信息装置和光学拾波器.pdf

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摘要
申请专利号:

CN200410011849.5

申请日:

2004.09.22

公开号:

CN1601625A

公开日:

2005.03.30

当前法律状态:

撤回

有效性:

无权

法律详情:

发明专利申请公布后的视为撤回|||实质审查的生效|||公开

IPC分类号:

G11B7/12; G11B7/135; G11B7/09

主分类号:

G11B7/12; G11B7/135; G11B7/09

申请人:

松下电器产业株式会社;

发明人:

虫鹿由浩; 梶野修

地址:

日本大阪府

优先权:

2003.09.24 JP 2003-332209

专利代理机构:

中科专利商标代理有限责任公司

代理人:

汪惠民

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内容摘要

一种信息装置,用光束对光盘写入数据和/或从光盘读出数据,包括:生成所述光束的光源;把所述光束汇聚到光盘上的物镜;检测光束的波阵面的波阵面传感器;检测物镜的光轴对光束光轴的位置偏移量的透镜移位检测机构;把局部修正光束的波阵面的修正要素排列为二维阵列状,各修正要素彼此独立驱动的波阵面修正机构;根据波阵面传感器的输出,进行光束的截面的各坐标位置和光束的波阵面相位的关联的波阵面演算机构;根据透镜移位检测机构的输出,变更坐标位置和波阵面相位的关联的透镜移位修正演算机构;根据透镜移位修正机构的输出,控制所述可变形反射镜的控制机构。根据本发明不需要专用构件,能够以高精度进行减少透镜移位的影响的波阵面修正。

权利要求书

1.  一种信息装置,用光束对媒体写入数据和/或从所述媒体读出数据,包括:
生成所述光束的光源;
把所述光束汇聚到所述媒体上的物镜;
检测所述物镜的光轴对于所述光束的光轴的位置偏移量的透镜移位检测机构;
把局部修正所述光束的波阵面的修正要素排列为二维阵列状,各修正要素彼此被独立驱动的波阵面修正机构;
进行所述光束的截面上的各坐标位置与所述光束的波阵面相位的关联的波阵面演算机构;
根据所述透镜移位检测机构的输出,变更所述坐标位置与所述波阵面相位的关联的透镜移位修正演算机构;
根据所述透镜移位修正演算机构的输出,控制所述波阵面修正机构的控制机构。

2.
  根据权利要求1所述的信息装置,其中:
还具有检测所述光束的波阵面的波阵面传感器;
所述波阵面演算机构根据所述波阵面传感器的输出,进行所述光束的截面上的各坐标位置与所述光束的波阵面相位的关联。

3.
  根据权利要求1所述的信息装置,其中:
还具有检测所述媒体相对所述光束的倾斜的机构;
所述波阵面演算机构按照所述媒体相对所述光束的倾斜,进行所述光束的截面上的各坐标位置与所述光束的波阵面相位的关联。

4.
  根据权利要求1所述的信息装置,其中:
还具有检测所述媒体的球面像差的机构;
所述波阵面演算机构按照所述球面像差,进行所述光束的截面上的各坐标位置与所述光束的波阵面相位的关联。

5.
  根据权利要求1所述的信息装置,其中:
所述透镜移位修正演算机构,通过使所述光束的坐标位置向所述物镜的光轴对于所述光束的光轴的位置偏移方向位移,从而变更所述坐标位置与所述波阵面相位的关联。

6.
  根据权利要求5所述的信息装置,其中:
在与所述物镜的光轴对于所述光束的光轴的位置偏移方向相关的所述修正要素的相邻间隔为p时,所述透镜移位修正演算机构,相对于比所述p还小的所述光轴的偏移量,使所述光轴的坐标位置位移。

7.
  根据权利要求1所述的信息装置,其中:
所述波阵面演算机构,通过伴随着所述媒体的基体材料厚度变化的第一像差模式与伴随着所述媒体的倾斜的第二像差模式的合成,计算全体像差。

8.
  根据权利要求7所述的信息装置,其中:
所述第一像差模式在单一模式内,关于离所述光轴中心的距离r,包含6次以上的项。

9.
  根据权利要求7所述的信息装置,其中:
所述第二像差模式在单一模式内,关于离所述光轴中心的距离r,包含5次以上的项。

10.
  根据权利要求1所述的信息装置,其中:
所述波阵面修正机构的各修正要素,具有反射所述光束的微小反射镜,所述波阵面修正机构作为可变形反射镜起作用。

11.
  根据权利要求1所述的信息装置,其中:
所述波阵面修正机构包含液晶元件,所述波阵面修正机构的各修正要素具有对所述光束进行光学调制的液晶区域。

12.
  一种光学拾波器,包括:
基台;
设置在基台上的光源;
可自由移动地支撑在所述基台上,把从所述光源射出的光束汇聚,照射到媒体上的物镜;
能使所述物镜在与所述光束的光轴正交的方向移动的物镜促动器;
设置在所述光学拾波器的所述基台上,把局部修正所述光束的波阵面的修正要素排列为二维阵列状,独立控制这些修正要素,形成空间的波阵面修正图案的波阵面修正机构;
使所述波阵面修正机构形成的波阵面修正图案在所述物镜光轴相对所述光束的光轴偏移的方向移位。

说明书

信息装置和光学拾波器
技术领域
本发明涉及对媒体进行光学记录或检测信息(数据)的信息装置,特别涉及具有控制光束的波阵面的波阵面修正机构的信息装置和光学拾波器。
背景技术
在象光盘装置那样在光学上记录和再现信息的装置中,为了补偿由于记录媒体即光盘的倾斜或衬底厚度(信息面的深度)的变化等而产生的像差,在光路中配置液晶元件或可变形反射镜等波阵面修正机构。这时,防止光束和物镜的光轴偏移(以下称作透镜移位)引起的像差修正性能的下降是重要的。
一般,光盘装置的所述物镜安装在光学拾波器内,用于把同样从光学拾波器内的光源发出的激光汇聚到光盘的信息面上,形成射束点。
在光盘装置中,为了使激光的射束点正确地跟踪光盘的目的磁道,进行跟踪控制。通过促动器驱动光学拾波器内的物镜,执行该跟踪控制,从而使射束点对于光盘上的目的磁道的位置偏移最小化。
如果通过所述跟踪控制,把物镜向与光盘的信息面平行并且垂直于磁道的方向移动,就产生透镜移位,所以无法恰当实现用于补偿像差的波阵面修正。
减少透镜移位引起的影响的一个方法是把波阵面修正机构与物镜一体构成。如果这样,则物镜的光轴和波阵面修正图案的中心总一致,所以防止像差修正性能的下降。可是,产生伴随着可动部的重量增加的响应特性的下降、用于向波阵面修正元件的布线的促动器构造的复杂化、向光学拾波器的薄型化的障碍等问题。对于波阵面修正机构要求高精度的修正,波阵面修正图案的多分割化和向多种像差模式的对应越必要,则与这些问题的同时解决变得越困难。
从这样的理由出发,提出各种不是物镜,而在光学拾波器的基台一侧配置波阵面修正机构,减少透镜移位的影响的结构。作为一个例子,在波阵面修正机构和物镜之间插入平行平板,按照透镜移位使它倾斜(例如,参照专利文献1)。在专利文献1中,除此之外,还描述按照透镜移位使光源或光检测器移动的结构。
此外,波阵面修正机构除了在没有透镜移位时使用的第一电极组,还具有与向外方向的透镜移位对应的第二电极组、与向内方向的透镜移位对应的第三电极组,对于给定量以上的透镜移位,分开使用这些电极的结构(参照专利文献2)。在专利文献2中,公开了对于用于修正光盘衬底的倾斜(翘起)的液晶元件的第一电极组,组合第二和第三电极组的实施例。此外,作为其它实施例,公开了对于用于修正球面像差的液晶元件的第一电极组,组合第二和第三电极组的实施例。
[专利文献1]特开平11-96577号公报
[专利文献2]特开2001-167470号公报
可是,在所述以往技术中存在以下的课题。
第一,在专利文献1中记载的透镜修正结构中,存在引起装置的大型化、高成本的课题。为了修正透镜移位,追加平行平板或用于把它倾斜的驱动部等构件,此外为了进行正确的透镜移位的修正,用于使这些机构的动作以高精度跟踪物镜的移动的控制机构成为必要。这样无法避免伴随着透镜移位修正机构地追加的装置复杂化。
第二,在使用专利文献2所述的第二、第三电极组的结构中,在取得的波阵面修正精度和能修正的波阵面种类的灵活性上存在课题。在配置第二、第三电极组的部分无法配置第一电极组,所以用于提高波阵面修正精度的电极组配置和用于减少透镜移位的影响的电极组配置彼此存在抵消的关系。因此,在保证充分的波阵面修正精度的前提下,难以对应广范围的透镜移位。在修正倾斜时、修正球面像差时,分别个别设计减少透镜移位的影响的电极图案,但是根据装置,有时有必要对应倾斜引起的像差和球面像差复合的像差、或更宽的任意像差。对于这样的任意像差,以高精度减少透镜移位的影响的灵活性上存在课题。
第三,在专利文献2所述的结构中,存在无法实现对于微小的透镜移位的极细微的波阵面修正的课题。在专利文献2中,对于200μm以下的透镜移位,不进行修正,对于200μm以上的透镜移位,只在一个等级进行修正。这样,只用进行修正或不进行修正等两个等级选择,难以细致地对应微小的透镜移位。
发明内容
本发明是鉴于所述事实而提出的,其目的在于:提供不需要特别的与物镜匹配光轴的专用构件,以高精度进行减少透镜移位的影响的波阵面修正的信息装置和光学拾波器。
本发明的信息装置用光束对媒体写入数据和/或从所述媒体读出数据,包括:生成所述光束的光源;把所述光束汇聚到所述媒体上的物镜;检测所述物镜的光轴对于所述光束的光轴的位置偏移量的透镜移位检测机构;把局部修正所述光束的波阵面的修正要素排列为二维阵列状,各修正要素彼此独立驱动的波阵面修正机构;进行所述光束的截面的各坐标位置和所述光束的波阵面相位的关联的波阵面演算机构;根据所述透镜移位检测机构的输出,变更所述坐标位置和所述波阵面相位的关联的透镜移位修正演算机构;根据所述透镜移位修正演算机构的输出,控制所述波阵面修正机构的控制机构。
在优选实施方式中,还具有检测所述光束的波阵面的波阵面传感器;所述波阵面演算机构根据所述波阵面传感器的输出,进行所述光束的截面的各坐标位置和所述光束的波阵面相位的关联。
在优选实施方式中,还具有检测所述媒体对所述光束的倾斜的机构;所述波阵面演算机构按照所述媒体对所述光束的倾斜,进行所述光束的截面的各坐标位置和所述光束的波阵面相位的关联。
在优选实施方式中,还具有检测所述媒体的球面像差的机构;所述波阵面演算机构按照所述球面像差,进行所述光束的截面的各坐标位置和所述光束的波阵面相位的关联。
在优选实施方式中,所述透镜移位修正演算机构使所述光束的坐标位置向所述物镜的光轴对于所述光束的光轴的位置偏移方向移动,从而变更所述坐标位置和所述波阵面相位的对应关系。
在优选实施方式中,当关于所述物镜的光轴对于所述光束的光轴的位置偏移方向的所述修正要素的相邻间隔为p时,所述透镜移位修正演算机构对于比所述p还小的所述光轴的偏移量,使所述光轴的坐标位置移动。
在优选实施方式中,所述波阵面演算机构通过伴随着所述媒体的基体材料厚度变化的第一像差模式与伴随着所述媒体的倾斜的第二像差模式的合成,计算全体像差。
在优选实施方式中,所述第一像差模式在单一模式内,关于离所述光轴中心的距离r,包含6次以上的项。
在优选实施方式中,所述第二像差模式在单一模式内,关于离所述光轴中心的距离r,包含5次以上的项。
在优选实施方式中,所述波阵面修正机构的各修正要素具有反射所述光束的微小反射镜,所述波阵面修正机构作为可变形反射镜起作用。
在优选实施方式中,所述波阵面修正机构包含液晶元件,所述所述波阵面修正机构的各修正要素具有对所述光束进行光学调制的液晶区域。
本发明的光学拾波器包括:基台;设置在基台上的光源;可自由移动地支撑在所述基台上,把从所述光源射出的光束汇聚,照射到媒体上的物镜;能使所述物镜在与所述光束的光轴正交的方向移动的物镜促动器;设置在所述光学拾波器的所述基台上,把局部修正所述光束的波阵面的修正要素排列为二维阵列状,独立控制这些修正要素,形成空间的波阵面修正图案的波阵面修正机构;使所述波阵面修正机构形成的波阵面修正图案在所述物镜光轴对于所述光束的光轴偏移的方向移动。
附图说明
图1是本发明实施方式1的信息装置的概略结构图。
图2是本发明实施方式1可变形发射镜的分解立体图。
图3是表示可变形发射镜的驱动点和波阵面近似精度的关系的一维说明图。
图4是表示可变形发射镜的驱动点和波阵面近似精度的关系的二维说明图。
图5是本发明实施方式1的光检测器的感光部的俯视图。
图6是本发明实施方式1的光检测器的检测电路的概略结构图。
图7是表示具有透镜移位时的可变形发射镜的修正波阵面形状的说明图。
图8是本发明实施方式2的信息装置的概略结构图。
图9是表示按照物镜6的光轴的移位,波阵面修正图案移动的样子的模式图。
图10是本发明实施方式3的信息装置的概略结构图。
图11是表示本发明实施方式3的动作的程序流程图。
图中:5-可变形反射镜;6-物镜;11-光检测器;11b-光检测器;12-控制电路;12b-控制电路;13-波阵面演算部;13b-波阵面演算部;14-透镜移位修正演算部;15-全体控制部;15b-全体控制部;16-波阵面修正控制部。
具体实施方式
下面,参照图1~图7说明本发明的信息装置的实施方式1。本实施方式的信息装置是光盘装置。
首先,参照图1。图1是本实施方式的光盘装置的概略结构图。该光盘装置是用光束对媒体(光盘)写入数据和/或从光盘读出数据的信息装置。
从GaN激光器等光源1射出的光束由视准透镜2变换为平行光束,输入到偏振分光镜3。该光束中只有P偏振光成分透射偏振分光镜3,剩下的S偏振光成分反射,入射到未图示的前光监视器中。透射的P偏振光成分由1/4波长板4变换为圆偏振光。
本实施方式的可变形反射镜5是在衬底5a上设置多个能变位的微小反射镜5b的反射镜。这样的可变形反射镜5具有基于本申请人的国际公开WO03/061488号文本(国际申请日:2002年1月29日)或国际公开WO03/065103号文本(国际申请日:2002年11月26日)中描述的结构。与国际公开WO03/061488号文本有关的申请在2003年7月29日进入到美国国家阶段(申请号10/470685),与国际公开WO03/065103号文本有关的申请在2004年7月23日进入到美国国家阶段。
各微小反射镜5b配列为二维阵列状,由多个微小反射镜5b形成反射面。各微小反射镜5b连接在其背面的驱动部5c驱动。独立控制各微小反射镜5b的从衬底5a的垂直方向变位和/或对衬底5a的倾斜。作为本实施方式的可变形反射镜5所要求的功能,重点在于:各微小反射镜5b对于衬底5a不仅倾斜,在对衬底5a倾斜或平行的状态下,能作为全体变位。除了倾斜,还能进行这样的变位,所以能以高精度修正波阵面的相位。
通过微小反射镜5b的变位,能局部改变光束的波阵面,所以各微小反射镜5b和驱动部5c作为用于进行波阵面修正的最小单位起作用。光对于可变形反射镜5的入射角和出射角例如分别设定为45度。后面将详细描述可变形反射镜5的构造。
由可变形反射镜5调制相位的光束通过物镜6汇聚到光盘7的记录层上。物镜6通过物镜促动器8,能与光束的光轴方向A以及垂直于光轴的方向B等2方向平行移动,能进行对所需记录层的对焦、对所需记录磁道的跟踪。与光轴正交的方向B是光盘7的半径方向,是垂直于图面的方向。
光盘7是由以给定间隔配置的多个记录层、覆盖保护记录层的光能透过的基体材料部构成光记录媒体。跟踪方式为采样伺服方式,在各层伺服区域中形成曲折的预凹坑。由光盘7的记录层反射的光束再度通过可变形反射镜5和1/4波长板4。该光束大部分是S偏振光,所以由偏振分光镜3反射,通过由全息图9、透镜10和光检测器11构成的波阵面传感器检测波阵面。该波阵面传感器是普通型,例如能使用以下的文献中描述的公开技术构成。
M.A.A.Neil,M.J.Booth,and T.Wilson,“New modal wavefront sensor:a theoretical analysis,”J.Opt.Soc.Am.A/Vol.17,No.6,pp,1098-1107(2000)
全息图9关于n个(n为2以上的整数)正交的像差模式Mi(i=1~n),分别在不同的方向生成±1次光。对于与各模式Mi对应的这些±1次光,预先决定的偏置系数为Bi,对+1次光付与+BiMi的偏置像差,对-1次光付与-BiMi的偏置像差。全息图9是截面接近正弦波的多级的二进制全息图或截面为等腰三角形的火焰形状全息图,设计为减少±1次光以外的高次光的比率,提高衍射效率。此外,衍射沟的深度设定为适当的值,设定为0次光以给定比率透过。
透镜10把由全息图9偏转的n对光束汇聚到光检测器11上。如果透镜10的焦距为f,则全息图9和光检测器11分别配置在离透镜10的主平面距离f的位置,透镜10作为傅立叶变换透镜起作用。
光检测器11关于各n对,生成±1次光的强度信号的差动输出Si。与像差模式Mi对应的差动输出Si成为与像差模式Mi的大小Ai对应的信号。对于像差模式Mi的灵敏度Si/Ai预先由偏置系数Bi等设计参数决定。
作为正交的像差模式的基本函数,可以使用基于多项式的基本函数Zi,但是作为更直接地表示光盘7的基体材料厚度变化和倾斜引起的像差的基本函数,选择(表达式1)~(表达式3)所示的M1~M3。如物镜6的散焦引起的像差M4(表达式4)所示,应用关于通常的多项式的散焦的基本函数Z2。
(表达式1)M1=1.78-8.75r2+4.50r4+2.49r6+1.27r8+0.67r10+0.37r12
(表达式2)M2=(4.47r-4.60r3-1.78r5-0.75r7-0.34r9)cosθ
(表达式3)M3=(4.47r-4.60r3-1.78r5-0.75r7-0.34r9)sinθ
(表达式4)
M 4 = Z 2 = 3 ( 2 r 2 - 1 ) ]]>
M1是伴随着光盘7的基体材料厚度变化的球面像差模式,M2是伴随着光盘7的半径方向的倾斜的像差模式,M3是伴随着光盘7的切线方向的倾斜的像差模式,都是彼此几乎正交,标准也几乎是1。须指出的是,(r,θ)是全息图9面上的极坐标位置,r是标准化为0≤r≤1的半径。
关于1次球面像差的Zernike多项式的基本函数Z11如(表达式5)所示,包含到半径r的4次项,关于1次彗差的Zernike多项式的基本函数Z7、Z8如(表达式6)、(表达式7)所示,包含到半径r的3次项。而像差模式M1在一个模式内包含半径r的6次以上的项,像差模式M2、M3包含半径r的5次以上的项。
(表达式5)
Z 11 = 5 ( 6 r 4 - 6 r 2 + 1 ) ]]>
(表达式6)
Z 7 = 2 2 ( 3 r 3 - 2 r ) cos θ ]]>
(表达式7)
Z 8 = 2 2 ( 3 r 3 - 2 r ) sin θ ]]>
Zernike多项式也能任意考虑高次的基本函数,所述像差模式Mi能用包含到高次项的Zernike多项式的基本函数Zj的组合Mi=∑kjZj近似,但是这样的基本变换具有实用上的效果。即发生像差的主要原因能预先确定为光盘7的基体材料厚度变化和倾斜时,通过利用该性质,大幅度减少检测的像差模式的数,能修正高次的像差模式。如(表达式1)~(表达式3)所示,伴随着光盘7的基体材料厚度变化和倾斜的像差,关于半径r的高次项的收敛性比较低。因此,当在像差模式中选择Zernike多项式的基本函数Zi时,从低次模式到高次模式,需要相当多的光检测器对,或当只把低次模式作为修正对象时,高次模式的残留误差增大。而当选择光盘7的基体材料厚度变化和倾斜引起的像差模式M1~M3时,能用一个模式数进行高次项之前的像差检测,一个检测器的光量多,S/N比也好。
从光检测器11输出表示该像差模式M1~M4的大小的信号S1~S4。此外,从全息图9的0次光的聚光点输出由光盘7的预凹坑和记录标记调制的信号S5。后面详细描述光检测器11。须指出的是,(表达式1)~(表达式3)的系数是在光盘7的基体材料厚度85μm,NA0.85、盘基体材料的折射率1.62等的条件下求出的,这些数值自身根据条件而不同。
光源1、视准透镜2、偏振分光镜3、1/4波长板4、可变形反射镜5、物镜促动器8、全息图9、透镜10、光检测器11固定在未图示的光学拾波器基台上,物镜6在该光学拾波器基台上,由4条线结构的支撑结构支撑,能自由移动。
控制电路12具有波阵面演算部13、透镜移位修正演算部14、全体控制部15、波阵面修正控制部16。
波阵面演算部13使用光检测器11的输出信号S1~S3,计算用于修正伴随着光盘7的基体材料厚度变化和倾斜的波阵面像差的相位函数Ψ(x,y)。这里,x、y是与可变形反射镜5的反射镜位置对应的坐标。作为步骤,最初从信号S1~S3求出基本函数M1~M3的系数A1~A3,根据(表达式1)~(表达式3)和(表达式8),求出全息图9面上的由表示极坐标的相位函数Ψ(r,θ)。
(表达式8)
     ψ(r,θ)=ΣAiMi
接着,波阵面演算部13把由全息图9面上的极坐标提供的相位函数Ψ(r,θ)变换为可变形反射镜5面上的由正交坐标表示的相位函数Ψ(x,y)。结果输出到透镜移位修正演算部14。
透镜移位修正演算部14从全体控制部15输入物镜6的透镜移位量x0,根据它,把从波阵面演算部13输入的相位函数Ψ(x,y)变换为Ψ(x-x0,y)。该Ψ(x-x0,y)成为波阵面修正控制部16控制可变形反射镜5时的目标波阵面。
全体控制部15根据从光检测器11输入的S4、S5,生成对物镜促动器8的聚焦控制信号Fo、跟踪控制信号Tr。此外,通过使跟踪控制信号Tr通过低通滤波器,计算物镜6的透镜移位量x0。求出透镜移位量x0的方法并不局限于此,例如可以用变位传感器检测物镜6对于光学拾波器的基台的变位。
波阵面修正控制部16根据来自透镜移位修正演算部14的输出Ψ(x-x0,y),控制可变形反射镜5的各微小透镜5b的变位和倾斜。后面将描述波阵面修正控制部16的动作,但是当控制收敛时,可变形反射镜5的全体的反射面形状以足够的精度近似于目标波阵面。该Ψ(x-x0,y)是按照物镜6的透镜移位量x0,保持波阵面形状,只使位置错开x0,所以可变形反射镜5上的波阵面修正图案移动,总跟踪物镜6的位置。
图9模式地表示按照物镜6的移位,波阵面修正图案变化的样子。由虚线表示的部分表示透镜移位前的状态,用实线表示的部分表示透镜移位后的状态。在图9中,向右为x方向。从图9可知,当物镜6在x方向只变位x0时,各微小透镜5b的变位和倾斜变化,作为全体,反射面只向x方向变位x0。照射可变形反射镜5的光束为直径例如为数mm左右的大小,但是透镜移位量x0的大小在0~200μm的范围中。与波阵面修正图案的全体大小相比,透镜移位量x0充分小。
须指出的是,当透镜移位量x0比微小透镜5b的排列间隔小时,有必要适当使所述波阵面修正图案移位。向以后参照图7详细说明的那样,根据本实施方式中使用的可变形反射镜5,能恰当对应于透镜移位量x0。
下面,参照图2。图2是本实施方式的可变形反射镜5的分解立体图。在图2中,放大记载一个修正要素,但是实际上在衬底5a上排列多个修正要素,形成二维的阵列。
在驱动部5c的固定部一侧具有设置在衬底5a上的绝缘层21、设置在该绝缘层21上的基极22和三对固定电极23~25。通过把铝(Al)或多晶硅等的导电膜构图,形成基极22和固定电极23~25。固定电极23~25分别分割为两个固定电极片23a、23b~25a、25b。固定电极片23a、23b~25a、25b通过形成在绝缘层21上的转接孔(未图示),连接在衬底5a上形成的的驱动电路上。驱动电路能在0~5V的范围内,把分别独立的电压提供给固定电极片23a、23b~25a、25b。外加在这六个固定电极片23a、23b~25a、25b上的电压例如能设定为16位左右的多级的值。而基极22设定为接地电位。
作为驱动部5c的可动部一侧,三个轭27~29分别由1对铰链26安装,还设置有用于把这些轭27~29连结在微小反射镜5b上的中间连结构件30。本实施方式的铰链26与基极22接合为一体。
轭27~29与对应的固定电极23~25相对,分别作为可动电极工作。通过把铝(Al)或多晶硅等的导电性构件构图,形成轭27~29,与基极22导通,设定为接地电位。轭27~29分别在与固定电极片23a、23b~25a、25b相对的位置具有第一部分27a~29a和第二部分27b~29b。轭27~29彼此为同一形状,只要不预先说明,关于一个轭的说明内容也适用于其它轭。
把轭28支撑为以转动轴A1为中心自由旋转,把轭27、29支撑为以转动轴A2为中心自由旋转。如果与转动轴A1(或A2)正交的方向为x,在x方向相邻的驱动部的间隔为p,则转动轴A1和转动轴A2彼此设置为在x方向错开半个间隔(=p/2)的位置。这样在y方向相邻的轭彼此的转动轴在x方向错开半个间隔,排列为方格花纹。支撑轭27的铰链26沿着轭28和相邻的驱动部28’之间的间隙配置。通过这样构成,不会碰上相邻的轭,能延伸铰链26的y方向的长度。因此可以降低与轭的转动相关的铰链26的弹簧指数,并且能把与转动力直接相关的轭的面积下降抑制在最下限度。象本实施方式那样,铰链26和轭27~29以同一工艺形成,材料和厚度变为同一时,通过这样的结构,能同时确保轭27~29的刚性和铰链26的柔软性。
当对固定电极片23a提供驱动电压时,轭27的第一部分27a被吸引到固定电极片23a一侧。而对固定电极片23b提供驱动电压时,第二部分27b被吸引到固定电极片23b一侧。这样,以转动轴A为中心,对于CW(顺时针)方向、CCW(逆时针)方向的任意一个,都能有选择地付与转动力。
在第一部分27a的浮动端附近的驱动点27c(用斜线表示),轭27与中间连结构件30的突起30a结合。此外,在驱动点27c的附近设置贯通轭27的沟孔27d。该沟孔27d同时产生以下的两个效果。第一个效果是缓和轭27~29分别变位时产生的扭转应力,防止轭间的变位量的串扰的效果。第二个效果是取得驱动点27c的向上(z方向正)和向下(z方向负)的变位量的平衡的效果。因为设置沟孔27d,所以第一部分27a的面积比第二部分27b的面积小,围绕转动轴A2产生的转动扭矩在CCW方向比CW方向还小。因此,考虑伴随着围绕转动轴A2的转动的驱动点27c的变位时,向上的变位比向下的变位大。而作用于轭27和固定电极23之间的静电引力不仅对铰链26提供单纯的转动变形,而且提供向下的挠曲变形。它在驱动固定电极片23a和23b的任意一个时,也对驱动片27c提供向下的变位。驱动片27c的变位成为伴随着这些转动的变位与伴随着挠曲的变位的和,所以向上和向下的变位的差彼此抵消,改善向两方向的变位量的平衡。并且转动变位和挠曲变位都与静电引力成一次比例,所以,如果按照铰链26的扭转刚性和挠曲刚性的大小,适当设定沟孔27d的面积,则跨宽阔的变位范围,能发挥改善平衡的效果。须指出的是,在本实施例中,通过设置沟孔27d,实现这两个效果,但是如果减小向吸引驱动点27c的方向的转动扭矩,就能用任意结构实现相同的效果。这包含使第一部分27a的面积比第二部分27b小或使固定电极片23a的面积比固定电极片23b小的结构。通过这样的结构,按照外加在固定电极片23a、23b上的电压,能在向上、向下都以良好的对称性控制驱动点27c的变位量。
中间连结构件30具有3点的突起30a~30c,突起30a与轭27的驱动点27c连结,突起30b与轭28的驱动点28c连结,突起30c与轭29的驱动点29c连结。因此,如果使轭27~29分别转动驱动,就能独立控制突起30a~30c的变位,据此,决定中间连结构件30的姿态。在突起30a~30c的附近设置贯通中间连结构件30的沟孔32a~32c。沟孔32a~32c与轭27~29的沟孔27d~29d同样,缓和轭27~29分别个别变位时产生的扭转应力,防止轭间的变位量的串扰。
微小反射镜5b从与衬底5a不同的SOI衬底形成,通过突起33与中间连结构件30的斜线部31通过Au接合。微小反射镜5b和中间连结构件30结合为一体,所以微小反射镜5b的姿态由中间连结构件30的姿态决定。在x方向相邻的微小反射镜5b的间隔为p,x方向的反射镜长度为L。
根据这样的结构,如果适当选择固定电极片23a、23b~25a、25b,独立设定驱动电压,则关于z方向的变位、围绕x轴的倾斜、围绕y轴的倾斜,能在正负上方向驱动微小反射镜5b。
下面,参照图3和图4,说明用于提高可变形反射镜5的波阵面的折线近似精度的驱动点27c~29c的坐标位置。图3是表示可变形反射镜5的驱动点和波阵面近似精度的关系的说明图。这里,为了简化说明,首先用一维的曲线图说明。
最初,参照图3(a)说明一般的波阵面的折线近似方法。
在图3(a)中,横轴是可变形反射镜5的x方向的坐标位置,纵轴是波阵面的相位。在可变形反射镜5成为修正目标的相位函数Ψ由双点划线表示。相位函数Ψ如上所述,由坐标位置x的函数形式提供。可变形反射镜5的微小反射镜5b能控制对衬底5a的变位和倾斜,所以用折线近似再现该相位函数Ψ。微小反射镜5b的相邻间隔为p,所以对各间隔p取坐标点xj(j为整数),连结对于相邻的两个坐标点xj、xj+1的相位函数Ψ的值Ψ(xj)、Ψ(xj+1),能求出微小反射镜5b的变位和倾斜。用实线表示该近似折线Ψ’。该方法的演算量小,能实现高速的计算处理,但是波阵面误差大。
作为其它折线近似方法,对各区间[xj、xj+1],能用最小二乘法求出从相位函数Ψ的误差为最小的变位和倾斜。根据该方法,能减小波阵面误差,但是演算量增多。
因此,参照图3(b),说明以少的演算量提高精度的波阵面的折线近似方法。这里,在区间[xj、xj+1]内取两个坐标点xj,a、xj,b。坐标点xj,a、xj,b关于反射镜中心,位于对称的位置,彼此位于分开d的距离。把该距离d的值设定为适当的值,考虑反射镜面规定为通过坐标(xj,a,Ψ(xj,a))和(xj,b,Ψ(xj,b))两点的线段。
图3(c)描绘区间[xj、xj+1]中的相位函数Ψ的曲率半径R和波阵面误差为极小的距离d的值的关系。反射镜的大小为L,无量纲的曲率半径R/L为横轴,波阵面误差为极小的无量纲的距离d/L为纵轴。波阵面误差定义为长度L的反射镜内的误差的二乘的定积分值∫(Ψ-Ψ’)2dx的平方根。相位函数Ψ的曲率半径R能取任意的值,但是从图3(c)可知,波阵面误差为极小的无量纲距离d/L几乎不依存于无量纲的曲率半径R/L,取一定值,约为0.58。因此,如果使设定为距离d=0.58L的坐标点xj,a、xj,b与可变形反射镜5的驱动点的坐标位置一致,各驱动点的变位目标值为Ψ(xj,a)、Ψ(xj,b),与使用最小二乘法的方法同程度地能使波阵面误差极小化,能从相位函数Ψ直接计算驱动点的变位目标值,所以能极大地减少演算量。
参照图4说明把所述事项扩展为二维模型时的情形。图4是以二维表示可变形反射镜5的驱动点和波阵面近似精度的关系的说明图。
图4(a)是可变形反射镜5的俯视图,记载了微小反射镜5b和驱动点27c~29c。驱动点27c~29c实质上位于以微小反射镜5b的中心为中心的直径d的圆周上。
图4(b)描绘微小反射镜5b内的相位函数Ψ的曲率半径R和波阵面误差为极小的距离d的值的关系。微小反射镜5b为1边的长度L的正方形,无量纲的曲率半径R/L为横轴,波阵面误差为极小的无量纲直径d/L为纵轴。把波阵面误差定义为L×L的反射镜面内的误差的二乘的定积分值∫∫(Ψ-Ψ’)2dxdy的平方根。
用实线表示相位函数Ψ为球面时的结果。波阵面误差为极小的无量纲距离d/L几乎不依存于无量纲的曲率半径R/L,为一定值,约为0.82。此外,用虚线表示刚才的1维模型的结果。它相当于相位函数Ψ只在x方向具有曲率,在y方向不具有曲率的圆筒面的情形,但是如上所述无量纲直径d/L为0.58。如果相位函数Ψ为球面时,扁平率为0,相位函数Ψ为圆筒面时,扁平率为1,则一般的波阵面具有中间的扁平率。因此,如图的斜线部所示,无量纲直径d/L的范围可以为0.58以上,0.82以下。
通过这样把驱动点27c~29c配置在以微小反射镜5b的中心点O为中心的直径d=0.58L的第一圆和直径d=0.82L的第二圆之间的区域内,能提高波阵面误差的近似精度。对相位函数Ψ的函数输入各驱动点的坐标位置(x,y),直接计算驱动点27c~29c的变位目标值,所以演算量极少。如图4(a)所示,在本实施方式中,把驱动点的坐标位置设置为平行向量(p/2,p/4)、(p/2,-p/4)的单纯的格子形状。因此,只通过单纯的增加计算,就能实施对全部可变形反射镜5的坐标点的设定。
下面,参照图5、图6说明光检测器11的细节。图5是本实施方式的光检测器11的感光部的俯视图。光检测器11是PIN光电二极管阵列。
如图5(a)所示,光检测器11具有与用于检测像差的差动信号S1~S4对应的感光区域41a、41b~44a、44b、与用于检测盘信息的信号S5对应的感光区域45。
感光区域41a、41b分别对检测伴随着盘基体材料厚度变化的球面像差模式M1的+1次光、-1次光感光。感光区域42a、42b分别对检测伴随着盘的径向倾斜的球面像差模式M2的+1次光、-1次光感光。区域43a、43b分别对检测伴随着盘的切向倾斜的球面像差模式M3的+1次光、-1次光感光。感光区域44a、44b分别对检测伴随着物镜6的散焦的球面像差模式M4的+1次光、-1次光感光。
图5(b)表示感光区域41a的放大图。其它感光区域的构造基本上相同。感光区域41a由6×6个独立的感光元件41a(1,1)~41a(6,6)构成。向各感光元件41a(1,1)~41a(6,6)的布线由ITC)等的透明电极或下层的布线层的转接布线进行,布线设置为不经过感光元件间的间隙内。据此,提高感光元件的有效感光面积。
斜线部表示无像差时的光点A0的大小,该光点A0的爱里斑(Airydisk)半径为r0。感光元件的大小Le设置为比爱里斑半径r0还小的值。在检测感光区域41的光量时,只使用这些感光元件41a(1,1)~41a(6,6)中位于光点A0的中心部的。在图示的状态下,有效检测来自41a(3,3)、41a(3,4)、41a(4,3)、41a(4,4)等四个感光元件的输出信号。例如伴随着温度变化等,当光点A0的中心位置偏移时,新使用偏移的中心位置附近的4个感光元件。这样,从多个微小的感光元件中选择有效工作的感光元件,能只检测光点A0的中心附近的光强度。参照图6,说明该检测结构。
图6是本实施方式的光检测器11的检测电路的概略结构图。这里,以区域41a、41b为例进行说明,但是关于其它感光区域,也几乎同样。切换部45a具有连接在感光区域41a内的感光元件41a(1,1)~41a(6,6)端子上的36个开关45a1~45a36、连接在接地端子46a上的开关45a37,选择任意的端子,与差动放大器47的+侧输入连接。切换部45b具有连接在感光区域41b内的感光元件41b(1,1)~41b(6,6)端子上的36个开关45b1~45b36、连接在接地端子46b上的开关45b37,选择任意的端子,与差动放大器47的-侧输入连接。
由差动放大器47放大的输出由AD转换器48数字化,输出到控制电路12。
在装置的起动时、或由未图示的温度传感器检测到装置的给定值以上的温度变化时,控制电路12为了修正光点的位置偏移,进行感光元件的选择动作。这时,光源1工作,光检测器11处于对来自光盘7的反射光感光的状态。
最初说明感光区域41a一侧的感光元件的选择。首先,切换部45b只使开关45b37接通,把差动放大器47的-侧输入与接地端子46b连接。在该状态下,切换部45a一边一个一个按顺序切换开关45a1~45a36,一边一个一个接通。这样,感光元件41a(1,1)~41a(6,6)的各输出由差动放大器47放大,由AD转换器48数字化。各感光元件的输出数据保持在控制电路12的存储器中。这些输出数据表示感光区域41a内的光量分布。控制电路12比较各输出数据,判断取得最大光量的部分为光点中心,把该光点中心周围的4个感光元件决定为选择对象。
感光区域41b一侧的感光元件的选择也完全同样进行。即切换部45a只使开关45a37接通,把差动放大器47的+侧输入连接在接地端子46b上。在该状态下,切换部45b一边一个一个按顺序切换开关45b1~45b36,一边一个一个接通。这样,感光元件41b(1,1)~41b(6,6)的各输出由差动放大器47放大,由AD转换器48数字化。各感光元件的输出数据保持在控制电路12的存储器中。这些输出数据表示感光区域41b内的光量分布。控制电路12比较各输出数据,判断取得最大光量的部分为光点中心,把该光点中心周围的4个感光元件决定为选择对象。
如果这样结束感光元件的选择,控制电路12就对切换部45a、45b指示像差检测信号S1。切换部45a把连接在选择的四个感光元件的端子上的开关接通,与差动放大器47的+侧输入连接。同样,切换部45b把连接在选择的四个感光元件的端子上的开关接通,与差动放大器47的-侧输入连接。
这样,从差动放大器47能取得从感光区域41a、41b分别选择的感光元件的差动放大输出。作为把它用AD转换器48数字化的数据,取得像差检测信号S1。
只要不从控制电路12要求光点位置的再修正,切换部45a、45b就总保持该连接,信息装置的记录和再现动作中总输出有效的像差检测信号S1。因此,能进行响应性高的像差检测。
此外,因为能对应光点的位置偏移,所以大幅度缓和光检测器11的组装调整精度,并且对伴随着温度特性等信息装置的状态变化的光点位置偏移也强,能提高装置的可靠性。
切换部45设置在感光元件和差动放大器47之间,所以差动放大器47或AD转换器48对于感光元件数,能大幅度削减。因此,电路结构变得极端简洁,能实现电路成本的降低和省电化。
也用与所述同样的结构生成信号S2~S4。信号S5的不同点只在于不是差动信号,由同样的结构生成。信号S5也采用只是用这样的微小有效感光区域的共焦点光学结构,所以能减少来自多层盘的其它层的杂散光的影响。
须指出的是,这里,说明有效工作的感光元件为4个,固定在正方形的配置中的情形,但是它可以按像差模式改变数量或配置形状,或按时间系列变化。最初,增多有效工作的感光元件数,设定为光点位置稍微偏移时,也能进行像差的粗调整,这样的像差的粗调整和光点位置的检测结束后,减少有效工作的感光元件数,进行精密的调整。这在减少过渡性产生的大像差使光点位置的检测精度降低时,使像差和光点位置双方迅速收敛到目标精度,提高动作可靠性上具有效果。
此外,关于装置的组装误差引起的光点中心位置的偏移,预先测定组装后的光点中心位置,保存在控制电路12内的ROM存储器中,在装置的起动时读出该值,使用。
再次参照图1,说明本实施方式的信息装置的动作。
在装置的起动时,接通光源1,使可变形反射镜5为平坦的状态,把物镜6的焦点引入光盘7的记录层。该给定的记录层位于最上层和最下层的中间位置,是设计为在变形反射镜5为平坦的状态下,物镜6的球面像差为最小的位置。这里,进行光检测器11的光点位置检测,决定有效工作的感光元件。
然后,使物镜6移动到实际进行数据的记录再现的记录层的目标磁道上。从全体控制部15,根据这时的跟踪控制信号Tr,输出物镜6的透镜移位量x0。而从光检测器11输出像差信号S1~S3,在波阵面演算部13中,使用它,输出换算到可变形反射镜5面上的相位函数Ψ(x,y)。
相位函数Ψ(x,y)用透镜移位修正演算部14加上与透镜移位量x0相应的错开变换Ψ(x-x0,y),它成为控制可变形反射镜5时的目标波阵面。波阵面修正控制部16在目标波阵面的相位函数Ψ(x-x0,y)中带入各微小反射镜5b的驱动点的坐标位置,决定目标变位,乘以给定的增益常数,进行闭环控制。据此,修正伴随着光盘7的基体材料厚度变化和倾斜的波阵面像差模式M1~M3。
如上所述,关于伴随着光盘7的基体材料厚度变化和倾斜的波阵面像差模式M1~M3和散焦引起的像差模式M4,使用检测的各像差模式彼此正交的光检测器11,进行波阵面检测,关于与这些像差模式M1~M4不正交的透镜移位要因的像差,不直接测定它,检测物镜6的透镜移位量x0,仅以这部分把相位函数Ψ(x,y)的坐标只错开x0,应用于可变形反射镜5。因此,用简单的结构能防止像差检测时的模式间的干涉,能提高近似精度。
像差模式M1~M4与Zernike多项式的基本函数Zi同样,关于坐标轴的转动,是不变的。即M1、M4是旋转对称的,能用M2和M3的组合表现M2、M3旋转取得的模式。用在关于坐标轴的转动不变的系统修正透镜移位,所以需要直到高次的多个像差模式,但是根据所述结构,只用像差模式的组合,高精度的像差修正就成为可能。
下面,参照图7,说明透镜移位量x0取任意小的值,也能实现适当的波阵面修正。图7是表示存在透镜移位量x0时的可变形反射镜5的修正波阵面的说明图。这里,为了简单化,用1维的曲线图说明。
在图7(a)中,首先表示透镜移位量x0正好等于微小反射镜5b的间隔p时。
在图中的左侧曲线中,用单点划线表示没有透镜移位时的相位函数Ψ(x,y),用虚线表示可变形反射镜5的修正波阵面形状。驱动点xj,a、xj,b的目标变位量分别是Ψ(xj,a)、Ψ(xj,b)。此外,在图中右侧的曲线中,用双点划线表示透镜移位量为p时的相位函数Ψ(x-p,y),用实线表示可变形反射镜5的修正波阵面形状。驱动点xj+1,a、xj+1,b的目标变位量分别是Ψ(xj+1-p,a)、Ψ(xj+1-p,b)。
从图中可知,但是透镜移位量x0正好等于微小反射镜5b的间隔p时,可以把没有透镜移位时的驱动点xj,a、xj,b的目标变位量Ψ(xj,a)、Ψ(xj,b)错开到相邻的微小反射镜的驱动点xj+1,a、xj+1,b,应用。这时,很清楚没有伴随着透镜移位的可变形反射镜5的修正波阵面精度的恶化。
在图7(b)中,表示透镜移位量x0是比微小反射镜5b的间隔p小的α·p(α<1)的情形。
在图中左侧的曲线中,用单点划线表示没有透镜移位时的相位函数Ψ(x,y),用虚线表示可变形反射镜5的修正波阵面形状。驱动点xj,a、xj,b的目标变位量分别是Ψ(xj,a)、Ψ(xj,b)。此外,在图中右侧的曲线中,用双点划线表示透镜移位量为α·p时的相位函数Ψ(x-α·p,y),用实线表示可变形反射镜5的修正波阵面形状。驱动点xj+1,a、xj+1,b的目标变位量分别是Ψ(xi+1-α·p,a)、Ψ(xi+1-α·p,b)。
这里,进行透镜移位时的驱动点xj+1,a、xj+1,b的目标变位量Ψ(xj+1-α·p,a)、Ψ(xj+1-α·p,b)与没有透镜移位时的目标变位量Ψ(xj,a)、Ψ(xi,b)不同,提高波面近似精度。
这样,当透镜移位量x0比微小反射镜5b的间隔p还小时,以多级控制各微小反射镜5b的目标变位量,把目标变位置错开,所以不使波面近似精度下降,能修正波阵面的透镜移位。因此,对于任意的微小的透镜移位量x0,能够进行波振面的透镜移位补正。
如上所述,本实施方式的信息装置中,根据光检测器11的输出,波阵面演算部13生成进行光束的坐标位置和波阵面相位的关联的相位函数Ψ(x,y),透镜移位修正演算部14按照透镜移位量x0,生成变更坐标位置和波阵面相位的关联的相位函数Ψ(x-x0,y),根据该相位函数Ψ(x-x0,y),波阵面修正控制部16控制可变形反射镜5。根据该结构,不需要用于修正透镜移位的专用构件,只用演算处理就能进行修正动作。此外,伴随着透镜移位的修正动作,实际变位的只是微小反射镜5b,它质量小,变位量小,是nm级,所以极高速的跟踪响应成为可能。此外,没有进行透镜移位的修正时的波阵面修正精度恶化,对任意波阵面能应用同一处理。对于任意微小的透镜移位量,也能修正透镜移位。
须指出的是,在本实施方式中,关于光检测器11检测时的像差模式、波阵面演算部13再现相位函数Ψ(r,θ)时的像差模式,公共使用由(表达式1)~(表达式3)表示的M1~M3,但是也考虑此外的结构。例如光检测器11使用(表达式5)~(表达式7)所示的Zernike多项式的像差模式Zi,检测相差,波阵面演算部13使用由(表达式1)~(表达式3)表示的Mi再现相位函数Ψ(r,θ)。如果预先求出像差模式Zi和像差模式Mi之间的相关关系,就能以这样的结构取得一定的效果。
(实施方式2)
下面,参照图8,说明本发明的信息装置的实施方式2。图8是实施方式的信息装置的概略结构图。
在本实施方式中,光源1、视准透镜2、可变形反射镜5、物镜6、光盘7、物镜促动器8、光检测器11、控制电路12、波阵面演算部13、透镜移位修正演算部14、全体控制部15、波阵面修正控制部16与实施方式1中说明的同样。
从光源1射出的光束由视准透镜2变换为平行光束,入射到半透半反镜50。光束中透过半透半反镜50的成分输入到偏振分光镜51,其中的P偏振光成分透过偏振分光镜51,由1/4波长板52变换为圆偏振光。该光束由可变形反射镜5反射,把相位调制,再次透过1/4波长板52,变换为S偏振光成分。
该S偏振光成分由偏振分光镜51反射,入射到物镜6,汇聚到光盘7的记录层上。由光盘7的记录层反射的光束再度通过物镜6、偏振分光镜51、1/4波长板52,入射到可变形反射镜5。由可变形反射镜5反射的光束被调制相位,再次透过1/4波长板52,变换为P偏振光成分,入射到半透半反镜50。
该光束中由半透半反镜50反射的成分由全息图53和光检测器11构成的波阵面传感器检测波阵面。全息图53设置为与光检测器11接合为一体。
全息图53形成与实施方式1中说明的把全息图9和透镜10加在一起相同的聚光点对。即关于由(表达式1)~(表达式4)表示的像差模式Mi、其偏置系数Bi,形成付与+BiMi的偏置像差的光点、付与-BiMi的偏置像差的光点。此外,也同时形成用于检测由光盘7的预凹坑和记录标记调制的信号S5的光点。
根据本实施方式,因为光束垂直入射可变形反射镜5,所以能简化与波阵面演算部13的反射镜位置对应的坐标计算。此外,因为采用全息图53和光检测器11一体的结构,所以简化结构,简化组装调整步骤,并且能有效防止温度变化等引起的聚光点的位置偏移。
(实施方式3)
下面,参照图10,说明本发明的信息装置实施方式3。图10是本实施方式的信息装置的概略结构图。
在本实施方式,光源1、视准透镜2、偏振分光镜3、1/4波长板4、可变形反射镜5、物镜6、光盘7、物镜促动器8、透镜10、透镜移位修正演算部14、波阵面修正控制部16的结构和动作与实施方式1的信息装置具有的对应部分的结构和动作相同。
从光盘7返回偏振分光镜3的光束反射,通过透镜10,由柱面透镜20付与象散,入射到光检测器11b。光检测器11b具有未图示的四个感光部,根据象散,生成聚焦误差信号,并且通过推挽法,生成跟踪误差信号。聚焦误差信号和跟踪误差信号输入到全体控制部15b。
全体控制部15b计算光盘7的记录层的基体材料厚度变化量和记录层的倾斜量,根据这些量,决定基本函数M1~M3的系数A1~A3。
波阵面演算部13b从全体控制部15b取得表示基本函数M1~M3的系数A1~A3的信号,计算相位函数Ψ(x,y)。表示相位函数Ψ(x,y)的信号发送给透镜移位修正演算部14。
图11是表示全体控制部15b决定系数A1~A3的步骤的程序流程图。
在图11所示的步骤ST01中,判别光盘7的种类。如果光盘7插入装置,就迅速执行步骤ST01。在步骤ST02中,根据步骤ST01的判别结果,从未图示的存储器中存储的各种盘信息中读出对应的盘信息。在盘信息中包含光盘7具有的记录层数、各记录层的基体材料厚度(记录层的深度)的值。
在步骤ST03中,计算进行记录再现的层的基体材料厚度变化量。物镜6设计为在给定的基体材料厚度,球面像差变为最小,球面像差的大小与基体材料厚度与实施记录再现的记录层的基体材料厚度的差即基体材料厚度变化量成比例产生。
在步骤ST04中,计算基本函数M1的系数A1。通过对基体材料厚度变化量乘以预先设定的比例常数,计算系数A1。
在步骤ST05中,物镜6移动到光盘7的内周一侧。在步骤ST06中,在内周一侧驱动物镜促动器8,对于应该进行记录再现的记录层,对焦。把这时的物镜促动器8的聚焦方向的驱动量C1记录到未图示的存储器中。
在步骤ST07中,把物镜6向外周一侧移动给定的距离D。在步骤ST08中,与步骤ST06同样,对于应该进行记录再现的记录层,对焦,把这时的物镜促动器8的聚焦方向的驱动量C2记录到未图示的存储器中。
在步骤ST09中,根据物镜促动器驱动量C1和C2和距离D,计算记录层的倾斜量。把物镜促动器驱动量C1和物镜促动器驱动量C2的差除以距离D,能取得记录层的倾斜量。
在步骤ST10中,计算基本函数M2、M3的系数A2、A3。通过对记录层的倾斜量乘以预先设定的比例常数,计算系数A2、A3。
根据本实施方式,不使用波阵面传感器,生成波阵面函数,所以能以简易的结构实现光检测部。须指出的是,光盘7中包含的各记录层的基体材料厚度(记录层深度)的决定方法并不局限于所述方法。例如可以根据物镜促动器8对各记录层对焦时的各驱动量,计算各记录层的基体材料厚度。例如另外设置检测光盘7的倾斜量的倾斜传感器,根据它的输出,计算。
这样,在本实施方式中,未使用波阵面传感器,但是决定作为波阵面修正机构起作用的可变形反射镜的各修正要素(微小反射镜)的状态后,如果检测物镜光轴对于光束光轴的位置偏移量,就能恰当修正各可变形反射镜的状态,从而补偿该位置偏移。
本发明中的重点在于:按照透镜移位,再构成作为波阵面修正机构工作的元件的状态。检测光束的波阵面,也能决定作为波阵面修正机构工作的元件的初始状态,但是也能根据光盘的倾斜(翘起)、光盘记录层离表面的深度(基体材料厚度),决定。光盘的倾斜(翘起)是补偿彗差所必要的信息,光盘的基体材料厚度是补偿球面像差所必要的信息。
根据本发明的优选实施方式,适当最优化可变形反射镜的反射面的形状(微小反射镜的状态),使所述像差为最小限度,此后当产生透镜移位时,进行与透镜移位相应的修正。
须指出的是,在所述各实施方式中,作为波阵面修正机构,使用具有多个能在衬底上微小变位的反射镜的可变形反射镜,但是代替这样的元件,可以使用在光束的截面内能形成所需的折射率分布的液晶元件。
本发明广泛应用于在产生透镜移位的状况下,需要像差修正的光盘装置等信息装置中。

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一种信息装置,用光束对光盘写入数据和/或从光盘读出数据,包括:生成所述光束的光源;把所述光束汇聚到光盘上的物镜;检测光束的波阵面的波阵面传感器;检测物镜的光轴对光束光轴的位置偏移量的透镜移位检测机构;把局部修正光束的波阵面的修正要素排列为二维阵列状,各修正要素彼此独立驱动的波阵面修正机构;根据波阵面传感器的输出,进行光束的截面的各坐标位置和光束的波阵面相位的关联的波阵面演算机构;根据透镜移位检测机。

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