至30，泵送至齿轮泵、用绝对过滤精度为001MM的过滤纸过滤，然后用绝对过滤精度为5M的筒式过滤器过滤。0141光学膜的制备0142将由过滤工序获得的掺杂溶液浇铸在使用铸造模具CASTINGDIE倾斜的不锈钢支架，然后剥落。将剥落时剩余溶剂的含量控制在25WT。与张布钩连接后，将膜在宽度方向上延伸105表示长度百分比。将膜从张布钩取下之后，。

43、将膜在左边和右边的两个端部分切除150MM。然后使用干燥器将膜干燥。将该膜从干燥器取出之后，将膜的两端部切除30MM。然后，在从端部分宽度为10MM和高度为68M处进行滚花加工，将膜卷成卷曲形状。由此获得的膜厚度为60M，并通过上述方法测量该光学膜的厚度方向相位差RTH。0143除了使用制备的掺杂溶液之外，按比较例中一样的方式生产膜，并在下面的表4中示出结果。0144表4014501460147如表4中所示，可确认当加入与现有增塑剂不同的每一示例中所述的添加剂时，该光学膜在波长为587NM时RTH小，在高温和高温度下时稳定性好，并且具有较高的雾度和较好的耐湿性。说明书CN104284923A16。