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1、(10)申请公布号 CN 103109215 A(43)申请公布日 2013.05.15CN103109215A*CN103109215A*(21)申请号 201180044583.2(22)申请日 2011.09.162010-210140 2010.09.17 JPG02B 5/02(2006.01)F21V 3/04(2006.01)G02F 1/1335(2006.01)(71)申请人日东电工株式会社地址日本大阪府(72)发明人西村明宪 泷田智仁 渊田岳仁武本博之(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司 11021代理人王玉玲(54) 发明名称光扩散元件(57) 摘要本发明提供。
2、一种光扩散性优异(即,具有较高的浊度)而且外观不均较少的光扩散元件。本发明的光扩散元件具有:基材膜及设置在该基材膜的一面的光扩散膜,该光扩散膜的浊度值为75以上,该光扩散膜包含氟系表面活性剂,该氟系表面活性剂偏在于该光扩散膜中的与该基材膜相反侧的面,该氟系表面活性剂包含选自由下述通式(I)所表示的结构单元、下述通式(II)所表示的结构单元及下述通式(III)所表示的结构单元所组成的组的至少1种结构单元;化1,-O-CF2-O-(III),通式(I)中,m是110的整数,通式(II)中,n是210的整数。(30)优先权数据(85)PCT申请进入国家阶段日2013.03.15(86)PCT申请的申。
3、请数据PCT/JP2011/071234 2011.09.16(87)PCT申请的公布数据WO2012/036275 JA 2012.03.22(51)Int.Cl.权利要求书1页 说明书17页 附图4页(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请权利要求书1页 说明书17页 附图4页(10)申请公布号 CN 103109215 ACN 103109215 A1/1页21.一种光扩散元件,其具有:基材膜及设置于该基材膜的一个面的光扩散膜,该光扩散膜的浊度值为75以上,该光扩散膜含有氟系表面活性剂,该氟系表面活性剂偏在于该光扩散膜中的与该基材膜相反侧的面,该氟系表面活性剂包含选自由下。
4、述通式(I)所表示的结构单元、下述通式(II)所表示的结构单元及下述通式(III)所表示的结构单元所组成的组中的至少1种结构单元;化1-O-CF2-O-(III)通式(I)中,m是110的整数,通式(II)中,n是210的整数。2.如权利要求1所述的光扩散元件,其中,所述氟系表面活性剂含有所述通式(III)所表示的结构单元。3.如权利要求1或2所述的光扩散元件,其中,所述光扩散膜中的所述氟系表面活性剂的含有比例为0.05重量3重量。4.如权利要求13中任意一项所述的光扩散元件,其中,所述光扩散膜具有基质及分散在该基质中的光扩散性微粒,在该基质与该光扩散性微粒的界面附近形成有折射率实质上连续变化。
5、的折射率调制区域,该基质包含树脂成分及超微粒成分,该折射率调制区域是基于该基质中的该超微粒成分的分散浓度的实质性梯度形成。5.如权利要求4所述的光扩散元件,其中,所述超微粒成分的配合量是相对于基质100重量份为20重量份80重量份。权 利 要 求 书CN 103109215 A1/17页3光扩散元件技术领域0001 本发明涉及一种光扩散元件。背景技术0002 光扩散元件广泛用于照明罩、投影电视的屏幕、面发光装置(例如,液晶显示装置)等。近年来,正推进将光扩散元件用于液晶显示装置等的显示质量的提高、视角特性的改善等。业界要求这样的光扩散元件具有较强的光扩散性且后向散射较少。作为增强光扩散性的方法。
6、,可列举提高外部浊度或内部浊度的方法。0003 作为提高外部浊度的方法,通常在光扩散元件表面设置凹凸。然而,这样的方法存在如下问题:凹凸面中倾斜较大部分的界面上的全反射会引起对比率的下降。因此,液晶显示装置中所使用的光扩散元件优选提高内部浊度。0004 作为内部浊度较高的光扩散元件,提出有将微粒分散在树脂片材等的基质中而成的光扩散元件(例如参照专利文献1)。在这种光扩散元件中,微粒与基质的折射率差越大,内部浊度变得越高,光扩散性变得越强。然而,随着该折射率差的增加,光扩散元件的外观变白,即便膜厚不均非常小,也容易认作外观不均。即,在以往的光扩散元件中,越是增强光扩散性,则受到膜厚不均的影响而越。
7、容易产生外观不均。因此,为了外观良好地获得强扩散性的光扩散元件,必须严密地控制膜厚。然而,以不产生外观不均的方式严密地控制膜厚而大量生产具有对液晶显示装置要求的强扩散性的光扩散元件(例如,微粒与基质的折射率差较大的光扩散元件)较困难。0005 以往技术文献0006 专利文献0007 专利文献1日本专利第3071538号发明内容0008 本发明正是为了解决上述以往的课题而完成的发明,其目的在于,提供一种光扩散性优异(即,具有较高的浊度)而且外观不均较少的光扩散元件。0009 解决问题的技术手段0010 本发明的光扩散元件具有基材膜及设置在该基材膜的一面的光扩散膜,该光扩散膜的浊度值为75以上,该。
8、光扩散膜包含氟系表面活性剂,该氟系表面活性剂偏在于该光扩散膜中的与该基材膜相反侧的面,该氟系表面活性剂包含选自由下述通式(I)所表示的结构单元、下述通式(II)所表示的结构单元及下述通式(III)所表示的结构单元所组成的组的至少1种结构单元;0011 化10012 说 明 书CN 103109215 A2/17页40013 -O-CF2-O- (III)0014 通式(I)中,m是110的整数,通式(II)中,n是210的整数。0015 在优选的实施方式中,上述氟系表面活性剂包含以上述通式(III)所表示的结构单元。0016 在优选的实施方式中,上述光扩散膜中的上述氟系表面活性剂的含有比例为0。
9、.05重量3重量。0017 在优选的实施方式中,上述光扩散膜具有基质及分散在该基质中的光扩散性微粒,在该基质与该光扩散性微粒的界面附近形成折射率实质上连续变化的折射率调制区域,该基质包含树脂成分及超微粒成分,该折射率调制区域是基于该基质中的该超微粒成分的分散浓度的实质性梯度而形成。0018 在优选的实施方式中,上述超微粒成分的配合量是相对于基质100重量份,为20重量份80重量份。0019 发明的效果0020 根据本发明,通过具有包含特定氟系表面活性剂的光扩散膜,而可提供一种外观不均较少且浊度较高的光扩散元件。附图说明0021 图1是本发明的优选实施方式的光扩散元件的概略剖面图。0022 图2。
10、A是用于说明本发明中所使用的光扩散膜中的基质中的光扩散性微粒的分散状态的模式图。0023 图2B是将图2A的光扩散膜的光扩散性微粒附近放大进行说明的模式图。0024 图3是用于说明图2A的光扩散元件中的从光扩散性微粒中心部至基质为止的折射率变化的概念图。0025 图4是用于说明基质中的超微粒成分的面积比率的透过型电子显微镜图像。0026 图5(a)是用于说明基质的平均折射率nM光扩散性微粒的折射率nP时的后向散射产生机理的概念图,(b)是用于说明nMnP时的后向散射产生机理的概念图。0027 图6是用于说明算出光扩散半值角的方法的模式图。0028 图7(a)是实施例2的亮度测定图像,(b)是比。
11、较例2的亮度测定图像。0029 图8是表示实施例1的氟系表面活性剂在光扩散膜剖面上的分布的图。具体实施方式0030 A.光扩散元件的整体构成0031 图1是本发明的优选实施方式的光扩散元件的概略剖面图。光扩散元件100具有基材膜110及设置于基材膜110的至少一面的光扩散膜120。基材膜110与光扩散膜120是借助任意适当的胶粘剂层或粘合剂层而粘贴。说 明 书CN 103109215 A3/17页50032 本发明的光扩散元件的厚度优选为25m100m,进而优选为30m70m,特别优选为40m60m。若为这样的较薄的厚度,则即便弯曲也不会破裂,故而可以以卷筒状进行保管。此外,如下所述,本发明的。
12、光扩散元件的光扩散膜可通过涂敷而形成,因此例如可利用所谓卷对卷连续进行光扩散元件的制造及向其他部件(例如,液晶显示装置中的偏振板)的贴合。因此,本发明的光扩散元件的生产性格外优异于以往,且与如偏振板之类的其他光学部件的贴合的制造效率也极高。需要说明的是,所谓卷对卷是指将长条状膜彼此一面由辊搬送,一面对齐其长度方向连续贴合的方法。0033 本发明的光扩散元件的浊度值优选为75以上,进而优选为9099.9,特别优选为9599.9。0034 B.基材膜0035 作为上述基材膜,只要获得本发明的效果,便可采用任意适当的膜。作为具体例,可列举三乙酰纤维素(TAC)膜、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜、聚丙。
13、烯(PP)膜、尼龙膜、丙烯酸系膜、内酯改性丙烯酸系膜等。对上述基材膜也可根据需要进行易粘接处理等表面改性,也可包含润滑剂、抗静电剂、紫外线吸收剂等添加剂。0036 上述基材膜的厚度优选为20m80m,进而优选为30m60m。0037 上述基材膜优选为透明。具体而言,上述基材膜的总光线透过率优选为80以上,进而优选为90以上,特别优选为95以上。0038 C.光扩散膜0039 C-1.光扩散膜的概要0040 上述光扩散膜包含氟系表面活性剂。该氟系表面活性剂偏在于上述光扩散膜中的与上述基材膜相反侧的面。0041 上述光扩散膜具有基质及分散在该基质中的光扩散性微粒。上述光扩散膜是由基质与光扩散性微粒。
14、的折射率差来表现光扩散功能。优选在基质与光扩散性微粒的界面附近形成有折射率调制区域。因此,基质具有与光扩散性微粒的界面附近的折射率调制区域及该折射率调制区域的外侧(远离光扩散性微粒的一侧)的折射率恒定区域。优选基质中的除折射率调制区域以外的部分实质上为折射率恒定区域。在本说明书中,所谓“基质与光扩散性微粒的界面附近”包括光扩散性微粒表面、表面附近的外部及表面附近的内部。在折射率调制区域中,折射率实质上连续变化。在本说明书中,所谓“折射率实质上连续变化”是指折射率调制区域中折射率至少从光扩散性微粒表面至折射率恒定区域为止实质上连续变化即可。因此,例如光扩散性微粒与折射率调制区域的界面及/或折射率。
15、调制区域与折射率恒定区域的界面上,即便存在规定范围内(例如,折射率差为0.05以下)的折射率间隙(refractive index gap),该间隙也可以被允许。0042 图2A是用于说明本发明中所使用的光扩散膜中的氟系表面活性剂的偏在状态及基质中的光扩散性微粒的分散状态的模式图,图2B是将图2A的光扩散膜的光扩散微粒附近放大进行说明的模式图。基质优选包含树脂成分及超微粒成分。图2A的光扩散膜120具有氟系表面活性剂10、包含树脂成分21及超微粒成分22的基质20、以及分散在基质20中的光扩散性微粒30。0043 如图2A所示,氟系表面活性剂10偏在于光扩散膜120中的与基材膜110相反侧的面。
16、(以下,也称作光扩散膜表面)。需要说明的是,在图示例中,方便起见表示全部氟系表说 明 书CN 103109215 A4/17页6面活性剂10聚集于光扩散膜表面的状态,但在本说明书中,所谓氟系表面活性剂偏在于光扩散膜表面的概念也包括即便氟系表面活性剂存在于光扩散膜表面以外,光扩散膜表面中的相对浓度也较大的情形。0044 光扩散膜120是由将包含氟系表面活性剂10的涂敷液涂布于基材膜110上,随后进行干燥而获得。若光扩散膜120包含可偏在于光扩散膜表面的氟系表面活性剂10,则上述干燥工序中的涂布膜成为表面由氟系表面活性剂的薄层覆盖的状态。这样的状态的涂布膜的表面张力较低,且干燥时的涂敷液的溶剂蒸发。
17、速度缓慢。因此,可减少以干燥时的加热不均(例如,烘箱内的热不均、由于膜搬送所产生的风(伴随流)的应用不均)为要因所产生的涂布膜中的表面张力差,故而可抑制涂布膜内的热对流的产生。其结果,经由这样的干燥所得的光扩散膜,膜厚不均较小,如上所述膜厚精度优异。获得这样的效果的氟系表面活性剂10的偏在,可通过使用具有醚键的氟系表面活性剂(氟系表面活性剂的结构的详细情况将于下文中进行叙述)作为氟系表面活性剂10而获得。0045 优选如图2A所示,在基质20与光扩散性微粒30的界面附近形成有折射率调制区域40。在折射率调制区域40中,如上所述折射率实质上连续变化。0046 优选光扩散膜120满足下述式(1)及。
18、(2):0047 n0.10(1)0048 0.0006n/L0.01(2)0049 在这里,n是基质的平均折射率nM与光扩散性微粒的折射率nP之差的绝对值|nM-nP|,L是折射率调制区域的平均厚度。基质的平均折射率nM是树脂成分的折射率与超微粒成分的折射率的加权平均。n优选为0.12以上。n的上限优选为0.20。若n低于0.10,则浊度成为90以下的情形较多,其结果,装配到液晶显示装置的情形时无法使来自光源的光充分地扩散,故而有视角变窄的可能。若n超过0.20,则有后向散射增大的可能。另外,有时基质的树脂成分及超微粒成分的选择变得困难。进而优选为nMnP。n/L(nm-1)优选为0.000。
19、80.008,进而优选为0.00100.007。可实现这样的n/L的折射率调制区域的平均厚度L优选为5nm500nm,更优选为12nm400nm,进而优选为15nm300nm。若平均厚度L低于5nm,则有时后向散射增大。若平均厚度L超过500nm,则有时扩散性不充分。如此,在本发明中所使用的光扩散膜中,可形成尽管折射率调制区域的平均厚度L非常薄但n较大(即,n/L格外较大)的折射率调制区域。而且,如上所述,在本发明中所使用的光扩散膜中,可在折射率调制区域中使折射率实质上连续变化。通过这些的协同作用,根据本发明中所使用的光扩散膜,可实现浊度值较高、具有较强的扩散性且后向散射受到抑制的薄膜的光扩散。
20、膜。0050 如上所述,在折射率调制区域40中,折射率实质上连续变化。优选除此以外上述折射率调制区域的最外部的折射率与上述折射率恒定区域的折射率实质上相同。换言之,在上述光扩散膜中,折射率从折射率调制区域向折射率恒定区域连续变化,优选折射率从光扩散性微粒向折射率恒定区域连续变化(图3)。优选该折射率变化如图3所示般平稳。即,在折射率调制区域与折射率恒定区域的边界,以能在折射率变化曲线上引出切线的形状产生变化。优选在折射率调制区域中,折射率变化的梯度会随着远离上述光扩散性微粒而变大。根据本发明中所使用的光扩散膜,如后所述适当地选择光扩散性微粒、基质的树脂成分及超微粒成分,由此可实现实质上连续的折。
21、射率变化。其结果,即便增大基质20(实质说 明 书CN 103109215 A5/17页7上为折射率恒定区域)与光扩散性微粒30的折射率差,也可抑制基质20与光扩散性微粒30的界面的反射,故而可抑制后向散射。进而,在折射率恒定区域中,折射率与光扩散性微粒30有较大不同的超微粒成分22的重量浓度相对提高,因此可增大基质20(实质上为折射率恒定区域)与光扩散性微粒30的折射率差。其结果,即便是薄膜,也可实现较高的浊度(较强的扩散性)。因此,根据上述光扩散膜,形成n/L非常大且折射率实质上连续变化的折射率调制区域,由此可实现高浊度,并且显著抑制后向散射。0051 优选上述光扩散膜120满足式(3):。
22、0052 0.01L/rP1.0(3)0053 在这里,rP是上述光扩散性微粒的半径。L/rP优选为0.020.90。根据本发明中所使用的光扩散膜,如上所述可使折射率调制区域的平均厚度L变得非常薄,因此可使L/rP变得非常小。其结果,可充分维持上述光扩散性微粒的散射能力,并且可良好地抑制后向散射。因此,即便是薄膜,也可实现较高的浊度(较强的扩散性)。另外,本发明中所使用的氟系表面活性剂不会偏在或吸附在这种超微粒成分或光扩散性微粒的表面,因此可获得形成上述折射率调制区域且可偏在于光扩散膜表面、膜厚均匀性优异的光扩散膜。0054 上述折射率调制区域40的厚度(从折射率调制区域最内部至折射率调制区域。
23、最外部为止的距离)也可恒定(即,折射率调制区域也可在光扩散性微粒的周围成同心球状扩展),厚度也可因光扩散性微粒表面的位置而不同(例如,也可如金平糖的轮廓形状)。优选折射率调制区域40的厚度因光扩散性微粒表面的位置而不同。若为这样的构成,则折射率调制区域40中可使折射率更平稳地连续变化。上述平均厚度L是折射率调制区域40的厚度因光扩散性微粒表面的位置而不同时的平均厚度,在厚度恒定的情形时,指该厚度。0055 如上所述,基质20优选包含树脂成分21及超微粒成分22。优选上述折射率调制区域40基于基质20中的超微粒成分22的分散浓度的实质性梯度形成。具体而言,在折射率调制区域40中,随着远离光扩散性。
24、微粒30,超微粒成分22的分散浓度(具有代表性的是由重量浓度加以规定)提高(树脂成分21的重量浓度必然降低)。换言之,在折射率调制区域40中的最接近光扩散性微粒30的区域,超微粒成分22以相对低浓度分散,随着远离光扩散性微粒30,超微粒成分22的浓度增大。例如,基于透过型电子显微镜(TEM,Transmission Electron Microscopy)图像的基质20中的超微粒成分22的面积比率,在接近光扩散性微粒30的一侧较小并在接近基质20的一侧较大,该面积比率一面从光扩散性微粒侧向基质侧(折射率恒定区域侧)形成实质性梯度一面产生变化。将表示其代表性分散状态的TEM图像示于图4。在本说明。
25、书中,所谓“基于透过型电子显微镜图像的基质中的超微粒成分的面积比率”,是指包含光扩散性微粒的直径的剖面的透过型电子显微镜图像中,规定范围(规定面积)的基质中所占的超微粒成分的面积的比率。该面积比率对应于超微粒成分的三维分散浓度(实际分散浓度)。例如,若为如上所述的面积比率,则超微粒成分22的分散浓度,其浓度变化的梯度在接近光扩散性微粒30的一侧较小,并在接近折射率恒定区域的一侧较大,在从光扩散微粒侧向折射率恒定区域侧一面形成实质性梯度一面产生变化。换言之,超微粒成分22的分散浓度,其浓度变化的梯度会随着远离光扩散性微粒而变大。该超微粒成分的面积比率可通过任意适当的图像解析软件而求出。需要说明的。
26、是,上述面积比率具有代表性的是对应于超微粒成分的各粒子间的平均最短距离。具体而言,超微粒成分的各粒子间的平均最短距离在折射率调制区域中随着远离光扩散性微粒而缩短,在折说 明 书CN 103109215 A6/17页8射率恒定区域中变得恒定(例如,平均最短距离在光扩散性微粒的最接近区域中为3nm100nm左右,在折射率恒定区域中为1nm20nm)。平均最短距离是将如图4的分散状态的TEM图像进行二值化,例如可利用图像解析软件“A像” (旭化成Engineering公司制造)的重心间距离法算出。如上所述,根据本发明中所使用的光扩散膜,可利用超微粒成分22的分散浓度的实质性梯度而在基质与光扩散性微粒。
27、的界面附近形成折射率调制区域40,因此与利用繁杂的制造方法制造GRIN微粒而使该GRIN微粒分散的情形相比,可以以格外简单的步骤且以格外低的成本来制造光扩散膜。进而,利用超微粒成分的分散浓度的实质性梯度而形成折射率调制区域,由此可使折射率在折射率调制区域40与折射率恒定区域的边界平稳地变化。进而,通过使用折射率与树脂成分及光扩散性微粒有较大不同的超微粒成分,可增大光扩散性微粒与基质(实质上为折射率恒定区域)的折射率差,且使折射率调制区域的折射率梯度陡峭。0056 上述折射率调制区域(实质上如上所述的超微粒成分的分散浓度的实质性梯度)是可通过适当地选择基质的树脂成分及超微粒成分以及光扩散性微粒的。
28、构成材料、以及化学特性及热力学特性而形成。例如,由同系材料(例如有机化合物彼此)构成树脂成分及光扩散性微粒,由与树脂成分及光扩散性微粒不同系的材料(例如无机化合物)构成超微粒成分,由此可良好地形成折射率调制区域。进而优选例如由同系材料中相溶性也较高的材料彼此构成树脂成分及光扩散性微粒。折射率调制区域的厚度及折射率梯度,可通过调整基质的树脂成分及超微粒成分以及光扩散性微粒的化学特性及热力学特性来控制。需要说明的是,在本说明书中,所谓“同系”是指化学结构或特性同等或类似,所谓“不同系”是指除外同系。是否同系可根据基准的选择方法而不同。例如,在以有机或无机为基准的情形时,有机化合物彼此是同系化合物,。
29、有机化合物与无机化合物是不同系的化合物。以聚合物的重复单元为基准的情形时,例如丙烯酸系聚合物与环氧系聚合物尽管彼此是有机化合物,但仍为不同系的化合物,以周期表为基准的情形时,碱金属与过渡金属尽管彼此是无机元素,但仍为不同系的元素。0057 更具体而言,如上所述的超微粒成分的分散浓度的实质性梯度是可通过以下(1)(2)或它们的适当组合而实现:(1)调整基质中的超微粒成分的分散浓度。例如,通过提高超微粒成分的分散浓度,使得超微粒成分彼此的电性排斥增加,结果直至光扩散微粒附近为止有超微粒成分存在,故而可在折射率调制区域中形成陡峭的折射率梯度(折射率调制区域的厚度减小)。(2)调整光扩散性微粒的交联度。
30、。例如,在交联度较低的光扩散性微粒中,由于微粒表面的构成聚合物分子的自由度提高,因此超微粒成分难以靠近。其结果,可在折射率调制区域中形成平缓的折射率梯度(折射率调制区域的厚度增加)。优选通过适当地组合上述(1)与(2),而可实现如上所述的超微粒成分的分散浓度的实质性梯度。例如,使用氧化锆的超微粒成分与PMMA(polymethyl methacrylate,聚甲基丙烯酸甲酯)的光扩散性微粒,将该超微粒成分的分散浓度相对于基质100重量份设定为30重量份70重量份且使用相对于后述树脂成分前体的溶胀度为100200的光扩散性微粒,由此可实现如下的分散浓度梯度:基质20中的超微粒成分22的分散浓度在。
31、接近光扩散性微粒30的一侧较小且在接近折射率恒定区域的一侧较大,并一面从光扩散微粒侧向折射率恒定区域侧形成实质性梯度一面产生变化。进而,可形成厚度因光扩散性微粒表面的位置而不同(例如,如金平糖的轮廓形状)的折射率调制区域。在这里,所谓“溶胀度”是指溶胀状说 明 书CN 103109215 A7/17页9态的粒子的平均粒径相对于溶胀前的粒子的平均粒径的比率。0058 如上所述,在上述光扩散膜120中,优选为nMnP。如在图5(a)及图5(b)中加以比较所示,在nMnP的情形时,与nMnP的情形相比,即便折射率调制区域的折射率梯度陡峭,也可更良好地抑制后向散射。0059 上述光扩散膜的厚度优选为4。
32、m50m,进而优选为4m20m,特别优选为5m15m。0060 上述光扩散膜的厚度精度在100mm100mm的尺寸中,优选为(平均厚度-1.0m)(平均厚度+1.0m),更优选为(平均厚度-0.5m)(平均厚度+0.5m)。若为这样的范围,则即便较大设定基质与光扩散性微粒的折射率差,光扩散膜的外观变白的情形时,也可获得外观不均较少的光扩散膜(结果为外观不均较少的光扩散元件)。0061 上述光扩散膜的外观不均的程度在例如形成本发明的光扩散元件(基材膜+光扩散膜)与以夹持该光扩散元件的方式以交叉尼科尔的状态配置的2张偏振板的层叠体,并从该层叠体的一方的面透过白色光时,可通过此时射出面上的外观不均所。
33、引起的面内亮度的偏差(标准偏差)而进行数值化。该面内亮度的标准偏差优选为1以下,更优选为0.8以下,进而优选为0.10.7。0062 本发明的光扩散膜的扩散特性具有代表性的是由浊度及光扩散半值角来表示。所谓浊度表示光的扩散强度,即入射光的扩散程度。另一方面,所谓光扩散半值角表示扩散光的品质(quality),即所扩散的光的角度范围。在上述光扩散膜的浊度较高的情形时,可充分发挥本发明的效果。上述光扩散膜的浊度值为75以上,优选为7599.9,更优选为8599.9,进而优选为9099.9,特别优选为9599.9。本发明中所使用的光扩散膜具有优异的厚度精度,因此即便是高浊度,外观不均也较少。0063。
34、 上述光扩散膜的扩散特性,若由光扩散半值角来表示,则优选为30以上,进而优选为4090(单侧2045)。0064 C-2.氟系表面活性剂0065 上述氟系表面活性剂10包含选自由下述通式(I)所表示的结构单元、下述通式(II)所表示的结构单元及下述通式(III)所表示的结构单元所组成的组的至少1种结构单元作为疏水性部。氟系表面活性剂10包含这样的结构单元且具有醚键,因此弯曲性较高。这样的氟系表面活性剂10,如上所述容易偏在于光扩散膜表面,且可在光扩散膜表面中有效抑制溶剂蒸发速度。其结果,若使用这样的氟系表面活性剂10,则可严密地控制光扩散膜120的膜厚,故而可获得光扩散性优异而且外观不均较少的。
35、光扩散膜120。0066 化20067 0068 -O-CF2-O-(III)0069 通式(I)中,m优选为110的整数,进而优选为28的整数。通式(II)中,n说 明 书CN 103109215 A8/17页10优选为210的整数,进而优选为48的整数。0070 上述氟系表面活性剂,除了包含以上述通式(I)、(II)或(III)所表示的结构单元以外,也可包含其他结构单元。作为其他结构单元,例如可列举下述通式(IV)(VIII)。0071 化30072 0073 通式(V)中,o优选为210的整数,进而优选为48的整数。通式(VI)中,p优选为210的整数,进而优选为48的整数。通式(VII。
36、)中,q优选为210的整数,进而优选为48的整数。0074 以上述通式(I)、(II)及(III)所表示的结构单元的合计含有比例是相对于构成上述氟系表面活性剂的结构单元的总量,优选为10mol100mol,进而优选为20mol70mol。0075 优选上述氟系表面活性剂具有至少一个由上述通式(III)所表示的结构单元。若使用包含具有这样的结构单元的氟系表面活性剂的涂敷液,则在涂布该涂敷液形成的涂布膜中,氟系表面活性剂的移动变快,故而可使氟系表面活性剂有效偏在于光扩散膜表面。另外,在光扩散膜表面上,可进一步有效抑制溶剂蒸发速度。其结果,可获得光扩散性优异而且外观不均下降的光扩散膜。0076 上述。
37、氟系表面活性剂所具有的醚键数量优选为2以上,进而优选为430,特别优选为620。上述氟系表面活性剂具有多个醚键,由此弯曲性提高。0077 上述氟系表面活性剂具有任意适当的结构单元作为亲水性部。0078 上述氟系表面活性剂的分子量优选为502000,进而优选为1001500。若为这样的范围,则可使较多氟系表面活性剂偏在于光扩散膜表面。0079 上述光扩散膜中的上述氟系表面活性剂的含有比例优选为0.05重量3重量,更优选为0.1重量2.5重量,进而优选为0.2重量1.0重量,特别优选为0.3重量0.8重量。若为这样的范围,则可使较多氟系表面活性剂偏在于光扩散膜表面。0080 C-3.基质说 明 书CN 103109215 A10。