屋顶绿化防滑组合结构技术领域
本实用新型涉及园林建筑领域，更具体的说，它涉及一种屋顶绿化防滑组合结构。
背景技术
在现有绿化项目中，市场上经常有需要进行屋顶绿化的实际需求。对于平面屋顶而言，并不存在种植固定的问题；但是，对于坡面屋顶而言，经常会出现绿化种植土的滑坡、逸散以及整体结构不稳定等实际问题。
并且，在坡面屋顶的实际施工当中，也往往因为坡面的结构问题，而具有一定程度的安全隐患。现有技术中，授权公告号为CN203755559U的中国专利公开了一种屋顶绿化防滑结构，其包括坡面屋顶本体以及安装在所述坡面屋顶本体上的多组防滑基座，在所述防滑基座或坡面屋顶上设置或种植绿化单元，所述的多组防滑基座呈横排式布置或交错式布置。这种结构虽然能够一定程度上的解决屋顶防滑的问题。但是这种防滑基座是固定设置在坡面屋顶上的，在制造时，一般只能够在特定的屋面上浇筑成型，而无法实现普遍应用性，在不同面积的屋面上要使用该结构时，工厂无法实现批量生产来满足不同需求。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种屋顶绿化防滑组合结构，其具有拼接性，能够适用于不同面积的屋顶结构。
为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种屋顶绿化防滑组合结构，包括斜坡屋面本体，所述斜坡屋面本体上设置有若干个呈井字形设置的拼接单元，所述拼接单元的各个端部分别设置有凸块和凹槽，相邻的拼接单元通过凸块与凹槽的卡接实现拼接，各个拼接单元自带的中空区域和拼接形成的中空区域形成种植绿化区。
通过采用上述技术方案，将各个拼接单元相互拼接形成屋顶绿化防滑结构，其可选择的使用拼接单元，从而适应于不同面积的屋顶，提高了其适用性。
较佳的，所述斜坡屋面本体的上表面设有横向设置的第一防滑纹，所述拼接单元的底面设有与所述第一防滑纹相配合的第二防滑纹。
通过采用上述技术方案，增加了拼接单元与斜坡屋面本体之间的摩擦力，进而使得该拼接单元能够更好地设置在屋顶上；另外，第一防滑纹与第二防滑纹配合之后，能够形成两个拼接单元之间水流通的通道，进而使得各个拼接单元的水分能够流通，形成一个完整的水系统。
较佳的，所述凸块与凹槽均呈T形设置形成对相互拼接的两个拼接单元的平面约束。
通过采用上述技术方案，能够使连个拼接单元在二维的平面相互约束，两个拼接单元不会脱离。
较佳的，所述凸块和凹槽的厚度均为所述拼接单元的厚度的一半。
通过采用上述技术方案，能够降低凸块和凹槽的成型难度以及加工时间。
较佳的，所述凸块和凹槽之间设有限制相互连接的两个拼接单元上下位移的连接件。
通过采用上述技术方案，能够在三维空间内进一步限制两个拼接单元的相对位移，防止两个拼接单元在竖直方向上的相对跳动。
较佳的，所述连接件包括螺栓，所述凹槽的底部设置有螺纹孔，所述凸块上设置有连接孔，所述螺栓穿设过所述连接孔与所述螺纹孔螺纹连接。
通过采用上述技术方案，螺栓与连接孔以及螺纹孔的配合能够使得两个拼接单元实现固定。
本实用新型具有下述优点：本实用新型能够通过若干个拼接单元的拼接形成屋顶绿化防滑结构，从而能够适用在任何面积的屋顶上，其适用范围广。并且相邻的拼接单元之间的连接结构简单、稳定。
附图说明
图1为实施例的结构示意图；
图2为实施例的侧视图；
图3为实施例中两个拼接单元的装配示意图；
图4为图3的A部放大示意图。
图中：1、斜坡屋面本体；11、第一防滑纹；2、拼接单元；21、第二防滑纹；22、凸块；221、连接孔；23、凹槽；3、螺栓。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
实施例：一种屋顶绿化防滑组合结构，包括斜坡屋面本体1，斜坡屋面本体1上设置有若干个呈井字形设置的拼接单元2，拼接单元2的各个端部分别设置有凸块22和凹槽23，相邻的拼接单元2通过凸块22与凹槽23的卡接实现拼接，各个拼接单元2自带的中空区域和拼接形成的中空区域形成种植绿化区，种植绿化区内一般设置土壤层和植被。
其中，凸块22与凹槽23均呈T形设置形成对相互拼接的两个拼接单元2的平面约束，凸块22的一端固定连接在拼接单元2的端部，另一端平行于拼接单元2的边缘。凹槽23可以是贯穿拼接单元2的上下平面，那么，凸块22的厚度就与拼接单元2的厚度相等。或者，凸块22和凹槽23的厚度均为拼接单元2的厚度的一半，进而，凸块22和凹槽23之间设有限制相互连接的两个拼接单元2上下位移的连接件。该连接件包括螺栓3，凹槽23的底部设置有螺纹孔，凸块22上设置有连接孔221，螺栓3穿设过连接孔221与螺纹孔螺纹连接。
进一步的，斜坡屋面本体1的上表面设有横向设置的第一防滑纹11，拼接单元2的底面设有与第一防滑纹11相配合的第二防滑纹21。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。