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低辐射膜及其制造方法
    本发明涉及一种低辐射膜。同时本发明也涉及了低辐射膜的制造方法。

    低辐射膜广泛应用于建筑门窗，汽车挡风玻璃等领域。对低辐射膜的要求主要有两方面：一是既要使可见光透过率高，同时又反射红外光，二是膜系具有较好的抗划痕和抗侵蚀性能。在膜系的各层中有一金属层作为红外光反射层，金属选自Ag，Cu，Au，Al。其中又以Ag最常用。在低辐射膜系的制造过程中，容易出现的一个问题是金属层的氧化。这是在金属层之上镀另一金属氧化物层时，由于该金属氧化物层是通过金属在氧气氛围中通过反应溅射形成的，其中的氧气可对金属层产生氧化。为解决这一问题，美国专利公告日1994年3月22日公告号US5,296,302提出了一个解决办法：即在金属层与金属氧化物层之间，增加一层。首先将Ti镀在金属层之上，该Ti层在镀金属氧化物层时，起到保护金属层的目的。此种方法的弊端是要增加工序，同时对可见光的透过产生不良影响。另一方面，传统的金属氧化物层是通过金属靶通过直流反应溅射形成的，这样的方法在形成第一层金属氧化物时，由于对该层厚度要求不严格，靶的毒化对膜的光学性能影响不大。但是，现有技术中，对金属反射层上面的金属氧化物层的厚度要求很严格，在完成该层的镀膜过程中，往往造成金属靶的毒化。从而使得金属氧化物的膜层厚度达不到光学性能要求。

    本发明的目的是提供一种制造工艺较简单，性能良好的低辐射膜。

    本发明地另一目的是提供制造上述低辐射膜的制造方法。

    本发明提供的低辐射膜，从靠基材的一层开始，共有三层，依次是：金属氧化物层，金属反射层和ITO层，其中的金属氧化物层是选自Ti，Zn，Sn，Bi，In的金属氧化物中的一种或一种以上；金属反射层选自Ag，Au，Cu，Al中的一种；ITO是铟锡氧化物。

    在本发明提供的低辐射膜的制造工艺中，其每一层的镀膜方法和设备与现有技术基本相同，只是第三层ITO层的镀膜方法与现有技术中采用反应溅射不同，它是以ITO为靶材，采用真空非反应溅射的方式形成的。用这种方法使得在镀ITO膜层时，避免了金属反射层的氧化，也就免除了现有技术中需要在金属反射层外镀金属型防护层的步骤。同时，由于采用了非反应溅射，避免了靶的毒化，确保了工艺和膜层光学性能的稳定。

    关于膜层的厚度，本领域普通技术人员能够通过各层的材质推算出来，以达到良好的效果。

    本发明实施例以Ag为金属反射层，提供的低辐射膜具有好的可见光透过率，在550nm下透过率为80--88％；红外光反射率(2.5μm--15μm)为80--96％；辐射率为0.1--0.12。实施例1

    1.基材玻璃，厚度5mm，可见光透过率90％

    2.各膜层及其厚度：

    第1层TiO2 50--200A

    第2层Ag   120--130A

    第3层ITO  360--450A

    3.性能

    可见光透过率(550nm)84.9％

    红外光反射率(2.5μm--15μm)88％--96％

    辐射率0.1--0.12实施例2

    1.基材PET膜，厚度50μm，可见光透过率(550nm)90％

    2.各膜层及其厚度：

    第1层TiO2 50--200A

    第2层Ag   120--130A

    第3层ITO  360--450A

    3.性能

    可见光透过率(550nm)84.9％

    红外光反射率(2.5μm--15μm)88％--96％

    辐射率0.1--0.12