平行光曝光机的机架结构.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201310561114.9

申请日:

2013.11.13

公开号:

CN104635425A

公开日:

2015.05.20

当前法律状态:

撤回

有效性:

无权

法律详情:

发明专利申请公布后的视为撤回IPC(主分类):G03F 7/20申请公布日:20150520|||公开

IPC分类号:

G03F7/20

主分类号:

G03F7/20

申请人:

无锡新奇特钣金机械有限公司

发明人:

韩懿琰

地址:

214000江苏省无锡市新区鸿山镇鸿声马桥村前房桥

优先权:

专利代理机构:

无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙)32227

代理人:

顾吉云

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内容摘要

本发明涉及平行光曝光机的机架结构,包括矩形的底座,底座包括底部框架及固定连接在底部框架上的底板,底部框架上设有互相连接的主机机架及工作机架,靠近隔板的两个长立柱内侧四分之一高度处分别连接有第一下球面镜支撑耳,靠近隔板的两个长立柱内侧四分之三高度处分别连接有第一上球面镜支撑耳;位于底座短边上的长立柱的底端内侧分别设有与第一下球面镜支撑耳相配套的第二下球面镜支撑耳,位于底座短边上的长立柱的顶端内侧分别设有与第一上球面镜支撑耳相配套的第二上球面镜支撑耳。本发明的平行光曝光机的机架结构,其有益效果是:结构强度较高,稳定性较高,布局合理,满足了平行光曝光机的需求。

权利要求书

权利要求书
1.  平行光曝光机的机架结构,包括矩形的底座,其特征在于,所述底座包括底部框架及固定连接在所述底部框架上的底板,所述底部框架上设有互相连接的主机机架及工作机架,所述主机机架与所述工作机架之间设有隔板,所述隔板具有线路孔,所述主架机架包括固定安装在所述底部框架上的四个长立柱,相邻长立柱的顶端分别通过上横梁固定连接,
所述工作机架包括固接在所述底部框架上的四个短立柱,其中两个短立柱与所述长立柱固定贴合,相邻短立柱的顶端分别通过连接梁固定连接,位于所述底座长边两侧的连接梁上分别固定设有扶手,位于所述底座长边两侧的长立柱之间固定夹持有台框安装板,所述台框安装板的高度与所述扶手的高度大致相等;
靠近所述隔板的两个长立柱内侧四分之一高度处分别连接有第一下球面镜支撑耳,靠近所述隔板的两个长立柱内侧四分之三高度处分别连接有第一上球面镜支撑耳;位于所述底座短边上的长立柱的底端内侧分别设有与所述第一下球面镜支撑耳相配套的第二下球面镜支撑耳,位于所述底座短边上的长立柱的顶端内侧分别设有与所述第一上球面镜支撑耳相配套的第二上球面镜支撑耳。

2.  如权利要求1所述的平行光曝光机的机架结构,其特征在于,所述主机机架的长度与所述工作机架的长度相等,所述主机机架的宽度与所述工作机架的宽度相等。

说明书

说明书平行光曝光机的机架结构
技术领域
本发明涉及一种机架结构,尤其涉及平行光曝光机的机架结构,属于曝光机设备技术领域。
背景技术
曝光机是集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备,70 年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业,是在计算机的控制下,利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光。
平行光曝光机是曝光机的一种,其光源为平行光源。平行光曝光机的机架结构较普通的机架要求更高,要求有良好的结构强度以及稳定性,同时需要有合理的布局节省空间,而现有技术中一般的机架结构并不能满足平行光曝光机的需求。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的问题,提供一种平行光曝光机的机架结构,其结构强度较高,稳定性较高,布局合理,可满足平行光曝光机的需求。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现:
平行光曝光机的机架结构,包括矩形的底座,所述底座包括底部框架及固定连接在所述底部框架上的底板,所述底部框架上设有互相连接的主机机架及工作机架,所述主机机架与所述工作机架之间设有隔板,所述隔板具有线路孔,所述主架机架包括固定安装在所述底部框架上的四个长立柱,相邻长立柱的顶端分别通过上横梁固定连接,
所述工作机架包括固接在所述底部框架上的四个短立柱,其中两个短立柱与所述长立柱固定贴合,相邻短立柱的顶端分别通过连接梁固定连接,位于所述底座长边两侧的连接梁上分别固定设有扶手,位于所述底座长边两侧的长立柱之间固定夹持有台框安装板,所述台框安装板的高度与所述扶手的高度大致相等;
靠近所述隔板的两个长立柱内侧四分之一高度处分别连接有第一下球面镜支撑耳,靠近所述隔板的两个长立柱内侧四分之三高度处分别连接有第一上球面镜支撑耳;位于所述底座短边上的长立柱的底端内侧分别设有与所述第一下球面镜支撑耳相配套的第二下球面镜支撑耳,位于所述底座短边上的长立柱的顶端内侧分别设有与所述第一上球面镜支撑耳相配套的第二上球面镜支撑耳。
进一步地,所述主机机架的长度与所述工作机架的长度相等,所述主机机架的宽度与所述工作机架的宽度相等。
本发明所述的平行光曝光机的机架结构,其有益效果是:结构强度较高,稳定性较高,布局合理,满足了平行光曝光机的需求。
附图说明
图1为本发明所述平行光曝光机的机架结构的立体结构图;
图2为本发明所述平行光曝光机的机架结构的主视图;
图3为图2的右视图。
具体实施方式
下面根据附图和实施例对本发明作进一步详细说明。
如图1、图2及图3所示,本发明实施例所述的平行光曝光机的机架结构,包括矩形的底座10,底座10包括底部框架11及固定连接在底部框架11上的底板12,底部框架11上设有互相连接的主机机架20及工作机架30,主机机架20与工作机架30之间设有隔板40,隔板40具有线路孔41,主架机架20包括固定安装在底部框架11上的四个长立柱21,相邻长立柱21的顶端分别通过上横梁22固定连接。
工作机架30包括固接在底部框架11上的四个短立柱31,其中两个短立柱31与长立柱21固定贴合,相邻短立柱31的顶端分别通过连接梁32固定连接,位于底座10长边10a两侧的连接梁32上分别固定设有扶手33,位于底座10长边10a两侧的长立柱21之间固定夹持有台框安装板23,台框安装板23的高度与扶手33的高度大致相等。
靠近隔板40的两个长立柱21内侧四分之一高度处分别连接有第一下球面镜支撑耳51,靠近隔板的两个长立柱内侧四分之三高度处分别连接有第一上球面镜支撑耳61;位于底座10短边10b上的长立柱21的底端内侧分别设有与第一下球面镜支撑耳51相配套的第二下球面镜支撑耳52,位于底座10短边10b上的长立柱21的顶端内侧分别设有与第一上球面镜支撑耳61相配套的第二上球面镜支撑耳62。
主机机架20的长度与工作机架30的长度相等,主机机架20的宽度与工作机架30的宽度相等。
以上所述仅为说明本发明的实施方式,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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资源描述

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本发明涉及平行光曝光机的机架结构,包括矩形的底座,底座包括底部框架及固定连接在底部框架上的底板,底部框架上设有互相连接的主机机架及工作机架,靠近隔板的两个长立柱内侧四分之一高度处分别连接有第一下球面镜支撑耳,靠近隔板的两个长立柱内侧四分之三高度处分别连接有第一上球面镜支撑耳;位于底座短边上的长立柱的底端内侧分别设有与第一下球面镜支撑耳相配套的第二下球面镜支撑耳,位于底座短边上的长立柱的顶端内侧分别。

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